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一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法制造方法及图纸

技术编号:29524381 阅读:24 留言:0更新日期:2021-08-03 15:10
本发明专利技术公开了一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,该装置主要用于纳米粒子的近场偏振显微成像。该装置由光源调制模块、照明与收集模块、检偏与探测模块、控制与图像处理模块组成。通过控制模块控制光源调制模块进行入射光偏振态的调制,经过保偏光纤到达锥形针尖对样品进行照明,再经过检偏模块的成像光路到达探测模块,最后通过图像处理模块获得纳米粒子样品的偏振参数信息,该装置具有近场偏振调制激发和多参数偏振图像获取以及全偏振态庞加莱球映射的能力。

【技术实现步骤摘要】
一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法
本专利技术属于偏振显微成像领域,具体涉及一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法。该装置及方法主要用对纳米粒子的近场偏振显微成像探测,具有近场偏振调制激发、多偏振态参数反演以及全偏振态庞加莱球映射的特点。
技术介绍
对纳米粒子进行显微成像,当直接引入近场照明时,样品表面的精细结构会被动地将近场倏逝波转化为传播波。利用直径小于入射波长的光纤纳米锥尖产生的近场倏逝波照明,然后在远场采集转换后的传播波,可以进行超分辨率成像。目前偏振显微成像主要采用远场光波照明与远场收集探测的方式,对于几十个纳米尺寸级别的粒子,由于衍射极限的限制,该方法存在分辨率不足的缺点。公开号CN110849818A申请专利的偏振参数装置采用远场照明,但不能够收集纳米粒子的近场倏逝波的传播信息。公开号CN106707484A申请专利采用近场照明的方法,缺点是不具有偏振调制和多参数信息反演的能力。
技术实现思路
为了收集样品的近场精细结构信息和偏振参数信息,并对纳米粒子样品的全偏振态信息进行庞加莱球映本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,用于纳米粒子的近场偏振显微成像探测,该装置由光源调制模块、照明与收集模块、检偏与探测模块、控制与图像处理模块组成。所述的光源调制模块由激光器、保偏光纤、电控偏振调制器组成;所述的照明与收集模块由保偏光纤、三维位置控制器、纳米光纤锥尖、样品、载玻片、倒置显微物镜组成;所述的检偏与探测模块由1/4波片、线性偏振片、成像透镜、CCD探测器组成。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,用于纳米粒子的近场偏振显微成像探测,该装置由光源调制模块、照明与收集模块、检偏与探测模块、控制与图像处理模块组成。所述的光源调制模块由激光器、保偏光纤、电控偏振调制器组成;所述的照明与收集模块由保偏光纤、三维位置控制器、纳米光纤锥尖、样品、载玻片、倒置显微物镜组成;所述的检偏与探测模块由1/4波片、线性偏振片、成像透镜、CCD探测器组成。


2.根据权利要求1所述的一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,其特征在于所述的光源调制模块的光纤均采用保偏光纤,能够使得不同角度的线偏振态光波进行保偏传输,电控偏振调制器采用光纤式连接。


3.根据权利要求1所述的一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,其特征在于所述的光源调制模块采用电控偏振调制器调制入射光为总共N个不同角度的线偏光出射,按照等间隔角度旋转,角度最大从沿竖直方向Z轴0°绕X轴旋转到θmax=360°。


4.根据权利要求1所述的一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,其特征在于所述的照明与收集模块采用纳米光纤锥尖作为纳米粒子的照明光源,利用纳米光纤锥尖出射的近场线偏振光照射纳米粒子样品,实现对样品的近场激发。


5.根据权利要求1所述的一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,其特征在于所述的检偏与探测模块的1/4波片的快轴在XY平面且沿X轴呈45°,线偏振片的快轴在XY平面且沿X轴呈0°。


6.根据权利要求1所述的一种基于光纤纳米锥尖的偏振调制式显微成像装置及方法,其特征在于所述的控制与图像处理模块的控制系统,其利用...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭宝恒
申请(专利权)人:郭宝恒
类型:发明
国别省市:江苏;32

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