笔迹书写的方法及装置制造方法及图纸

技术编号:2952430 阅读:195 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种笔迹书写的方法及装置,其在捕捉到采样点后,使用预设第一修正模板对该采样点进行修正,得到第一修正点的位置坐标,如果该第一修正点与上一个采样点的修正点之间的投影距离大于了预定距离,则用预设第二修正模板重新对采样点进行修正,得到第二修正点的位置坐标,并将第二修正点作为该当前采样点的最终修正点,否则将上述第一修正点作为该当前采样点的最终修正点,最后将该最终修正点与上一采样点的修正点进行连接,由于没有丢弃采样点,且通过采用两个模板有选择性地对各采样点进行修正,以满足预先设定的条件,可使得修正后的绘制出来的曲线满足平滑的书写效果,从而可以有效地防止尖点及抖动现象,使书写笔迹流畅。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及计算机绘图
,特别涉及一种计算机中的笔迹书写的方 法及装置。
技术介绍
随着计算机应用的日益普及,计算机绘图技术也日益普遍,涉及美术、设 计、教育、军事以及会议等领域,通常情况下,计算机绘制图像是通过识别画 笔(鼠标)移动的时候的一些点,将这些点通过直线段按照画笔轨迹相连,得 到一条画笔折线,当取样点足够多的情况下,该折线即可以粗略地表示出画笔 的路径,但是,由于每一条折线的斜率不同,在两条直线相连接时会出现尖点, 导致书写出来的画笔轨迹出现很多尖点,书写笔迹不平滑。此外,在绘制图形 过程中,由于用户书写时画笔的抖动现象,易导致书写时产生锯齿、滞后、断 笔的显像,影响书写笔迹的美观性及平滑性。现有技术中,为了减少画笔轨迹出现的尖点,出现了一种通过丢弃距离较 短的采样点、并对距离较大的采样点进行修正的处理方式,其可以获得较好的 平滑处理效果,但是,由于丢弃了其中的一部分采样点,采用这种处理方式所 绘制出来的书写笔迹,跟实际所绘制的笔迹具有一定的差距,例如,在实际书 写波浪线、小字体的字迹时,由于丢弃了距离较短的取样点,从而可能导致所 绘制出的书写笔迹与实际的书写笔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种笔迹书写的方法,其特征在于,包括步骤: 捕捉画笔移动路径上的采样点; 使用预设第一修正模板、根据前一采样点的修正点的位置坐标、前一采样点的位置坐标以及当前采样点的位置坐标修正所述当前采样点,获得第一修正点的位置坐标; 判断所述第一修正点与所述前一采样点的修正点之间的投影距离是否大于预定距离; 若是,使用预设第二修正模板、并根据所述前一采样点的修正点的位置坐标、所述前一采样点的位置坐标以及所述当前采样点的位置坐标修正所述当前采样点,获得第二修正点的位置坐标,并将该第二修正点作为所述当前采样点的最终修正点; 若否,将所述第一修正点作为所述当前采样点的最终修正点; 使用预设曲线类型连接所述前一采...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李俊文徐蜀中
申请(专利权)人:广东威创视讯科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:81[中国|广州]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1