理论光谱数据的优化方法、系统、电子设备及测量方法技术方案

本发明专利技术提供一种理论光谱数据的优化方法、系统、电子设备及测量方法，优化方法包括：获取一在X、Y方向均具有周期性结构的样品模型；获取样品模型在X、Y方向上的收敛级次对集合；设定收敛级次对组；遍历收敛级次对集合中的收敛级次对组，获取收敛级次对组中每一收敛级次对的去除均方误差；将去除均方误差与第一阈值进行比较，过滤所有小于第一阈值的去除均方误差对应的收敛级次对，形成优化级次对集合；获取优化级次对集合对应的理论光谱数据。本发明专利技术在收敛级次对集合中通过第一阈值过滤去除均方误差较小的收敛级次对，优化后的收敛级次对集合的级次对的个数比原先的收敛级次对集合中级次对的个数少，从而有效提升理论光谱数据的计算效率。计算效率。计算效率。

【技术实现步骤摘要】
理论光谱数据的优化方法、系统、电子设备及测量方法


[0001]本专利技术涉及光学测量领域；具体地，涉及光学关键尺寸测量领域；更具体地，涉及一种理论光谱数据的优化方法、系统、电子设备及测量方法。

技术介绍

[0002]光学关键尺寸测量(Optical Critical Dimension，简写为OCD)技术通过获取样品特定被测区域周期性结构的散射信号以及样品的模型从而估计出样品的具体形貌参数，可以满足在新制程和新技术中实现快速精确测量的需求，并且具有非接触性和非破坏性，广泛应用于半导体制造工业和光学测量中。而光学关键尺寸测量技术，其原理总体可以描述为：先建立与样品的形貌模型相对应的理论光谱数据库，再通过获取样品特定被测区域周期性结构的散射信号与理论光谱数据库的参量进行匹配从而估计出样品的具体形貌参数。在建立与样品的形貌模型相对应的理论光谱数据库过程中，计算理论光谱数据所使用的算法为严格耦合波分析(Rigorous Coupled Wave Analysis，简写为RCWA)算法。RCWA算法的流程是将样品的介电函数，以及样品区域的电磁场的傅里叶级本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种理论光谱数据的优化方法，其特征在于，所述方法包括:获取一在X、Y方向均具有周期性结构的样品模型；获取所述样品模型在所述X、Y方向上的收敛级次对集合；设定非(0,0)且在所述X、Y方向上呈轴对称或者中心对称的收敛级次对为收敛级次对组；基于RCWA算法，遍历所述收敛级次对集合中的所述收敛级次对组，获取所述收敛级次对组中每一收敛级次对的去除均方误差；将所述去除均方误差与第一阈值进行比较，过滤所有小于所述第一阈值的去除均方误差对应的收敛级次对，形成为优化级次对集合；基于RCWA算法，获取优化级次对集合对应的理论光谱数据。2.根据权利要求1所述的理论光谱数据的优化方法，其特征在于，所述收敛级次对集合为对不同光特性参量进行收敛性分析后得到的级次对集合，所述光特性参量包括介电函数、电场和磁场。3.根据权利要求1所述的理论光谱数据的优化方法，其特征在于，所述设定非(0,0)且在所述X、Y方向上呈轴对称或者中心对称的收敛级次对为收敛级次对组，包括：设定收敛级次对组：(m,n)、(
‑
m,n)、(m,
‑
n)和(
‑
m,
‑
n)；其中，所述m和n不同时为0，且
‑
Nx≤m≤Nx,
‑
Ny≤n≤Ny，所述Nx、Ny分别为在X、Y方向上设定的截断级次。4.根据权利要求1所述的理论光谱数据的优化方法，其特征在于，每一所述收敛级次对的去除均方误差为去除所述收敛级次对组中当前的所述收敛级次对或者同时去除当前的收敛级次对及所述收敛级次对组中其他任意一个或多个收敛级次对前后所述收敛级次对集合的理论光谱数据之间的均方误差。5.根据权利要求4所述的理论光谱数据的优化方法，其特征在于，所述基于RCWA算法，遍历所述收敛级次对集合中的所述收敛级次对组，获取所述收敛级次对组中每一收敛级次对的去除均方误差，包括：基于RCWA算法，获取所述收敛级次对集合对应的收敛理论光谱数据；遍历所述收敛级次对集合中的所述收敛级次对组，在所述收敛级次对集合中去除所述收敛级次对组中当前的收敛级次对或者同时去除当前的收敛级次对及所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张晓雷，张厚道，施耀明，
申请(专利权)人：上海精测半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：