微波处理装置制造方法及图纸

微波处理装置具有容纳被加热物的加热室(1)、微波产生部(3，4)、供电部(5)、检测部(6)以及控制部(7)。微波产生部输出具有规定的频带内的频率的微波。供电部将微波辐射至加热室。检测部检测来自加热室的反射电力。控制部以在规定的频带中进行频率扫描的方式控制微波产生部。控制部还根据基于微波的频率、反射电力的量和从加热开始起的经过时间的反射电力的频率特性随时间的变化来控制微波产生部。根据本方式，能够一边对被加热物进行加热一边准确地识别烹调的进展。由此，能够适当地结束烹调。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微波处理装置
本公开涉及具有微波产生部的微波处理装置(Microwavetreatmentdevice)。
技术介绍
以往，已知有根据反射电力的量使半导体振荡器的振荡频率、振荡等级等振荡状态变化的高频加热装置(例如参照专利文献1)。在该现有技术中，欲通过使振荡状态变化来保护放大器免受反射电力的影响。已知有如下的现有技术：在对被加热物进行加热之前，一边扫描频率一边检测反射电力，在反射电力为最小或极小的频率下决定输出的微波的频率(例如参照专利文献2)。通过输出反射电力为最小或极小的频率的微波，来提高电力转换效率，并且防止由反射电力导致的微波产生部的破损。还已知有如下的现有技术：求出微波的入射电力量与反射电力量之差的平均值，当该值达到目标平均值时，使微波加热结束或暂时停止(例如参照专利文献3)。该现有技术基于入射电力量与反射电力量之差的平均值来判定干燥的完成。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开昭56-134491号公报专利文献2：日本特开2008-108491号公报专利文献3：日本特开平1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微波处理装置，其中，所述微波处理装置具有：/n加热室，其构成为收纳被加热物；/n微波产生部，其构成为输出具有规定的频带内的频率的微波；/n供电部，其构成为将所述微波辐射至所述加热室；/n检测部，其构成为检测来自所述加热室的反射电力；以及/n控制部，其构成为，以在所述规定的频带中进行频率扫描的方式控制所述微波产生部，根据基于所述微波的频率、所述反射电力的量和从加热开始起的经过时间的所述反射电力的频率特性随时间的变化，来控制所述微波产生部。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190215 JP 2019-0252931.一种微波处理装置，其中，所述微波处理装置具有：
加热室，其构成为收纳被加热物；
微波产生部，其构成为输出具有规定的频带内的频率的微波；
供电部，其构成为将所述微波辐射至所述加热室；
检测部，其构成为检测来自所述加热室的反射电力；以及
控制部，其构成为，以在所述规定的频带中进行频率扫描的方式控制所述微波产生部，根据基于所述微波的频率、所述反射电力的量和从加热开始起的经...

【专利技术属性】
技术研发人员：大森义治，细川大介，小笠原史太佳，福井干男，吉野浩二，夘野高史，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP