环丁烯的制造方法技术

本发明专利技术的目的在于以高的选择率制造含有卤原子的环丁烯。通式(1)(式中，X

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】环丁烯的制造方法
本专利技术涉及环丁烯的制造方法。
技术介绍
含有卤原子的环丁烯除了作为半导体用干蚀刻气体以外，作为各种制冷剂、发泡剂、热传递介质等也是有用的化合物。在含有卤原子的环丁烯中，关于1H-五氟环丁烯，已知有利用脱氟化氢反应由1H,2H-六氟环丁烷制造1H-五氟环丁烯的方法(例如非专利文献1和2)。该技术在使用玻璃器具的开放反应体系中合成1H-五氟环丁烯。现有技术文献非专利文献非专利文献1：Buxton；Tatlow；JournaloftheChemicalSociety；(1954)；p.1177-1179非专利文献2：Fuller,G.；Tatlow,J.C.；JournaloftheChemicalSociety；(1961)；p.3198-3203
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术的目的在于以高的选择率制造含有卤原子的环丁烯。用于解决技术问题的技术方案本专利技术包括以下的技术方案。项1.一种通式(1)所示的环丁烯的制造方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种通式(1)所示的环丁烯的制造方法，其特征在于：/n包括使通式(2)所示的环丁烷发生消去反应的工序，/n所述消去反应的工序以气相进行，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181227 JP 2018-2456651.一种通式(1)所示的环丁烯的制造方法，其特征在于：
包括使通式(2)所示的环丁烷发生消去反应的工序，
所述消去反应的工序以气相进行，



式(1)中，X1、X2、X3和X4相同或不同，表示氢原子、卤原子或全氟烷基，Y表示卤原子，



式(2)中，X1、X2、X3、X4和Y与上述相同，X5和X6相同或不同，表示氢原子、卤原子或全氟烷基。


2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：
所述X5为氢原子，所述X6为卤原子，所述消去反应为脱卤化氢反应...

【专利技术属性】
技术研发人员：江藤友亮，中村新吾，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP