一种图案化润湿差异表面、碱刻蚀制备方法及应用技术

本发明专利技术公开了一种图案化润湿差异表面、碱刻蚀制备方法及应用，包括以下步骤：步骤1：使用预处理剂在高分子表面绘制设计的图案，得到预图案化表面；步骤2：使用碱液处理步骤1得到的预图案化表面，进行局部刻蚀，洗涤干燥后即可得到所需图案化润湿差异表面。本发明专利技术基于高分子在碱液中的降解行为，高分子材料在降解过程中会发生化学基团或形貌上的变化，从而实现表面润湿性调控；利用预处理剂与碱液亲和性，诱导碱液在预图案区域快速浸润表面，促进碱液与材料比表面充分接触，加速预图案区域降解，使得预图案区域与周围区域降解成都不同形成差异化刻蚀，从而制备得到图案化润湿差异，方法简单易行、绿色环保，无需昂贵设备与耗材。

【技术实现步骤摘要】
一种图案化润湿差异表面、碱刻蚀制备方法及应用
本专利技术涉及高分子材料表面改性
，具体涉及一种图案化润湿差异表面、碱刻蚀制备方法及应用。
技术介绍
近年来，随着多学科交叉研究的不断深入和微精细加工技术的不断发展，以沙漠甲虫为原型的图案化润湿差异表面已被大量制造与应用。图案化润湿差异表面通过精确控制单一表面上的局部可润湿性，展现出独特的性能，如可控润湿、各向异性润湿、定向粘附等特性。因此，图案化润湿差异表面也被广泛应用于各种基础研究和工业应用中，如水汽凝结与收集、热管理、液体操控、细胞培养、打印技术、生物传感等各种领域。图案化润湿差异表面通常通过改变表面的部分化学组成或微观形貌来实现，现有的常见制备方法有光接枝、电化学刻蚀、涂覆法、等离子体处理、光刻、微铣削和激光烧蚀技术等。然而，现有技术多依赖于昂贵的设备和耗材，例如等离子体处理器与飞秒激光技术，设备成本极高，再比如光接枝、光刻等技术制备图案化表面均需要使用光刻胶以及微掩膜等昂贵耗材，限制了可设计的图案的种类丰富度、精度以及样品的大尺寸大规模制备，同时也存在步骤繁琐耗时耗能、易产生本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案化润湿差异表面的碱刻蚀制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤1：使用预处理剂在高分子表面绘制设计的图案，得到预图案化表面；/n步骤2：使用碱液处理步骤1得到的预图案化表面，进行局部刻蚀，洗涤干燥后即可得到所需图案化润湿差异表面。/n

【技术特征摘要】
1.一种图案化润湿差异表面的碱刻蚀制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：使用预处理剂在高分子表面绘制设计的图案，得到预图案化表面；
步骤2：使用碱液处理步骤1得到的预图案化表面，进行局部刻蚀，洗涤干燥后即可得到所需图案化润湿差异表面。


2.根据权利要求1所述的一种图案化润湿差异表面的碱刻蚀制备方法，其特征在于，所述高分子为具有碱降解性能的高分子材料；优选为醋酸纤维素、聚酯类、聚氨酯类、环氧树脂类、酚醛树脂类、脲醛树脂类、密胺树脂类、醇酸-聚酯树脂类、聚乳酸类中的一种或两种及以上以任意比例构成的复合材料。


3.根据权利要求1所述的一种图案化润湿差异表面的碱刻蚀制备方法，其特征在于，所述步骤2中的预处理剂为甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、水溶性染料、水溶性颜料、水溶性树脂、金属氧化物和无机非金属氧化物中的一种或两种及以上以任意比例构成的混合物。


4.根据权利要求1所述的一种图案化润湿差异表面的碱刻蚀制备方法，其特征在于，所述步骤1中的绘制方法采用打印技术、直写技术、沉积技术和手绘中的一种。


5.根据权利要求1所述的一种图案化润湿差异表面的碱刻蚀制备方法，其特征在于，所述步骤2中的碱液处理为滴加碱液、喷涂碱液、刷涂碱液或采用碱液浸...

【专利技术属性】
技术研发人员：王玉忠，冯蕊，宋飞，庄金燕，张潆丹，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：四川;51