【技术实现步骤摘要】
化学水浴沉积装置及其使用方法
本专利技术涉及水浴沉积装置领域，具体涉及一种化学水浴沉积装置及一种化学水浴沉积装置的使用方法。
技术介绍
目前，薄膜材料存在多种制备方法，包括磁控溅射法、丝网印刷法、电沉积法以及化学水浴沉积法(ChemicalBathDeposition，简称为CBD)等制备方法。在上述各种方法中，化学水浴沉积法属于非真空制备法，具有装置的结构简单、沉积温度低以及能耗小等优点，因而受到了科研界和产业界的广泛青睐。现有的化学水浴沉积法，通常将基片放入容置有化学镀液的化学槽中，再将该化学槽放入水浴锅中进行水浴加热处理，以使基片上沉积而得到薄膜材料。但是，现有的化学槽内的化学镀液升温慢。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种化学水浴沉积装置及一种化学水浴沉积装置的使用方法，旨在解决化学槽内的化学镀液升温慢的问题。为实现上述目的，本专利技术提出的一种化学水浴沉积装置包括水浴锅和化学槽；所述水浴锅的内部空腔安装有所述化学槽，所述水浴锅的内部空腔还用于容置水，所述化学槽的...
【技术保护点】
1.一种化学水浴沉积装置，其特征在于，包括水浴锅(1)和化学槽(2)；/n所述水浴锅(1)的内部空腔安装有所述化学槽(2)，所述水浴锅(1)的内部空腔还用于容置水，所述化学槽(2)的内部空腔用于容置化学镀液和基片(4)；/n所述化学槽(2)的顶面开口，所述化学槽(2)的底面封闭，且所述化学槽(2)的底面向上凸起形成凸台，以使所述化学槽(2)的底部形成凹槽；/n所述凹槽能够与所述水浴锅(1)的内部空腔连通，所述化学槽(2)的外侧面和所述凹槽的槽壁均能够与所述水浴锅(1)内的水接触。/n
【技术特征摘要】
1.一种化学水浴沉积装置，其特征在于，包括水浴锅(1)和化学槽(2)；
所述水浴锅(1)的内部空腔安装有所述化学槽(2)，所述水浴锅(1)的内部空腔还用于容置水，所述化学槽(2)的内部空腔用于容置化学镀液和基片(4)；
所述化学槽(2)的顶面开口，所述化学槽(2)的底面封闭，且所述化学槽(2)的底面向上凸起形成凸台，以使所述化学槽(2)的底部形成凹槽；
所述凹槽能够与所述水浴锅(1)的内部空腔连通，所述化学槽(2)的外侧面和所述凹槽的槽壁均能够与所述水浴锅(1)内的水接触。
2.如权利要求1所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学槽(2)为圆柱形化学槽，所述圆柱形化学槽的顶面开口，所述凸台为圆柱形凸台。
3.如权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括一对弧形支座(5)；
一对所述弧形支座(5)安装于所述水浴锅(1)的内底面，且这对所述弧形支座(5)相对设置；所述弧形支座(5)上架设有所述化学槽(2)。
4.如权利要求3所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括至少一个U形连接件(6)；
所述U形连接件(6)包括杆部，所述杆部的两端分别弯折延伸形成弯折部，所述U形连接件(6)的两个所述弯折部之间形成开口；
所述U形连接件(6)设于所述圆柱形化学槽的内部空腔，所述U形连接件(6)的所述开口朝向所述圆柱形凸台，且所述U形连接件(6)的两个所述弯折部均设于所述圆柱形凸台的外侧；
所述U形连接件(6)的两个所述弯折部分别连接有所述基片(4)。
5.如权利要求4所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括密封盖(7)和驱动组件(8)；
所述杆部的中部转动连接于所述圆柱形凸台的顶部；
所述圆柱形化学槽的顶面可拆卸地连接有所述密封盖(7)；
所述密封盖(7)的背离所述圆柱形化学槽的一面连接有所述驱动组件(8)，所述驱动组件(8)与所述U形连接件(6)连接，以驱动所述U形连接件(6)转动，进而带动所述基片(4)绕所述圆柱形凸台的中轴线转动。
6.如权利要求5所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述驱动组件(8)包括驱动电机(801)和转动杆(802)；
所述驱动电机(801)连接于所述密封盖(7)的背离所述圆柱形化学槽的一面，所述驱动电机(801)的输出轴与所述转动杆(802)的一端连接，所述转动杆(802)另一端从所述密封盖(7)伸入所述圆柱形化学槽的内部空腔并且与所述U形连接件(6)连接，以驱动所述U形连接件(6)转动。
7.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏正华，何阳，范平，梁广兴，
申请(专利权)人：深圳大学，
类型：发明
国别省市：广东;44
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