一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用，属于光学薄膜材料领域。该高折射率光学镀膜材料为钛酸镨，化学式为Pr

【技术实现步骤摘要】
一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用
本专利技术涉及光学薄膜材料
，其主要涉及一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用。
技术介绍
在光学镀膜材料中，可用于电子束蒸镀的高折射率材料选择非常有限，大多数的高折射率材料为钛、锆、铪、钽、铌的氧化物以及它们的混合物或与其他金属氧化物的混合物。本
中，用混合物镀膜可以改变单一氧化物光学膜层的折射率，扩大光学膜系设计对材料的选择范围，以及改善薄膜的应力等特性。然而，由于在这些混合物的材料中，各组份的熔点不同、蒸汽压有差异，如果合成选择组份或比例不当，材料可能在蒸镀过程中组份比例发生变化，进而影响光学薄膜性能的稳定性以及生产批次的一致性。因此，为解决上述现有技术中高折射率材料存在的所制备的光学薄膜性能不稳定性、生产批次的一致性较差等问题，本
亟需一种新的高折射率材料。
技术实现思路
本专利技术针对目前高折射率材料存在的所制备的光学薄膜性能不稳定性、生产批次的一致性较差等问题，提出一种新的高折射率光学镀膜及其制备方法。具体内容如下：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种预熔化的高折射率光学镀膜材料，其特征在于，所述高折射率光学镀膜材料为钛酸镨，化学式为Pr

【技术特征摘要】
1.一种预熔化的高折射率光学镀膜材料，其特征在于，所述高折射率光学镀膜材料为钛酸镨，化学式为Pr5Ti5O17；
其中，所述钛酸镨是以TiO2、Pr6O11和Ti粉体为原料，通过固相合成反应制备得到的。


2.根据权利要求1所述的高折射率光学镀膜材料，其特征在于，所述高折射率光学镀膜材料的密度为5.3-5.5g/cm3，材料熔点为1900℃，在500nm的折射率为2.10。


3.一种制备上述权利要求1或2所述的钛酸镨的方法，其特征在于，所述方法包括：
以TiO2、Pr6O11和Ti粉体为原料，按一定比例进行机械混合，得到混合均匀的粉体；
对所述粉体进行压块或造粒，得到块体或颗粒；
在高温真空下，对所述块体或颗粒进行固相合成反应并融化，得到熔融体系；
在真空下，将所述熔融体系冷却至室温并破碎，得到钛酸镨，所述钛酸镨的化学式为Pr5Ti5O17。


4.根据权利要求3所述方法，其特征在于，所述原料中各组分的配比为：TiO2含量23～27wt.％，Pr6O11含量68～72wt.％，Ti粉含量2～6wt.％。


5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：张碧田，石志霞，彭程，孙静，段华英，张恒，王星明，
申请(专利权)人：有研资源环境技术研究院北京有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11