OMX超薄logo标贴装饰层制造技术

本实用新型专利技术提供OMX超薄logo标贴装饰层，涉及玻璃膜加工技术领域，及3C电子表面装饰领域，所述装饰层的表层设有PET离型膜，且PET离型膜与装饰层的表层贴合，所述PET离型膜一面设有UV转印层，且UV转印层涂覆于PET离型膜一面，所述UV转印层的表层设有电镀层，且电镀层涂覆于UV转印层的表层，电镀层提供丰富的金属颜色效果，UV转印层使装饰层呈现不同纹理效果，有效的提高了产品的硬度，增加了产品的耐磨性等，采用丝印保护层提高了产品的耐氧化性，实现了加工出来的产品颜色更加丰富，可以直接与玻璃、金属、陶瓷产品接着，使用范围广。

【技术实现步骤摘要】
OMX超薄logo标贴装饰层
本技术涉及玻璃膜加工
，尤其涉及OMX超薄logo标贴装饰层。
技术介绍
烫金工艺是利用热压转移的原理，将电化铝中的铝层转印到承印物表面以形成特殊的金属效果，因烫金使用的主要材料是电化铝箔，因此烫金也叫电化铝烫印。现有的薄膜采用烫金工艺制造，制造出来的产品无法与玻璃，金属、陶瓷产品直接连接，色彩单调(金银铜红蓝)，且没有纹理效果，遮盖力强，烫金后产品表面底色会被完全遮盖。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的OMX超薄logo标贴装饰层。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：OMX超薄logo标贴装饰层，所述装饰层的表层设有PET离型膜，所述PET离型膜一面设有UV转印层，且UV转印层涂覆于PET离型膜一面，所述UV转印层的表层设有电镀层，且电镀层涂覆于UV转印层的表层。优选的，所述电镀层一面设有丝印保护层，且丝印保护层粘合于电镀层一面，所述丝印保护层的表层设有粘接层，且粘接层涂覆于丝印保护层表面。优选的，所述PET离型膜的厚度为50um-100um，所述UV转印层为微纹理层，且UV转印层的厚度为5-10um。优选的，所述电镀层为真空镀层，且电镀层的厚度为1um，所述丝印保护层为保护镀膜层，且丝印保护层的厚度为5-8um。优选的，所述粘接层为热熔胶，且粘接层通过印刷或者涂布与丝印保护层结合。优选的，所述粘接层通过热压使装饰层与产品表面相结合，同时PET离型膜受热后与UV转印层剥离有益效果本技术通过PET离型膜的支撑使OMX装饰层贴覆在需要装饰的产品表面，利用UV转印层使装饰层呈现不同纹理效果，有效的提高了产品的硬度，增加了耐磨性等，采用丝印保护层提高了产品的耐氧化性，实现了加工出来的产品颜色更加丰富，可以直接与玻璃、金属、陶瓷产品接着，使用范围广。附图说明图1为本技术的结构示意图；图例说明：1、PET离型膜；2、UV转印层；3、电镀层；4、丝印保护层；5、粘接层；6、装饰层。具体实施方式为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例和附图，进一步阐述本技术，但下述实施例仅仅为本技术的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本技术的保护范围。下面结合附图描述本技术的具体实施例。具体实施例：参照图1，OMX超薄logo标贴装饰层，装饰层的表层设有PET离型膜1，PET离型膜1一面设有UV转印层2，UV转印层2涂覆于PET离型膜1一面，PET离型膜1的厚度为50um-100um，UV转印层2为微纹理层，将UV胶水转印在PET离型膜1一面，转印5um-10um的厚度，UV转印层2的表层与电镀层3相接，电镀层3一面设有丝印保护层4，电镀层3为真空镀层，电镀层3的厚度为1um左右，丝印保护层4为保护镀膜层，丝印保护层4的厚度为5-8um，丝印保护层4粘合于电镀层3一面，丝印保护层4的表层设有粘接层5，粘接层5涂覆于丝印保护层4表面，粘接层5为热熔胶，粘接层5与丝印保护层4粘合，通过将厚度为1um电镀层3电镀在UV转印层2的表层，增加色彩效果，最后丝印5-8um丝印保护层4，利用粘接层5涂布在丝印保护层4的表层，粘接层5为热熔胶材料，通过热熔使OMX装饰层与产品表面相贴合，PET离型膜(1)受热后与UV转印层剥离，UV转印层置于产品表面，增加了产品的的硬度和耐磨性等，采用丝印保护层4提高了产品的耐氧化性，实现了加工出来的产品颜色更加丰富，可以直接与玻璃、金属、陶瓷产品接着，使用范围广。本技术的工作原理：通过将装饰层6的表层粘合有0.05-0.08mm厚度的PET离型膜1，将UV转印层2涂覆在PET离型膜1一面，涂覆5um-10um的厚度，UV转印层2为微纹理图案，通过将厚度为1um电镀层3涂覆在UV转印层2的表层，增加色彩效果，最后印刷5-8um丝印保护层4，利用粘接层5涂抹在丝印保护层4的表层，粘接层5为热熔胶材料，安装过后可更具所需要的形状对产品进行切割即可。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本技术的优选例，并不用来限制本技术，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.OMX超薄logo标贴装饰层，其特征在于：所述装饰层(6)的表层为PET离型膜(1)，所述PET离型膜(1)一面设有UV转印层(2)，且UV转印层(2)涂覆于PET离型膜(1)一面，所述UV转印层(2)的表层设有电镀层(3)，且电镀层(3)涂覆于UV转印层(2)的表层。/n

【技术特征摘要】
1.OMX超薄logo标贴装饰层，其特征在于：所述装饰层(6)的表层为PET离型膜(1)，所述PET离型膜(1)一面设有UV转印层(2)，且UV转印层(2)涂覆于PET离型膜(1)一面，所述UV转印层(2)的表层设有电镀层(3)，且电镀层(3)涂覆于UV转印层(2)的表层。


2.根据权利要求1所述的OMX超薄logo标贴装饰层，其特征在于：所述电镀层(3)一面设有丝印保护层(4)，且丝印保护层(4)粘合于电镀层(3)一面，所述丝印保护层(4)的表层设有粘接层(5)，且粘接层(5)涂覆于丝印保护层(4)表面。


3.根据权利要求1所述的OMX超薄logo标贴装饰层，其特征在于：所述PET离型膜(1)的厚度为50um-10...

【专利技术属性】
技术研发人员：任宪德，
申请(专利权)人：深圳市钧合通德科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44