一种用于溅射镀膜的连续供气装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及机械技术领域，且公开了一种用于溅射镀膜的连续供气装置，包括供气装置本体，所述供气装置本体的右端上部固定连接有支板，所述供气装置本体的右端上部通过管道连接有三通阀，所述三通阀的右端上下侧通过管道连接有缓冲壳体，所述缓冲壳体的内腔上下侧左侧固定连接有第一缓冲板，所述第一缓冲板贯穿开有第一通孔，所述缓冲壳体的内腔右侧活动插接有第二缓冲板，所述第二缓冲板的外侧镶嵌有滚珠，所述滚珠的外侧活动插接在缓冲壳体的内侧滑槽的内部，所述第二缓冲板右端中部和缓冲壳体的内腔右端中部之间固定连接有缓冲弹簧。该一种用于溅射镀膜的连续供气装置，通过设备的整体结构，能够使得排出的气体更加平稳稳定。定。定。

【技术实现步骤摘要】
一种用于溅射镀膜的连续供气装置


[0001]本技术涉及机械
，具体为一种用于溅射镀膜的连续供气装置。

技术介绍

[0002]离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极(靶)和阳极(试样)间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。所以说这种形成干涉膜的方法与湃澎霍夫蒸发的方法相似。由于阴极表面被击出的材料主要是中性原子，如果离子碰撞的能量是低的，即在低的加速电压下，击出的原子数目是相当少的，可忽略不计；在高能离子的撞击下，即加速电压超过500V，实际上每个离子能从靶材表面击出一个原子。从靶材表面溅出原子的速度，主要决定于靶材、加速电压，气压和气氛的性质。在试样表面上膜的增长速度，依赖于试样与靶的相对位置以及原子化的速度。溅射原子到达试样上的量，随着试样与靶材间距离平方的增加而降低。当试样的位置靠近和平行于靶的表面时，增长速度达到最大，是100nm/m的数量级，离子溅射镀膜要求试样干燥清洁。为了使试样表面清洁，必要时将试样与阴极换位，利用火花放电清洁表面。然后试样复原，再进行溅射镀膜，可是普通的溅射镀膜的连续供气装置在使用时，供气不够平稳稳定，因此我们提出了一种用于溅射镀膜的连续供气装置。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本技术提供了一种用于溅射镀膜的连续供气装置，能够使得排出的气体更加平稳稳定，解决了现有的针刺机在运行时，供气不够平稳稳定的问题。/>[0004]本技术提供如下技术方案：一种用于溅射镀膜的连续供气装置，包括供气装置本体，所述供气装置本体的右端上部固定连接有支板，所述供气装置本体的右端上部通过管道连接有三通阀，所述三通阀的右端上下侧通过管道连接有缓冲壳体，所述缓冲壳体的内腔上下侧左侧固定连接有第一缓冲板，所述第一缓冲板贯穿开有第一通孔，所述缓冲壳体的内腔右侧活动插接有第二缓冲板，所述第二缓冲板的外侧镶嵌有滚珠，所述滚珠的外侧活动插接在缓冲壳体的内侧滑槽的内部，所述第二缓冲板右端中部和缓冲壳体的内腔右端中部之间固定连接有缓冲弹簧，所述第二缓冲板的左右两侧贯穿开有第二通孔，所述缓冲壳体的右端上下侧均通过单向阀分别固定插接有第一出气管和第二出气管。
[0005]优选的，所述第一缓冲板设有两个，所述第一缓冲板与水平面存在45度的夹角。
[0006]优选的，所述第一通孔设有若干个，所述第一通孔均匀的开在第一缓冲板上。
[0007]优选的，所述第二通孔设有若干个，所述第二通孔左右均匀的开在第二缓冲板上。
[0008]优选的，所述滚珠的外侧壁和滑槽的内侧壁均光滑。
[0009]优选的，所述第一通孔和第二通孔均为圆台状。
[0010]与现有技术对比，本技术具备以下有益效果：
[0011]该一种用于溅射镀膜的连续供气装置，通过设备的整体结构，第一缓冲板能够对进入的气体进行最初缓冲，第一通孔和第二通孔也能够对气体进行缓冲，并且第二缓冲板能够再次缓冲冲击外部进入的气体，并且缓冲弹簧能够缓冲外部的冲击力，从而能够使得排出的气体更加平稳稳定。
附图说明
[0012]图1为本技术主视图；
[0013]图2为本技术缓冲壳体剖视图；
[0014]图3为本技术第二缓冲板右视图。
[0015]图中：1、供气装置本体；2、支板；3、三通阀；4、缓冲壳体；5、第一出气管；6、第二出气管；7、单向阀；8、第一缓冲板；9、第一通孔；10、第二缓冲板；11、滚珠；12、滑槽；13、缓冲弹簧；14、第二通孔。
具体实施方式
[0016]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0017]请参阅图1
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3，本技术公开了一种用于溅射镀膜的连续供气装置，包括供气装置本体1，所述供气装置本体1的右端上部固定连接有支板2，支板2为了支撑连接三通阀3和缓冲壳体4，所述供气装置本体1的右端上部通过管道连接有三通阀3，三通阀3采用市场上现有的三通阀，所述三通阀3的右端上下侧通过管道连接有缓冲壳体4，缓冲壳体4能够使得进入的气体进行缓冲，从而使得排出的气体更加平稳稳定，所述缓冲壳体4的内腔上下侧左侧固定连接有第一缓冲板8，第一缓冲板8能够对进入的气体进行缓冲，所述第一缓冲板8设有两个，所述第一缓冲板8与水平面存在45度的夹角。所述第一缓冲板8贯穿开有第一通孔9，第一通孔9和第二通孔14能够对气体进行缓冲，并且第二缓冲板10能够再次缓冲冲击外部进入的气体，所述第一通孔9和第二通孔14均为圆台状。所述第一通孔9设有若干个，所述第一通孔9均匀的开在第一缓冲板8上。所述缓冲壳体4的内腔右侧活动插接有第二缓冲板10，所述第二缓冲板10的外侧镶嵌有滚珠11，滚珠11和滑槽12能够使得第二缓冲板10左右位移更加稳定和流畅，从而能够大大的减小摩擦力，所述滚珠11的外侧壁和滑槽12的内侧壁均光滑。所述滚珠11的外侧活动插接在缓冲壳体4的内侧滑槽12的内部，所述第二缓冲板10右端中部和缓冲壳体4的内腔右端中部之间固定连接有缓冲弹簧13，缓冲弹簧13能够缓冲外部的冲击力，所述第二缓冲板10的左右两侧贯穿开有第二通孔14，所述第二通孔14设有若干个，所述第二通孔14左右均匀的开在第二缓冲板10上。所述缓冲壳体4的右端上下侧均通过单向阀7分别固定插接有第一出气管5和第二出气管6，第一出气管5和第二出气管6其中一个为备用路线。
[0018]工作时，第一缓冲板8能够对进入的气体进行最初缓冲，第一通孔9和第二通孔14也能够对气体进行缓冲，并且第二缓冲板10能够再次缓冲冲击外部进入的气体，并且缓冲弹簧13能够缓冲外部的冲击力，从而能够使得排出的气体更加平稳稳定，同时第一出气管5
和第二出气管6其中一个为备用路线，滚珠11和滑槽12能够使得第二缓冲板10左右位移更加稳定和流畅，从而能够大大的减小摩擦力。
[0019]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于溅射镀膜的连续供气装置，包括供气装置本体(1)，其特征在于：所述供气装置本体(1)的右端上部固定连接有支板(2)，所述供气装置本体(1)的右端上部通过管道连接有三通阀(3)，所述三通阀(3)的右端上下侧通过管道连接有缓冲壳体(4)，所述缓冲壳体(4)的内腔上下侧左侧固定连接有第一缓冲板(8)，所述第一缓冲板(8)贯穿开有第一通孔(9)，所述缓冲壳体(4)的内腔右侧活动插接有第二缓冲板(10)，所述第二缓冲板(10)的外侧镶嵌有滚珠(11)，所述滚珠(11)的外侧活动插接在缓冲壳体(4)的内侧滑槽(12)的内部，所述第二缓冲板(10)右端中部和缓冲壳体(4)的内腔右端中部之间固定连接有缓冲弹簧(13)，所述第二缓冲板(10)的左右两侧贯穿开有第二通孔(14)，所述缓冲壳体(4)的右端上下侧均通过单向阀(7)分别固定插...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨武，杨志，
申请(专利权)人：江苏信核芯微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：