【技术实现步骤摘要】
基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置
[0001]本专利技术涉及光学设计、精密测量领域,具体为基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置,使双侧干涉仪系统输出光不影响对被测非透明平面的测量。
技术介绍
[0002]光学干涉测量技术是以光波干涉为物理基础,以光波的波长为计量单位的一种测试方法,在光学加工测量方面发挥了重要作用。干涉测量的基本原理是通过参考光与测量光波前相干叠加,产生黑白相间的干涉图。由于干涉图中包含了参考光与测量光的相位,振幅等信息,因此可以用来检测被测光学元件的面形信息。其中,干涉仪作为光学干涉测量技术中重要的测量仪器,随着光学加工技术,计算机技术等的发展,进一步提升了干涉仪的测量精度和检测速度,对相关领域的发展有着重要意义。
[0003]目前,干涉仪可以针对不同面型、不同口径、不同种类的光学元件进行高精度检测。美国ZYGO公司采用斐索型相移干涉仪并配置相应的测量分析软件,用于对30mm
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100mm常规口径的平面做精密检测,对平面测量精度PV值优于λ/100,球面检测精度优于λ/140,是市 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置,包括光源模块(1)、第一干涉仪主机(3A)和第二干涉仪主机(3B),其特征在于,还包括相干性抑制单元(2);所述的光源模块(1)输出光分为两路,其中一路经过相干性抑制单元(2)输入所述的第一干涉仪主机(3A),另一路输入所述的第二干涉仪主机(3B)。2.根据权利要求1所述的基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置,其特征在于,所述的相干性抑制单元(2)是光纤延长线(2A),所述的光纤延长线(2A)的长度大于所述的光源模块(1)输出光的相干长度。3.根据权利要求1所述的基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置,其特征在于,所述的相干性抑制单元(2)是相位调制器(2B),所述的相位调制器在干涉条纹探测器光积分时间内,以波长的正整数倍改变光路的光程。4.根据权利要求1所述的基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏相宇,唐锋,王向朝,郭福东,冯鹏,陈梦来,
申请(专利权)人:上海精测半导体技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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