【技术实现步骤摘要】
一种基于半导体封装使用的陶瓷瓷嘴清洗方法
本专利技术涉及半导体封装
,具体为一种基于半导体封装使用的陶瓷瓷嘴清洗方法。
技术介绍
瓷嘴,又名陶瓷劈刀、毛细管,它作为邦定机的一个焊接针头,适用于二极管、三极管、可控硅、LED、声表面波、IC芯片等线路的焊接上,半导体封装用陶瓷具有耐腐蚀、尺寸精度高、表面光洁度高晶粒细小等特点,该陶瓷的加工制造难度大,工艺复杂,在加工研磨、切削过程中,需要使用不同的研磨助剂达到一个好的加工功效,当加工完成时,由于研磨助剂常常是含一些油性的脂类物质、微米级颗粒,此外由于加工时与金属设备摩擦易留下金属划痕,需要将黏附于陶瓷表面的助剂金属颗粒及时清洗干净,以达到产品检测标准。目前常用的清洗方式是用一定浓度的酸、碱溶液,在一定温度、时间下反复交替清洗,清洗时间较长,清洗效率较低,清洗成本较高,并且清洗的温度、时间等反应条件需要严格控制,陶瓷瓷嘴的精细程度通常都在微米级控制精度,如果控制不当极易对陶瓷瓷嘴造成化学损伤,不仅影响陶瓷瓷嘴的焊线寿命,还会影响陶瓷瓷嘴关键尺寸的精度。 >
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种基于半导体封装使用的陶瓷瓷嘴清洗方法,其特征在于:包括以下步骤:/nS1.准备/n首先将混合酸与氧化剂、去离子水按照体积比(1-2):(1-2):(6-8)的比例搅拌混合均匀,配制成清洗剂,然后将清洗剂倒入清洗设备中备用;/nS2.分级/n将待清洗的陶瓷瓷嘴先通过目视检查进行筛选分级,选择陶瓷瓷嘴表面无明显金属划痕的作为A类,有明显金属划痕的作为B类;/nS3.预处理/n准备两个浸泡槽,充满去离子水,并将水温升高至40-60℃,然后将分级后的A类陶瓷瓷嘴放入一个浸泡槽中,浸泡10-15min,B类陶瓷瓷嘴放入另一个浸泡槽中,浸泡20-30min,需保持两个浸泡槽中的 ...
【技术特征摘要】
1.一种基于半导体封装使用的陶瓷瓷嘴清洗方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1.准备
首先将混合酸与氧化剂、去离子水按照体积比(1-2):(1-2):(6-8)的比例搅拌混合均匀,配制成清洗剂,然后将清洗剂倒入清洗设备中备用;
S2.分级
将待清洗的陶瓷瓷嘴先通过目视检查进行筛选分级,选择陶瓷瓷嘴表面无明显金属划痕的作为A类,有明显金属划痕的作为B类;
S3.预处理
准备两个浸泡槽,充满去离子水,并将水温升高至40-60℃,然后将分级后的A类陶瓷瓷嘴放入一个浸泡槽中,浸泡10-15min,B类陶瓷瓷嘴放入另一个浸泡槽中,浸泡20-30min,需保持两个浸泡槽中的陶瓷瓷嘴均不相互堆叠;
S4.清洗
先将清洗设备的工作温度升高至30-90℃,然后将A类和B类陶瓷瓷嘴分别放入清洗设备中进行清洗,A类陶瓷瓷嘴的清洗时间为2-10min,B类陶瓷瓷嘴的清洗时间为10-20min,然后再将A类和B类陶瓷瓷嘴从清洗设备中取出,并用酒精或者丙酮进行充分清洗,...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘旭,
申请(专利权)人:广东三为精密陶瓷有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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