一种多模式显微高光谱成像仪制造技术

本实用新型专利技术专利公开了一种多模式显微高光谱成像仪，包括照明模块及高光谱探测模块；应用落射式照明和透射式照明两种照明方式，将照明光源与探测模块集成至同轴，保证视场范围内照明的均匀性。通过切换照明模式、更换不同类型的光源，多模式显微高光谱成像仪能够实现反射成像、透射成像及荧光探测三种工作模式，对不同特性的样品，如非透明样品、半透明/透明样品及荧光样品进行多模态高光谱成像及探测。

【技术实现步骤摘要】
一种多模式显微高光谱成像仪
本技术涉及一种多模式（反射成像、透射成像、荧光探测）显微高光谱成像仪。
技术介绍
高光谱成像技术因能获取高光谱立方数据集，同时包含待测样品的二维图像信息及一维光谱信息，被广泛应用于环境原位监测、食品安全检测、真伪判断等场景。当高光谱成像技术用于显微探测时，由于高倍显微物镜极短的工作距（亚毫米级），传统的外置光源照明可能导致显微物镜下表面出现阴影，从而无法实现待测表面均匀照明，这将极大影响样品成像及光谱探测的信噪比和准确率。另外，商用式高光谱成像仪大多只能工作于单一探测模式，难以实现不同特性样品的多模式探测。本技术专利考虑到显微探测下高光谱成像可能存在的系统性能不足之处，提出一种多模式显微高光谱成像仪。通过设计落射式照明和透射式照明两种照明方式，将光源集成至与探测光路同轴，保证待测样品所在平面均匀照明，有效避免外置光源带来的阴影等问题。另外，只需切换照明模块，系统即可实现反射式成像、透射式成像及荧光探测，实现对不同特性样品的多模式探测。该套系统结构简单，成本低，有望用于原位微生物探测、工业样品微结构检测等测量领域。
技术实现思路
为克服显微高光谱探测情况下，高倍率显微物镜的短工作距可能造成外置光源在物镜焦平面出现的阴影及照明不均匀，以及当前商用高光谱成像仪探测模式单一等问题，本技术的目的是提供一种多模式显微高光谱成像仪。一种多模式显微高光谱成像仪，包括照明模块及高光谱探测模块；所述的照明模块包括：观察样品吸收特性所用的宽带光源/激发样品特征荧光的蓝紫光源，用于耦合光源的单模光纤，准直光源的准直器，用于会聚准直光的长焦透镜，转折光路的半透半反镜，以及用于准直均匀的显微物镜。照明模块将光源集成至与探测模块同轴，实现待测样品表面均匀照明；所述的高光谱探测模块包括：采集样品表面出射信号的显微物镜，滤除激发光/杂散光的长通滤光片，成像用的成像透镜，线区域选择的狭缝，准直发散光的会聚透镜，分光用的棱镜光栅对，会聚色散信号的管透镜，以及成像用的CMOS相机。高光谱探测模块用于捕获待测样品的二维图像信息及一维光谱信息，实现高光谱成像。对于落射式照明，光源发出宽带光或蓝紫激光，经过单模光纤耦合至准直器后成为准直光斑，通过长焦透镜会聚，同时经过半透半反镜转折光路，最终于显微物镜的后焦面会聚成一点，该点同时可以理解为点光源；从显微物镜后焦点出射的点光源，经过显微物镜后，准直成为平行光，均匀入射到待测样品处，从而实现视场范围内均匀照明，可有效避免阴影的出现；另一方面，被照亮的样品同样位于显微物镜的焦平面，从焦平面处出射的散射光被同一显微物镜捕获，会聚为平行光透过半透半反镜及长通滤光片进入高光谱探测模块，长通滤光片用于滤除激发光和部分杂散光；光信号首先经过成像透镜，会聚到狭缝上，狭缝起到扫描线区域选择的作用，狭缝以外的光将被滤除；经狭缝选择后光信号出射到会聚透镜上，经会聚后平行入射到随后的棱镜光栅对结构中。第一棱镜、光栅、第二棱镜三个光学元件共同作用实现对捕获信号的分光；分散的多波段光信号经过管透镜会聚到CMOS相机上，最终相机像面上将包含展宽的光谱信息，以及狭缝选择的相应线区域的空间信息。在落射式照明的情况下，所述的多模式显微高光谱成像仪能够实现非透明样品的反射式探测及荧光样品的荧光探测。对于透射式照明，光源发出宽带光，经过单模光纤耦合至准直器后成为准直光斑，直接从样品下方入射到待测样品上，透射光经上述同样的信号采集方式，被高光谱探测模块所捕获。在透射式照明的情况下，所述的多模式显微高光谱成像仪能够实现透明/半透明样品的透射式探测。装载待测样品的位移平台能够沿垂直狭缝方向均匀步进移动，直至覆盖整个待测样品平面，实现狭缝所选线区域的线扫描过程。若位移平台具备二维扫描功能，则所述的多模式显微高光谱成像仪有潜力实现更大尺度待测样品的大范围测量。本技术的有益效果：本技术提出落射式照明与透射式照明两种照明方式，实现了照明光与高光谱探测处于同轴，保证探测线区域内待测样品的均匀照明，有效避免了传统高光谱成像仪外置光源可能在显微探测中出现的阴影及照明不均匀等问题。另外，更换光源及照明方式，系统可实现对不同特性样品的不同模式探测，改善了商用高光谱成像仪探测模式单一的不足。显微探测能够保证高空间分辨率，本技术有望应用于原位微生物探测、工业样品微结构检测等测量领域。附图说明图1是本技术专利中多模式显微高光谱成像仪的示意图；所述的照明模块包括：与光源直接连接的单模光纤（1）、准直器（2）、长焦透镜（3）、半透半反镜（4）；所述的高光谱探测模块包括：长通滤光片（5）、显微物镜（6）、位移平台（7）、成像透镜（8）、狭缝（9）、会聚透镜（10）、第一棱镜（11）、光栅（12）、第二棱镜（13）、管透镜（14）、CMOS相机（15）。具体实施方式下面结合附图对本技术做进一步阐述。如图1所示，对于落射式照明，宽带光源/蓝紫光源发出激光，经过单模光纤1耦合至准直器2后成为准直光斑，通过焦距75mm的长焦透镜3会聚，同时经过半透半反镜4转折光路，最终于显微物镜6的后焦面会聚成一点，该点同时可以理解为点光源；从显微物镜6后焦点出射的点光源，经过显微物镜6后，准直成为平行光，均匀入射到位移平台7所装载的待测样品处，从而实现视场范围内均匀照明，有效避免阴影的出现。另一方面，被照亮的样品同样位于显微物镜6的焦平面，从焦平面处样品出射的散射光/荧光被同一显微物镜6捕获，会聚为平行光透过半透半反镜4及450nm长通滤光片5进入高光谱探测模块；首先经过焦距50mm的成像透镜8，会聚到10μm缝宽的狭缝9上，狭缝9起到扫描线区域选择的作用，经狭缝9后光信号出射到焦距50mm的会聚透镜10上，经会聚后平行入射到随后的棱镜光栅对结构中。楔角为10°的第一棱镜11、光栅线对数300lp/mm的光栅12以及楔角为10°的第二棱镜13共同作用实现对捕获信号的分光；分散的多波段光信号经过焦距50mm管透镜14会聚到CMOS相机15上，最终相机相面上将包含展宽的光谱信息，以及狭缝选择的相应线区域的空间信息。在落射式照明的情况下，所述的多模式显微高光谱成像仪能够实现非透明样品的反射式探测及荧光样品的荧光探测。对于透射式照明，宽带光源发出的光经过单模光纤1耦合至准直器2后成为准直光斑，直接从样品下方入射到待测样品上，透射光经上述同样的信号采集方式，被高光谱探测模块所捕获。在透射式照明的情况下，所述的多模式显微高光谱成像仪能够实现透明/半透明样品的透射式探测。装载待测样品的位移平台7能够沿垂直狭缝9方向均匀步进移动，直至覆盖整个待测样品平面，实现狭缝9所选线区域的线扫描过程。若位移平台具备二维扫描功能，则所述的多模式显微高光谱成像仪有潜力实现更大尺度待测样品的大范围测量。在本技术专利的实施案例中，由于照明光源与高光谱探测模块集成至同轴，整个待测平面照明均匀，不存在可能的阴影；故能够更换不同本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多模式显微高光谱成像仪，其特征在于：包括照明模块及高光谱探测模块；所述的照明模块应用落射式照明及透射式照明两种照明方式，将光源集成至与探测模块同轴；所述的高光谱探测模块位于垂直样品的方向，用于捕获焦平面处待测样品的非弹性散射信号，采集二维图像信息及一维光谱信息，实现显微高光谱成像；结合位移平台扫描运动，同时改变照明光源种类及照明方式，能够对大尺度样品实现推扫式多模态显微高光谱探测。/n

【技术特征摘要】
1.一种多模式显微高光谱成像仪，其特征在于：包括照明模块及高光谱探测模块；所述的照明模块应用落射式照明及透射式照明两种照明方式，将光源集成至与探测模块同轴；所述的高光谱探测模块位于垂直样品的方向，用于捕获焦平面处待测样品的非弹性散射信号，采集二维图像信息及一维光谱信息，实现显微高光谱成像；结合位移平台扫描运动，同时改变照明光源种类及照明方式，能够对大尺度样品实现推扫式多模态显微高光谱探测。


2.根据权利要求1所述的一种多模式显微高光谱成像仪，其特征在于：所述的照明模块包括：与光源直接连接的单模光纤（1）、准直器（2）、长焦透镜（3）、半透半反镜（4）；所述的高光谱探测模块包括：长通滤光片（5）、显微物镜（6）、位移平台（7）、成像透镜（8）、狭缝（9）、会聚透镜（10）、第一棱镜（11）、光栅（12）、第二棱镜（13）、管透镜（14）、CMOS相机（15）；所述的照明模块用于将照明光集成至与探测模块同轴，在待测样品表面产生均匀的照明光；所述的高光谱探测模块用于采集样品表面发出的非弹性散射信号，实现高光谱探测；所述的落射式照明：照明光从样品上方向下出射，垂直照射在样品上，反射光被采集；所述的透射式照明：照明光从样品下方向上出射，垂直照射在样品上，透射光被采集。


3.根据权利要求1所述的一种多模式显微高光谱成像仪，其特征在于：所述的落射式照明实现方式：光源经过单模光纤（1）耦合至准直器（2）中，平行出射至长焦透镜（3），同时经过半透半反镜（4）转折光路，最终会...

【专利技术属性】
技术研发人员：何赛灵，徐展鹏，
申请(专利权)人：苏州优函信息科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32