羟基磷灰石颗粒制造技术

一个目的是提供一种具有封闭牙本质小管的特性并且在牙本质小管中表现出优异的附着力的颗粒。该目的通过细小羟基磷灰石实现，该细小羟基磷灰石在通过使用CuKα辐射测量的X射线衍射图中在2θ＝32°附近的衍射峰强度与在2θ＝26°附近的衍射峰强度的比率为0.8至1.6，并且是颗粒的聚集体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】羟基磷灰石颗粒
本专利技术涉及细小羟基磷灰石颗粒、用于口腔组合物的添加剂、牙本质小管封闭剂及用于生产细小羟基磷灰石颗粒的方法。
技术介绍
当牙本质暴露时，例如由于刷牙引起的物理磨损或酸引起的化学磨损，会出现超敏反应。当牙本质暴露时，外界刺激会影响牙本质中牙本质小管中的神经，使得容易发生疼痛。已经通过封闭牙本质小管解决了超敏反应，例如，通过诸如氟化物或铝盐的颗粒(例如，PTL1)，以防止外部刺激到达神经。然而，许多常规方法在封闭后的附着力方面存在不足，并且效果的持续性有待解决。引用列表专利文献PTL1：JP2010-222325A
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供具有封闭牙本质小管的特性并且在牙本质小管中表现出优异的附着力的颗粒。问题的解决方案本专利技术人进行了广泛的研究以实现该目的。发现，可以通过细小羟基磷灰石颗粒实现该目标，该细小羟基磷灰石颗粒在通过使用CuKα辐射测量的X射线衍射图中在2θ＝32°附近的衍射峰强度与在2θ＝26°附近的衍射峰强度的比率本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种细小羟基磷灰石颗粒，其在通过使用CuKα辐射测量的X射线衍射图中在2θ＝32°附近的衍射峰强度与在2θ＝26°附近的衍射峰强度的比率为0.8至1.6，所述细小羟基磷灰石颗粒是颗粒的聚集体。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181227 JP 2018-2450241.一种细小羟基磷灰石颗粒，其在通过使用CuKα辐射测量的X射线衍射图中在2θ＝32°附近的衍射峰强度与在2θ＝26°附近的衍射峰强度的比率为0.8至1.6，所述细小羟基磷灰石颗粒是颗粒的聚集体。


2.根据权利要求1所述的细小羟基磷灰石颗粒，其Ca/P摩尔比小于1.67。


3.根据权利要求1或2所述的细小羟基磷灰石颗粒，其Ca/P摩尔比为1.60或更小。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的细小羟基磷灰石颗粒，其中值直径为5μm或更小。


5.根据权利要求1-4中任一项所述的细小羟基磷灰石颗粒，其比表面积为30至200m2/g。


6.根据权利要求1-5中任一项所述的细小羟基磷灰石颗粒，其在通过使用CuKα辐射测量的X射线衍射图中在2θ＝34°附近的衍射峰强度与在2θ＝32°附近的衍射峰强度的比率为1或更小。

【专利技术属性】
技术研发人员：岸昂平，梅本奖大，
申请(专利权)人：白石钙新加坡有限公司，白石工业株式会社，
类型：发明
国别省市：新加坡;SG