六氟丁二烯的精制方法技术

本发明专利技术的目的在于抑制六氟丁二烯的异构化，将六氟丁二烯精制为高纯度。一种六氟丁二烯的精制方法，其包括使含有六氟丁二烯的组合物与SiO

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】六氟丁二烯的精制方法
本专利技术涉及一种六氟丁二烯的精制方法。
技术介绍
六氟丁二烯作为半导体制造工艺中的蚀刻气体被广泛使用。目前，六氟丁二烯利用沸石等固体吸附剂来除去杂质，从而被精制(例如，专利文献1和2)。但是，现有技术中，存在如下问题：六氟丁二烯与沸石反应，发生六氟丁二烯的异构化，六氟丁二烯的纯度降低。现有技术文献专利文献专利文献1：专利第3866663号专利文献2：专利第5607354号
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术的目的在于抑制六氟丁二烯的异构化，将六氟丁二烯精制为高纯度。用于解决技术问题的技术方案本专利技术包括以下的技术方案。项1.一种六氟丁二烯的精制方法，其包括使含有六氟丁二烯的组合物与SiO2/Al2O3比为4.0～8.0的沸石接触的工序。项2.如上述项1所述的精制方法，其中，上述工序中，使六氟丁二烯以外的杂质吸附于上述沸石，从上述组合物中除去上述杂质。项3.如上述项1或2所述的精制方法，其中，上述工序本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种六氟丁二烯的精制方法，其特征在于：/n包括使含有六氟丁二烯的组合物与SiO

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181228 JP 2018-2473661.一种六氟丁二烯的精制方法，其特征在于：
包括使含有六氟丁二烯的组合物与SiO2/Al2O3比为4.0～8.0的沸石接触的工序。


2.如权利要求1所述的精制方法，其特征在于：
所述工序中，使六氟丁二烯以外的杂质吸附于所述沸石，从所述组合物中除去所述杂质。


3.如权利要求1或2所述的精制方法，其特征在于：
所述工序中，使精制后的组合物中的六氟丁二烯的纯度达到99.99体积％以上。


4.如权利要求1～3中任一项所述的精制方法，其特征在于：
所述沸石为具有的平均细孔径的沸石。


5.一种含有六氟...

【专利技术属性】
技术研发人员：西海雅巳，中井胜也，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP