防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品制造方法及图纸

提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品
本专利技术涉及防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品。
技术介绍
在液晶显示装置、有机EL显示装置、微型LED显示装置等显示装置、展示柜等中，为了改善可见性，已知在装置表面设置防反射构件。近年来，除了电视机等以外，车载导航等车载用显示器、平板电脑、智能手机等使用者直接用手接触屏幕进行操作的触控面板式的图像显示装置也正在普及，它们也设有防反射构件。作为制作防反射构件的方法，已知：在设置于透明基材上的硬涂层上，通过溅射法等干式成膜层积折射率不同的无机薄膜作为抗反射层的方法；在硬涂层上涂布含有微粒的树脂而形成抗反射层的方法；等。通常，与形成无机薄膜的情况相比，形成有树脂层的防反射构件具有斜向反射色调的变化小、化学稳定性(特别是耐碱性)优异、成本低的优点。另一方面，与形成无机薄膜的情况相比，形成有树脂层的防反射构件具有耐擦伤性等机械特性差、反射率也提高的倾向。针对这种课题，例如在专利文献1和专利文献2中，使低折射率层含有二氧化硅等中空状无机纳米颗粒和实心状无机纳米颗粒。此外，使实心状无机纳米颗粒偏在于与硬膜的界面侧，并且使中空状无机纳米颗粒偏在于该界面的相反侧。这样，能够兼顾高的抗划伤性(耐擦伤性)和低反射率。在专利文献3中公开了下述内容：使低折射率层中的活性二氧化硅微粒偏在于硬涂层侧的界面和/或与硬涂层相反侧的界面，形成在低折射率层中密集地填充有中空状二氧化硅微粒的状态，由此提高表面硬度(耐擦伤性)。在专利文献4中公开了下述内容：在光学基材上形成防反射膜，该防反射膜在以活性硅烷类为主要成分的粘结剂中分散有中空二氧化硅微粒和微细二氧化硅颗粒。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2018-533068号公报专利文献2：日本特表2018-533762号公报专利文献3：日本专利第6011527号公报专利文献4：日本特开2007-078711号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是，即使如上述专利文献那样在低折射率层中添加二氧化硅微粒，形成有树脂层的防反射构件的耐钢丝绒性也有限，与通过溅射等公知的干式成膜得到的无机薄膜相比，依然存在耐擦伤性差的课题。另外，特别是，若将形成有树脂层的防反射构件适用于触控面板式的图像显示装置，则存在仅利用使用者的手指进行操作就可能使表面产生划痕的问题。另外，如专利文献4那样，在使用由活性硅烷类构成的粘结剂形成了防反射膜的情况下，存在无法获得充分的耐擦伤性的问题。鉴于上述课题，本专利技术的目的在于提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品。用于解决课题的手段本专利技术人发现，即使仅用微细的固体物质(例如沙)或仅用油分摩擦树脂层表面，无法确认到划痕，通过用附着有包含固体物质的油分的物体来摩擦树脂层表面，树脂层表面也会产生划痕。这相当于例如使用者用附着有化妆品和食品等中包含的油分与大气中包含的沙的手指来操作触控面板式的图像显示装置。本专利技术人研究的结果发现，上述划痕主要是由于低折射率层中包含的中空二氧化硅颗粒的一部分缺损、或中空二氧化硅颗粒脱落而产生的。作为其原因，认为是在低折射率层的表面形成的中空二氧化硅颗粒引起的凹凸大。即，若用附着有包含沙等固体物质的油分的手指摩擦低折射率层表面，则油分成为粘结剂，固体成分附着在手指上，在该状态下手指在低折射率层表面移动。此时，容易产生固体物质的一部分(例如沙的尖部)进入低折射率层表面的凹部的现象、以及进入了凹部的固体物质与手指一起穿过凹部并越过凸部(中空二氧化硅颗粒)的现象，此时对凸部(中空二氧化硅颗粒)施加很大的力，因此认为中空二氧化硅颗粒会损伤或脱落。另外，认为位于凹部的树脂本身也会因固体物质的摩擦受到损伤，由于损伤而更容易使中空二氧化硅颗粒脱落。因此，本专利技术人对解决上述问题的方法进行了深入研究，可以获得低折射率层表面平滑、具有低反射率、进而高耐擦伤性等表面耐性优异的防反射构件，由此完成了本专利技术。为了解决上述课题，本专利技术提供下述[1]～[11]。[1]一种防反射构件，其为在透明基材上具备低折射率层的防反射构件，其中，该低折射率层包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒，通过X射线光电子能谱对上述低折射率层的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。[2]如[1]所述的防反射构件，其中，上述二氧化硅颗粒为中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒。[3]如[2]所述的防反射构件，其中，上述非中空二氧化硅颗粒的平均粒径相对于上述中空二氧化硅颗粒的平均粒径之比为0.29以下。[4]如[2]或[3]所述的防反射构件，其中，上述中空二氧化硅颗粒的平均粒径为50nm以上100nm以下，上述非中空二氧化硅颗粒的平均粒径为5nm以上20nm以下。[5]如[2]～[4]中任一项所述的防反射构件，其中，上述中空二氧化硅颗粒和上述非中空二氧化硅颗粒的表面被硅烷偶联剂被覆。[6]如[1]所述的防反射构件，其中，上述低折射率层的表面区域实质上不含有氟原子。[7]如[1]～[6]中任一项所述的防反射构件，其中，利用纳米压痕法测得的上述低折射率层的压痕硬度为480MPa以上。[8]如[1]～[7]中任一项所述的防反射构件，其中，利用纳米压痕法测得的上述低折射率层的复原率为80％以上。[9]如[1]～[8]中任一项所述的防反射构件，其中，将上述低折射率层表面的轮廓最大高度定义为Rz，将上述低折射率层表面的算术平均粗糙度定义为Ra时，Rz/Ra为22.0以下。[10]一种偏振片，其为依次具有透明保护板、偏振元件和透明保护板的偏振片，其中，上述两张透明保护板中的至少一者为[1]～[9]中任一项所述的防反射构件。[11]一种图像显示装置，其是在显示元件上具有[1]～[9]中任一项所述的防反射构件而成的。[12]一种防反射性物品，其是在构件上具有[1]～[9]中任一项所述的防反射构件而成的。专利技术的效果根据本专利技术，能够得到一种具有低反射率、并且耐擦伤性等表面耐性优异的防反射构件。附图说明图1是示意性地说明本专利技术的防反射构件的一个实施方式的截面示意图。图2是示意性地说明本专利技术的防反射构件的另一实施方式的截面示意图。图3是实施例1中的低折射率层的截面图像。图4是比较例2中的低折射率层的截面图像。图5是比较例5中的低折射率层的截面图像。具体实施方式下面详细地说明本专利技术的防反射构件。需要说明的是，本说明书中的“AA～BB”的数值范围的记载是指为“AA以上BB以下”。[防反射构件]<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防反射构件，其为在透明基材上具备低折射率层的防反射构件，其中，/n该低折射率层包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒，/n通过X射线光电子能谱对所述低折射率层的表面区域进行分析而得到的属于所述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将所述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190110 JP 2019-002904;20190329 JP 2019-0677311.一种防反射构件，其为在透明基材上具备低折射率层的防反射构件，其中，
该低折射率层包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒，
通过X射线光电子能谱对所述低折射率层的表面区域进行分析而得到的属于所述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将所述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。


2.如权利要求1所述的防反射构件，其中，所述二氧化硅颗粒为中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒。


3.如权利要求2所述的防反射构件，其中，所述非中空二氧化硅颗粒的平均粒径相对于所述中空二氧化硅颗粒的平均粒径之比为0.29以下。


4.如权利要求2或权利要求3所述的防反射构件，其中，所述中空二氧化硅颗粒的平均粒径为50nm以上100nm以下，所述非中空二氧化硅颗粒的平均粒径为5nm以上20nm以下。


5.如权利要求2至权利要求4中任一项所述的防反射构件，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：小堺达也，堀尾智之，竹井理哲，渡边治，远藤圭介，唯木隆伸，水野基央，鹫尾淳司，岩原惠太，铃木翔，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP