曝光装置制造方法及图纸

在一部分感光材料中，在时间上分割为多段而进行曝光的情形下，与在时间上连续地进行曝光的情形下相比，实效感光量有时会降低。在使用此种材料进行连接曝光的情形下，在重叠部分与非重叠部分，因实效感光量不同，故存在被转印的图案的线宽或厚度变化的课题。因此，为了解决所述课题，在以由投影光学系统形成的扫描曝光视野重叠多个而对被曝光基板进行扫描曝光的方式构成的曝光装置中，在照明光学系统或投影光学系统设有照度变更构件(10c1、10c2)，所述照度变更构件(10c1、10c2)设定为：与在被曝光基板上重叠地被曝光的重叠部的曝光量相比，在被曝光基板上无重叠地被曝光的非重叠部的曝光量变小。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置
本专利技术涉及一种曝光装置。
技术介绍
作为用于将掩模(mask)上的图案(pattern)原版曝光转印于大型基板的装置，已知一种将掩模及基板相对于投影光学系统相对扫描而进行曝光的扫描(scan)型曝光装置。也已知一种曝光装置，所述曝光装置通过扫描曝光，而曝光视野在扫描方向(扫描方向)扩大，但为了进一步在与扫描方向交叉的方向(非扫描方向)也将曝光视野扩大，而使曝光区域在非扫描方向重叠(overlap)而进行多次扫描曝光。进而，也已知一种如下方法，即在非扫描方向并列包括多个投影光学系统，使多个投影光学系统所曝光的一部分曝光视野重叠同时进行曝光，由此通过一次扫描而将电子电路曝光转印于基板上(例如专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开2016-54230号公报
技术实现思路
根据第一形态，曝光装置包括：投影光学系统；照明光学系统，对所述投影光学系统供给照明光；以及扫描载台，将被曝光基板与所述投影光学系统沿扫描方向相对扫描，且所述扫描载台使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统相对扫描，以使由所述投影光学系统形成的扫描曝光视野重叠多个而对所述被曝光基板进行曝光，所述照明光学系统或所述投影光学系统具有照度变更构件，所述照度变更构件以下述方式而设定，即：在所述曝光中，与在所述被曝光基板上重叠地被曝光的重叠部的曝光量相比，在所述被曝光基板上无重叠地被曝光的非重叠部的曝光量变小。附图说明图1是表示第一实施方式的曝光装置的结构的侧视图。图2是表示第一实施方式的一部分曝光装置的立体图。图3是将第一实施方式的曝光装置的自复眼透镜(fly-eyelens)至掩模放大地表示的立体图。图4是表示第一实施方式的曝光装置的掩模上的视野与基板上的视野的关系的图。图4(a1)、图4(a2)及图4(a3)分别是表示图1中的投影光学系统19c的掩模上的视野、投影光学系统内的视野光圈、基板上的视野的图，图4(b1)、图4(b2)及图4(b3)分别是表示图1中的投影光学系统19b的掩模上的视野、投影光学系统内的视野光圈、基板上的视野的图。图5是表示在第一实施方式的曝光装置对基板进行扫描曝光时，照射至基板上的曝光能量(energy)、及感光材料的实效感光量的一例的图。图5(a)是表示各投影光学系统的基板上的曝光视野的图，图5(b)是表示形成于基板22上的曝光区域的图，图5(c)是表示照射至基板上的累计曝光量的一例的图，图5(d)是表示感光材料的实效感光量的一例的图。图6是自光源侧观察第一实施方式的曝光装置的复眼透镜、遮光构件及遮光构件保持部的图。图7是表示在第一实施方式的曝光装置对基板进行扫描曝光时，照射至基板上的曝光能量、及感光材料的实效感光量的一例的图。图7(a)是表示各投影光学系统的基板上的曝光视野的图，图7(b)是表示照射至基板上的累计曝光量的一例的图，图7(c)是表示感光材料的实效感光量的一例的图。具体实施方式(曝光装置的第一实施方式)图1是表示第一实施方式的曝光装置100的侧视图。如后述那样，曝光装置100包括五个投影光学系统19a～投影光学系统19e，图1仅表示其中的两个即投影光学系统19a、投影光学系统19b。投影光学系统19a～投影光学系统19e为形成投影倍率(横倍率)+1倍的正立图像的光学系统，将描绘于掩模15的图案曝光转印至形成于基板22的上表面的感光材料。基板22通过基板载台27经由未图示的基板保持器(holder)保持。基板载台27通过未图示的线性马达(linearmotor)等，在基板载台平台28上沿X方向进行扫描，且可在Y方向移动。基板载台27的X方向的位置通过激光(laser)干涉计25经由安装于基板载台27的移动镜24的位置而测量。同样地，基板载台27的Y方向的位置也通过未图示的激光干涉计而测量。位置检测光学系统23检测形成于基板22上的对准标记(alignmentmark)等既有图案的位置。掩模15通过掩模载台16而保持。掩模载台16通过未图示的线性马达等，在掩模载台平台17上沿X方向扫描，且可在Y方向移动。掩模载台16的X方向的位置通过激光干涉计14经由安装于掩模载台16的移动镜13的位置而测量。同样地，掩模载台16的Y方向的位置也通过未图示的激光干涉计而测量。未图示的控制系统基于激光干涉计14、激光干涉计25等的测量值，控制未图示的线性马达等，从而控制掩模载台16及基板载台27的XY位置。未图示的控制系统在掩模图案朝基板22的曝光时，使掩模15与基板22在保持通过投影光学系统19a～投影光学系统19e形成的成像关系下，相对于投影光学系统19a～投影光学系统19e相对地沿X方向以大致同一速度而扫描。在本说明书中，将在曝光时，基板22被扫描的方向(X方向)也称为“扫描方向”及“扫描方向”。又，将基板22的面内所含的方向且与X方向正交的方向(Y方向)也称为“非扫描方向”及“非扫描方向”。Z方向为与X方向及Y方向正交的方向。再者，在图1及以下的各图中利用箭头所示的X方向、Y方向、及Z方向，以所述箭头所指示的方向为+方向。图2是表示第一实施方式的曝光装置100的自照明光学系统ILa～照明光学系统ILe的下游部至基板22的部分的立体图。以下，也参照图2继续进行说明。如图2所示那样，五个投影光学系统19a～投影光学系统19e中的3个投影光学系统19a、投影光学系统19c、投影光学系统19e(以下，也总称为或单个地称为“第一列投影光学系统19F”)在Y方向排列地配置。而且，两个投影光学系统19b、投影光学系统19d(以下，也总称为或单个地称为“第二列投影光学系统19R”)，在Y方向排列，且配置于较第一列投影光学系统19F更靠向+X侧。第一列投影光学系统19F的各投影光学系统以其光轴在Y方向隔开规定的间隔而配置。第二列投影光学系统19R的各光学系统也与第一列投影光学系统19F同样地配置。又，投影光学系统19b以其光轴的Y方向的位置与将投影光学系统19a与投影光学系统19c各自的光轴加以连接而成的直线的大致中心一致的方式配置。又，投影光学系统19d也与投影光学系统19b同样地配置。第一实施方式的曝光装置100与各投影光学系统19a～投影光学系统19e各者相对应，而包括多个照明光学系统ILa～照明光学系统ILe。作为一例，而如图1所示那样，与投影光学系统19a相对应的照明光学系统ILa沿着光轴IXa而包括：输入透镜(inputlens)8a、复眼透镜11a、及聚光透镜(condenserlens)12a。其他照明光学系统ILb～照明光学系统ILe也同样地包含：输入透镜8b～输入透镜8e、复眼透镜11b～复眼透镜11e、及聚光透镜12b～聚光透镜12e。再者，如所述那样，在图2中，仅表示各照明光学系统ILa～照明光学系统ILe中的复眼透镜11a～复眼透镜11e、及聚光透镜12a～聚光透镜12e。再者，在侧视本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：/n投影光学系统；/n照明光学系统，对所述投影光学系统供给照明光；以及/n扫描载台，将被曝光基板与所述投影光学系统沿扫描方向相对扫描，且/n所述扫描载台使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统相对扫描，以使由所述投影光学系统形成的扫描曝光视野重叠多个而对所述被曝光基板进行曝光，/n所述照明光学系统或所述投影光学系统具有照度变更构件，所述照度变更构件以下述方式而设定，即：在所述曝光中，与在所述被曝光基板上重叠地被曝光的重叠部的曝光量相比，在所述被曝光基板上无重叠地被曝光的非重叠部的曝光量变小。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190109 JP 2019-0022351.一种曝光装置，其特征在于，包括：
投影光学系统；
照明光学系统，对所述投影光学系统供给照明光；以及
扫描载台，将被曝光基板与所述投影光学系统沿扫描方向相对扫描，且
所述扫描载台使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统相对扫描，以使由所述投影光学系统形成的扫描曝光视野重叠多个而对所述被曝光基板进行曝光，
所述照明光学系统或所述投影光学系统具有照度变更构件，所述照度变更构件以下述方式而设定，即：在所述曝光中，与在所述被曝光基板上重叠地被曝光的重叠部的曝光量相比，在所述被曝光基板上无重叠地被曝光的非重叠部的曝光量变小。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述照明光学系统具有光学积分器，
所述照度变更构件设置于所述光学积分器与所述被曝光基板的共轭面的附近，
将所述照度变更构件设置为使其在与所述照明光学系统的光轴大致正交的方向且与所述扫描方向光学地对应的第一方向移动而能够控制曝光量。


3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，
所述照度变更构件设置于所述照明光学系统的光轴方向上自所述共轭面仅离开规定距离的位置，所述规定距离与所述重叠部的与所述扫描方向正交的非扫描方向的宽度、所述共轭面与所述被曝光基板的横倍率、及所述共轭面内的照明光的开口数相应而决定。


4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述照明光学系统具有复眼透镜，
所述照度变更构件设置于所述被曝光基板的共轭面即所述复眼透镜的入射侧面或较所述入射侧面更靠向光源侧的与所述入射侧面共轭的面的位置、或自所述位置仅离开...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田亮平，井田真高，吉田大辅，野嶋琢己，松桥佑介，渡辺畅章，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP