接触式成像设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种接触式成像设备，这种接触式成像设备包括壳体和探测器；壳体内具有暗室空间；探测器位于壳体内；探测器包括像素阵列，像素阵列包括多个呈阵列分布的像素，像素的尺寸为25微米‑150微米之间任意值；生物样品膜贴合于探测器的表面并位于像素阵列的上方，探测器用于将光信号转换为被检测样品的图像。探测器中的像素阵列中的像素尺寸设置在25um‑150um之间，既具有高的分辨率，又提高了单像素的电子容量和采光效率，进而提高了设备的灵敏度和动态范围，同时使得设备采集的图像更加清晰。

【技术实现步骤摘要】
接触式成像设备
本技术涉及生物样品检测
，特别涉及一种接触式成像设备。
技术介绍
Westernblot(简称WB)技术也就是蛋白质印记技术是生物医学研究最常用的技术之一。Westernblot样品膜上分布着蛋白质条带，这些条带通常用化学发光的方法显现出来。对发光图案传统的采集方式有两种：一种是胶片法，胶片法是将样品膜和X光胶片贴合，化学发光的样品会在胶片上曝光出图案。采用胶片法虽然成像质量高，但是存在操作工序复杂的问题；另外一种是相机法，相机法是用CCD(电荷耦合器件)相机直接在暗室内对样品直接拍照。但是，相机CCD受距离和灵敏度等因素限制，光信号损失较大，往往需要长时间曝光才能获得足够清晰的信号。基于以上两种成像方法均存在体积大、占用空间大、成本高、不易搬运等的缺陷，现有技术中出现了一种新的成像方法，就是采用互补金属氧化物半导体芯片(简称CMOS)对样品膜进行接触式采集。这种方案中CMOS探测器与样品膜直接或者由很薄的透明树脂或者玻璃膜相隔，因此，也称之为接触式成像。现有技术中的CMOS探测器有两种类型，一种是CMOS-APS本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种接触式成像设备，其特征在于，包括：/n壳体，所述壳体内具有暗室空间；/n探测器，所述探测器位于所述壳体内；所述探测器包括像素阵列，所述像素阵列包括多个呈阵列分布的像素，所述像素的尺寸为25微米-150微米之间任意值；生物样品膜贴合于所述探测器的表面并位于所述像素阵列的上方，所述探测器用于将光信号转换为被检测样品的图像。/n

【技术特征摘要】
1.一种接触式成像设备，其特征在于，包括：
壳体，所述壳体内具有暗室空间；
探测器，所述探测器位于所述壳体内；所述探测器包括像素阵列，所述像素阵列包括多个呈阵列分布的像素，所述像素的尺寸为25微米-150微米之间任意值；生物样品膜贴合于所述探测器的表面并位于所述像素阵列的上方，所述探测器用于将光信号转换为被检测样品的图像。


2.如权利要求1所述的接触式成像设备，其特征在于，所述壳体包括相互铰接的遮光盖和底座，所述底座具有一顶部开口的容置腔，所述探测器位于所述容置腔内并与所述底座的顶壁连接，所述像素阵列位于所述开口处。


3.如权利要求2所述的接触式成像设备，其特征在于，所述探测器还包括光纤面板，所述光纤面板卡设于所述开口的侧壁。


4.如权利要求3所述的接触式成像设备，其特征在于，所述光纤面板位于所述像素阵列的上方，所述光纤面板贴合于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张英豪，奚岩，
申请(专利权)人：易孛特生命科学上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31