【技术实现步骤摘要】
一种拍照背景虚化方法、移动终端及存储介质
本专利技术涉及图像处理
,尤其涉及一种拍照背景虚化方法、移动终端及存储介质。
技术介绍
现在的智能手机的拍照功能中,基于双摄像头的拍照背景虚化(背景虚化就是使景深变浅,使焦点聚集在主题上)功能越来越流行。目前,背景虚化主要步骤为:利用双目摄像头生成深度图(深度图是采用双目摄像头拍摄的主图和副图合成具有距离信息的图像,图像中的每一个像素表示场景到摄像头的距离,也称为深度,所以叫深度图),基于深度图分割出前景和背景;再根据深度值对背景做分级,每一级做不同的模糊平滑处理后与前景叠加实现背景虚化效果。但是,基于深度图的前景与背景分割、背景分层多级虚化后叠加等方式都存在一定的缺陷,双摄像头估计的深度图可能不准(深度图是双目摄像头的主副摄像头拍摄的图片估计出来的),导致前景和背景的分割效果不佳或出错,并且利用深度距离信息(即深度值)的分层多级虚化会使得相邻的区域出现虚化等级不一致,前景与虚化后的背景叠加会在边缘处过渡显得不一致、或出现光晕效果;上述缺陷最终都会造成虚化后图片
【技术保护点】
1.一种拍照背景虚化方法,其特征在于,所述拍照背景虚化方法包括:/n将第一图片和第二图片合成深度图;/n将所述深度图进行预处理,将预处理后的所述深度图进行分割得到前景掩模和背景掩模;/n根据所述前景掩模和所述背景掩模分别确定前景深度值参数和背景深度值参数;/n根据所述前景深度值参数和所述背景深度值参数确定用于虚化的模糊核大小,并根据所述模糊核大小对所述第一图片进行背景虚化。/n
【技术特征摘要】
1.一种拍照背景虚化方法,其特征在于,所述拍照背景虚化方法包括:
将第一图片和第二图片合成深度图;
将所述深度图进行预处理,将预处理后的所述深度图进行分割得到前景掩模和背景掩模;
根据所述前景掩模和所述背景掩模分别确定前景深度值参数和背景深度值参数;
根据所述前景深度值参数和所述背景深度值参数确定用于虚化的模糊核大小,并根据所述模糊核大小对所述第一图片进行背景虚化。
2.根据权利要求1所述的拍照背景虚化方法,其特征在于,所述第一图片是由终端设备的第一摄像头组拍摄得到的图片,所述第一摄像头组包括一个或者多个摄像头;
所述第二图片是由终端设备的第二摄像头组拍摄得到的图片,所述第二摄像头组包括一个或者多个摄像头;
所述第一摄像头组的摄像头与所述第二摄像头组的摄像头之间至少有一个不相同。
3.根据权利要求1所述的拍照背景虚化方法,其特征在于,所述预处理包括:
将所述深度图进行保边滤波处理;
将进行保边滤波处理后的所述深度图进行中值滤波操作。
4.根据权利要求3所述的拍照背景虚化方法,其特征在于,所述将预处理后的所述深度图进行分割得到前景掩模和背景掩模,具体包括:
将进行中值滤波操作后的所述深度图进行分割处理;
根据预先设置的分割阈值得到所述前景掩模和所述背景掩模。
5.根据权利要求4所述的拍照背景虚化方法,其特征在于,所述根据预先设置的分割阈值得到所述前景掩模和所述背景掩模,具体包括:
将所述深度图中像素值大于所述分割阈值的像素点归为所述前景掩模;
将所述深度图中像素值小于或等于所述分割阈值的像素点归为所述背景掩模。
6.根据权利要求1-5任一项所述的拍照背景虚化方法,其特征在于,所述根据所述前景掩模和所述背景掩模分别确定前景深度值参数和背景深度值参数,具体包括:
根据所述前景掩模和所述背景掩模分别统计前景深度值均值和前景深度值均方差,以及背景深度值最大值和背景深度值最小值。
7.根据权利要求6所述的拍照背景虚化方法,其特征在于,所述根据所述前景深度值参数和所述背景深度值参数确定用于虚化的模糊核大小,具体包括:
确定前景的虚化核为高斯核,则当前像...
【专利技术属性】
技术研发人员:李鹏,
申请(专利权)人:武汉TCL集团工业研究院有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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