一种真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及镀膜设备技术领域，具体是一种真空镀膜设备，包括真空仓体、底座、扩散泵、旋片泵、罗茨泵等组成。真空仓体置于底座上，通过管道和阀门连接至真空泵；真空仓体内部上方悬挂可放置产品的镀膜盘，镀膜盘上配有手柄以便放取方便；镀膜盘放置于旋转机构上，旋转机构由电机带动旋转；真空室内部装有离子源、电子枪和两套热蒸发源，本实用新型专利技术公开的一种真空镀膜设备，设有转盘连续旋转使基材与镀膜装置可以保持对应位置，确保镀膜均匀，设有分体式的放料架，方便快速更换上料，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备
本技术属于镀膜设备
，尤其涉及一种真空镀膜设备。
技术介绍
薄膜制备过程多采用真空镀膜技术，真空镀膜技术在当前微电子技术和为微构件制备领域中具有举足轻重的地位。真空镀膜技术要依赖真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积，一种是物理气相沉积，即PVD；另一种是化学气相沉积，称为CVD。热蒸发较为简单、应用较多，即利用物质受热后的蒸发或升华将其转化为气态再沉积在基片表面。通常会将蒸镀材料放在蒸镀容器中，让加热器对蒸镀容器加热，使其内的蒸镀材料转化为气态沉积在基片表面，从而达到蒸镀成膜的目的。现有的镀膜设备，镀膜材料的发生装置与基材放置位置不同影响基材的镀膜质量，因此需要一种可以解决这个问题的真空镀膜设备。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术公开的一种真空镀膜设备，设有转盘循环旋转使基材与镀膜装置可以保持对应位置，确保镀膜均匀，设有分体式的放料架，方便快速更换上料，提高生产效率。为了达到上述目的，本技术采用以下技术方案：一种真空镀膜设备，包括真空室、底座、扩散泵、旋片泵和罗茨泵，真空室置于底座上，真空室后部连接阀门和泵组，真空室正面设有门，真空室内部上方设有放料镀膜盘，转盘电机设于真空室外侧顶部，放料镀膜盘的下方设有镀膜蒸发装置，镀膜蒸发装置包括电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器；镀膜辅助装置包括离子源；真空室的后部设置有粗抽阀和前级阀，前级阀位于下方，粗抽阀位于上方，粗抽阀设有第一管道连接至罗茨泵，罗茨泵下方连接旋片泵。进一步的，所述放料镀膜盘整体呈弧形结构，中心为转轴，连接至转盘电机。进一步的，所述放料镀膜盘设有分体式的放料架（镀膜盘），放料架呈扇形结构，围绕放料镀膜盘中心设置，放料架上部设有把手。进一步的，所述放料架为弧形结构。进一步的，所述离子源、电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器环形排布在真空室内底部，并且均位于放料架的正下方，基材旋转到每个装置的正方时，距离保持一致，镀膜效果更均匀。进一步的，所述前级阀的设置由扩散泵连接至第二管道。进一步的，所述第一蒸发器和第二蒸发器均为利用蒸发舟蒸发镀膜材料结构的热蒸发装置。进一步的，所述电子枪内设有蒸发用坩埚，将坩埚里的非镀膜物质用电子束加热及蒸发的装置。进一步的，所述门上开设有观测用玻璃窗口，玻璃窗口内设有滤光玻璃，过滤掉大多数光线，方便作业时工作人员能够不被电子束强光刺眼并能够观测真空室内部。本技术有益效果本技术公开的一种真空镀膜设备，设有转盘连续旋转使基材与镀膜装置可以保持对应位置，确保镀膜均匀，设有分体式的放料架，方便快速更换上料，提高生产效率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1本技术侧视图；图2本技术俯视图；图3本技术真空镀膜室正视图；附图标记说明：底座1、真空室2、门21、玻璃窗口22、放料镀膜盘3、放料架31、转盘旋转电机4、离子源5、电子枪6、第一蒸发器7、第二蒸发器8、粗抽阀9、扩散泵10、前级阀11、第二管道12、第一管道13、罗茨泵14、旋片泵15。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件，下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制，因此，说明书的阐述仅仅是为了说明的目的，因此，本文中技术构思的实践并不唯一限于本文描述的示例实施例和附图中的举例说明，此外附图并不是限制。如图1-3所示：实施例1一种真空镀膜设备，包括底座1、真空室2、扩散泵10、粗抽阀9、罗茨泵14和旋片泵15，真空镀膜室置放于底座1上，真空室2后部连接阀门和泵组，真空室2的前部设有门21，真空室2内部上方设有放料镀膜盘3，转盘电机设于真空室2外侧顶部，放料镀膜盘3的下方设有镀膜蒸发装置和镀膜辅助，镀膜辅助装置包含离子源5，镀膜蒸发装置包括电子枪6、第一蒸发器7和第二蒸发器8，真空室2的后部设置有粗抽阀9和前级阀11，前级阀11位于下方，粗抽阀9位于上方，粗抽阀9设有第一管道13连接至罗茨泵14，罗茨泵14下方连接设置有旋片泵15。所述放料镀膜盘3整体呈弧形结构，中心为转轴，连接至转盘电机。所述放料镀膜盘3设有分体式的放料架31，放料架31呈扇形结构，围绕放料镀膜盘3中心设置，放料架31后部设有把手。所述放料架31为弧形结构。所述离子源5、电子枪6、第一蒸发器7和第二蒸发器8环形排布在真空室2内底部，并且均位于放料架31的正下方，基材旋转到每个装置的正方时，距离保持一致，镀膜效果更均匀。所述扩散泵10设置有前级阀11连接至第二管道12。所述第一蒸发器7和第二蒸发器8均为可安装蒸发舟结构的热蒸发装置。所述电子枪6内设有蒸发镀膜材料用坩埚，将坩埚里的非镀膜物质用电子束加热及蒸发的装置。所述门21上开设有观测用玻璃窗口22，玻璃窗口22内设有滤光玻璃，过滤强光，方便作业时工作人员能够观测真空室2内部。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。需注意的是，本技术中所未详细描述的技术特征，均可以通过任一现有技术实现。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括真空室、底座、扩散泵、旋片泵、罗茨泵等组成，真空室放置于底座上，真空室后部连接管道和真空泵，真空室为前置开门型，前部设有门；真空室内部上方设有放料镀膜盘，转盘电机设于真空室顶部外侧，放料镀膜盘的下方设有镀膜蒸发装置，镀膜蒸发装置包括电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器；镀膜辅助装置有离子源；真空室的后部设置有粗抽阀和前级阀，前级阀位于下方，粗抽位于上方，粗抽阀设有第一管道连接至罗茨泵，罗茨泵下方连接设置有旋片泵。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括真空室、底座、扩散泵、旋片泵、罗茨泵等组成，真空室放置于底座上，真空室后部连接管道和真空泵，真空室为前置开门型，前部设有门；真空室内部上方设有放料镀膜盘，转盘电机设于真空室顶部外侧，放料镀膜盘的下方设有镀膜蒸发装置，镀膜蒸发装置包括电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器；镀膜辅助装置有离子源；真空室的后部设置有粗抽阀和前级阀，前级阀位于下方，粗抽位于上方，粗抽阀设有第一管道连接至罗茨泵，罗茨泵下方连接设置有旋片泵。


2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述放料镀膜盘整体呈弧形结构。


3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述放料镀膜盘设有分体式的放料架，放料架呈扇形结构，围绕放料镀膜盘中心设置，放料盘上部设有把手。

【专利技术属性】
技术研发人员：崔福顺，林城来，南相尽，
申请(专利权)人：东莞法克泰光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44