曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法制造方法及图纸

液晶曝光装置，设有保持基板(P)之基板保持具(34)，具备测量系，该测量系具有在X轴方向彼此分离配置之多个标尺(52)、对标尺照射测量光束且能在Y轴方向移动之多个读头(66x,66y)、以及测量多个读头在Y轴方向之位置信息之测量装置，根据至少三个读头之测量信息与前述测量装置之测量信息，测量基板保持具在水平面内3自由度方向之位置信息，多个读头，在基板保持具往X轴方向之移动中从多个标尺中之一个脱离且移至与该一个标尺相邻之另一标尺，将使用该移转之读头以控制基板保持具之移动之修正信息，根据至少三个读头之测量信息来取得。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法本专利技术为申请日为2016年09月29日，申请号为“201680057223.9”，专利技术名称为“曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法”的专利技术专利的分案申请。
本专利技术系关于曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法，更详言之，系关于用在制造液晶显示组件等微型组件之微影制程之曝光装置及曝光方法、以及使用曝光装置或曝光方法之平面显示器制造方法。
技术介绍
以往，在制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等之电子组件(微型组件)之微影制程中，系使用步进扫描方式之曝光装置(所谓扫描步进机(亦称为扫描机))等，其系一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为「光罩」)与玻璃板或晶圆(以下总称为「基板」)沿着既定扫描方向(SCAN方向)同步移动，一边将形成在以能量光束照明之光罩之图案转印至基板上。作为此种曝光装置，已知有使用基板载台装置所具有之棒反射镜(长条之镜)求出曝光对象基板在水平面内之位置信息的光干涉仪系统者(参照专利文献1)。此处，在使用光干涉仪系统求出基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，透过光学系对物体照射照明光，其具备：/n移动体，配置于前述光学系的下方，保持前述物体；/n驱动系，能在与前述光学系的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向移动前述移动体；/n测量系，具有：格子构件，具有在前述第1方向彼此分离配置的多个格子区域；多个读头，对前述格子构件分别照射测量光束且能在前述第2方向移动；以及测量装置，测量在前述第2方向上的前述多个读头的位置信息，该测量系设置成前述格子构件和前述多个读头中之一方设于前述移动体，且前述格子构件和前述多个读头中之另一方与前述移动体对向，该测量系根据前述多个读头之中的、前述测量光束照射于前述多个格子区域中的至少一个格子区...

【技术特征摘要】
20150930 JP 2015-1948281.一种曝光装置，透过光学系对物体照射照明光，其具备：
移动体，配置于前述光学系的下方，保持前述物体；
驱动系，能在与前述光学系的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向移动前述移动体；
测量系，具有：格子构件，具有在前述第1方向彼此分离配置的多个格子区域；多个读头，对前述格子构件分别照射测量光束且能在前述第2方向移动；以及测量装置，测量在前述第2方向上的前述多个读头的位置信息，该测量系设置成前述格子构件和前述多个读头中之一方设于前述移动体，且前述格子构件和前述多个读头中之另一方与前述移动体对向，该测量系根据前述多个读头之中的、前述测量光束照射于前述多个格子区域中的至少一个格子区域的至少三个读头的测量信息和前述测量装置的测量信息，测量至少在前述既定平面内的3个自由度方向上的前述移动体的位置信息；以及
控制系，根据由前述测量系测量的位置信息，控制前述驱动系；
前述多个读头分别在前述移动体向前述第1方向的移动中，其前述测量光束从前述多个格子区域中之一个格子区域脱离且移至与前述一个格子区域相邻的另一格子区域；
前述控制系根据前述至少三个读头的测量信息或使用前述至少三个读头测量的前述移动体的位置信息，取得用于使用前述多个读头中的、从前述一个格子区域脱离的前述测量光束移至前述另一格子区域的、与前述至少三个读头不同的读头来控制前述移动体的移动的修正信息。


2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，在由包含前述至少三个读头和前述不同的读头之至少四个读头，分别将前述测量光束照射于包含前述另一格子区域的前述多个格子区域之至少一个的期间，取得前述修正信息。


3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其中，在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一格子区域的前述多个格子区域之至少一个脱离前，取得前述修正信息。


4.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，前述测量系，在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一格子区域的前述多个格子区域之至少一个脱离前，使用取代前述至少三个读头之一个而包含已取得前述修正信息的前述不同的读头的至少三个读头来测量前述移动体的位置信息。


5.如权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，前述控制系，在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一格子区域的前述多个格子区域之至少一个脱离前，将使用前述至少三个读头的前述移动体的移动控制，切换成使用取代前述至少三个读头之一个而包含已取得前述修正信息的前述不同的读头的至少三个读头的前述移动体的移动控制。


6.如权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，前述格子构件，具有在前述第2方向上位置与前述多个格子区域不同且在前述第1方向彼此分离配置的与前述多个格子区域不同的多个格子区域；
在前述移动体的位置信息的测量中，取代前述测量光束照射于前述不同的多个格子区域的至少一个且前述测量光束照射于前述多个格子区域的至少一个的前述至少三个读头中的至少一个，而使用前述多个读头中的至少一个。


7.一种曝光装置，透过光学系对物体照射照明光，其具备：
移动体，配置于前述光学系的下方，保持前述物体；
驱动系，能在与前述光学系的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向移动前述移动体；
测量系，具有：格子构件，具有在前述第1方向彼此分离配置的多个第1格子区域及在前述第2方向上与前述多个第1格子区域不同的位置于前述第1方向彼此分离配置的多个第2格子区域；多个读头，对前述格子构件分别照射测量光束且能在前述第2方向移动；以及测量装置，测量在前述第2方向上的前述多个读头的位置信息，该测量系设置成前述格子构件和前述多个读头中之一方设于前述移动体，且前述格子构件和前述多个读头中之另一方与前述移动体对向，该测量系根据前述多个读头中的、前述测量光束照射于前述多个第1格子区域及第2格子区域中的至少两个格子区域的至少三个读头的测量信息和前述测量装置的测量信息，测量至少在前述既定平面内的3个自由度方向上的前述移动体的位置信息；以及
控制系，根据由前述测量系测量的位置信息，控制前述驱动系；
前述多个读头分别在前述移动体向前述第1方向的移动中，其前述测量光束从前述多个第1格子区域及第2格子区域中之一个格子区域脱离且移至与前述一个第1格子区域或第2格子区域相邻之另一第1格子区域或第2格子区域；
前述控制系根据前述至少三个读头的测量信息或使用前述至少三个读头测量的前述移动体的位置信息，取得用于使用前述多个读头中的、从前述一个第1格子区域或第2格子区域脱离的前述测量光束移至前述另一第1格子区域或第2格子区域的、与前述至少三个读头不同的读头来控制前述移动体的移动的修正信息。


8.如权利要求7所述的曝光装置，其中，在由包含前述至少三个读头和前述不同的读头之至少四个读头，分别将前述测量光束照射于包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个的期间，取得前述修正信息。


9.如权利要求7或8所述的曝光装置，其中，在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个脱离前，取得前述修正信息。


10.如权利要求7至9中任一项所述的曝光装置，其中，前述测量系，在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个脱离前，使用取代前述至少三个读头之一个而包含已取得前述修正信息的前述不同的读头的至少三个读头来测量前述移动体的位置信息。


11.如权利要求7至10中任一项所述的曝光装置，其中，前述控制系，在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个脱离前，将使用前述至少三个读头的前述移动体的移动控制，切换成使用取代前述至少三个读头之一个而包含已取得前述修正信息的前述不同的读头的至少三个读头的前述移动体的移动控制。


12.如权利要求7至11中任一项所述的曝光装置，其中，前述至少三个读头，包含对前述多个第1格子区域之至少一个照射前述测量光束的至少一个读头、以及对前述多个第2格子区域之至少一个照射前述测量光束的至少两个读头。


13.如权利要求12所述的曝光装置，其中，前述测量系，具有移动对前述多个第1格子区域之至少一个照射前述测量光束的前述至少一个读头的第1驱动部、以及移动对前述多个第2格子区域之至少一个照射前述测量光束的前述至少两个读头的第2驱动部；
前述控制系，控制前述第1驱动部、第2驱动部，使至少在前述照明光对前述物体的照射中，前述至少三个读头分别在前述第2方向不将前述测量光束从前述多个第1格子区域及第2格子区域脱离。


14.如权利要求7至13中任一项所述的曝光装置，其中，前述多个读头，包含在前述第1方向以比前述多个第1格子...

【专利技术属性】
技术研发人员：下山隆司，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP