一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机制造技术

本发明专利技术公开了一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机，其结构包括混匀机构、顶盖、超声波发生器、出液管，混匀机构顶部设有顶盖，超声波发生器进行振荡，对混匀箱内部的物料进行混匀，通过振荡使得拨动机构对伸缩软管进行挤压，通过喷气孔进行喷射气压，拨板在挤压板外侧进行拨动，将振荡过程中往外侧进行分散的硅胶颗粒往中部进行推移，推板在传导底座外侧进行上下移动，同时超声波发生器产生的振荡通过安装槽进行传导，进入到传导孔内部，这时曝气孔内部的气压发生改变，推动开闭片绕着扭力轴往上进行转动，将曝气孔打开，进行曝气工作，将振荡过程中下落的硅胶颗粒往上进行推起，提高硅胶颗粒全面的分散混匀效果。

【技术实现步骤摘要】
一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机
本专利技术涉及半导体新材料制备领域，更具体地说，尤其是涉及到一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机。
技术介绍
含酚废水处理材料制备时，需要对硅胶颗粒的硅烷化处理：将活化的硅球分散于甲醇溶液中，加入3-氨丙基三乙氧硅烷，接着通过超声波混合机进行混匀后，40-70℃下反应12-24h得到氨基修饰的硅球，抽滤分离，甲醇清洗数次后40-60℃真空干燥备用，但是由于超声波混合机在对硅胶颗粒、甲醇溶液和3-氨丙基三乙氧硅烷进行超声混合时，超声波振动器安装在中部，而硅胶颗粒受到超声波的振荡后容易往外侧进行分散，分散后的硅胶颗粒难以再次靠近超声波振动器，只能在外侧分散，降低了超声波振动器周围的甲醇溶液、3-氨丙基三乙氧硅烷与硅胶颗粒的混匀效果。
技术实现思路
本专利技术实现技术目的所采用的技术方案是：该一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机，其结构包括混匀机构、顶盖、超声波发生器、出液管，所述混匀机构顶部设有顶盖，所述超声波发生器中部贯穿于顶盖内部，并且超声波发生器下端设在混匀机构内侧底部，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机，其结构包括混匀机构(1)、顶盖(2)、超声波发生器(3)、出液管(4)，所述混匀机构(1)顶部设有顶盖(2)，所述超声波发生器(3)中部贯穿于顶盖(2)内部，并且超声波发生器(3)下端设在混匀机构(1)内侧底部，所述出液管(4)嵌在混匀机构(1)右下端并且相贯通，其特征在于：/n所述混匀机构(1)包括混匀箱(11)、隔板(12)、返流机构(13)、上推机构(14)，所述混匀箱(11)内部设有隔板(12)，并且顶盖(2)安装在混匀箱(11)顶端内部，所述隔板(12)表面设有返流机构(13)，所述上推机构(14)安装在混匀箱(11)内侧底部，并且超声波...

【技术特征摘要】
1.一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机，其结构包括混匀机构(1)、顶盖(2)、超声波发生器(3)、出液管(4)，所述混匀机构(1)顶部设有顶盖(2)，所述超声波发生器(3)中部贯穿于顶盖(2)内部，并且超声波发生器(3)下端设在混匀机构(1)内侧底部，所述出液管(4)嵌在混匀机构(1)右下端并且相贯通，其特征在于：
所述混匀机构(1)包括混匀箱(11)、隔板(12)、返流机构(13)、上推机构(14)，所述混匀箱(11)内部设有隔板(12)，并且顶盖(2)安装在混匀箱(11)顶端内部，所述隔板(12)表面设有返流机构(13)，所述上推机构(14)安装在混匀箱(11)内侧底部，并且超声波发生器(3)下端与上推机构(14)内部相连接，所述上推机构(14)外侧端与隔板(12)表面相抵触。


2.根据权利要求1所述的一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机，其特征在于：所述返流机构(13)包括拨动机构(131)、伸缩软管(132)、喷气孔(133)，所述拨动机构(131)右侧表面与伸缩软管(132)一端相固定，并且伸缩软管(132)另一端与隔板(12)表面相固定，所述喷气孔(133)嵌在拨动机构(131)内部，并且喷气孔(133)与伸缩软管(132)内部相贯通。


3.根据权利要求2所述的一种用于含酚废水处理的半导体新材料制备机，其特征在于：所述拨动机构(131)包括挤压板(31a)、弹簧(31b)、挤压杆(31c)、拨板(31d)、凸块(31e)，所述挤压板(31a)内部设有弹簧(31b)，所述弹簧(31b)与挤压杆(31c)一端相焊接，并且挤压杆(31c)另一端与拨板(31d)内侧表面相固定，所述挤压杆(31c)采用间隙配合安装在挤压板(31a)内部，所述喷气孔(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：林丽坪，
申请(专利权)人：林丽坪，
类型：发明
国别省市：福建;35