一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种MoS

【技术实现步骤摘要】
一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂及制备方法
本专利技术涉及纳米材料
，具体为一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂及制备方法。
技术介绍
现如今，在医疗及养殖畜牧领域中，大量污水排放逐渐影响人们的日常生活，人类在呼吁污水减排的同时，也做出相应措施以处理污水，比如通过吸附、过滤、光电催化等治理手段。吸附、过滤这类物理方法处理流程复杂繁琐，处理结果不尽人意，还可能因处理不当造成环境的二次污染，光电催化这类化学方法因其处理过程简单、环境友好等优势引起广泛的关注。然而，由于大多数光电催化剂为粉末颗粒状，在催化过程中难以回收重复利用，这不仅不利于催化剂的循环使用，而且可能会造成水体环境的二次污染。因此，研发一种易于回收利用且性能良好的光电催化剂材料迫在眉睫。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂，将MoS2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种MoS

【技术特征摘要】
1.一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂，其特征在于，将MoS2纳米颗粒负载于镀上一层TiO2薄膜的硅金字塔阵列表面形成所述MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂。


2.根据权利要求1所述的一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂，其特征在于，所述MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂的制备方法包括以下步骤：
(1)硅片预处理、配置碱性刻蚀液，并采用湿法碱性化学刻蚀的方法制备硅金字塔阵列；
(2)通过磁控溅射法在所述硅金字塔阵列表面镀一层TiO2致密层薄膜，得到上表面沉积TiO2薄膜的金字塔阵列硅基片；
(3)通过水热法制得MoS2纳米颗粒，并制备成溶液，将所述MoS2溶液依次通过旋涂和煅烧的方法负载于沉积TiO2薄膜的硅金字塔阵列上表面，得到所述MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂。


3.根据权利要求2所述的一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂，其特征在于，上述步骤(1)中所述碱性刻蚀液的配置方法为：将KOH、(CH3)2CHOH和H2O倒入烧杯中并搅拌均匀配置成所述碱性刻蚀液。


4.根据权利要求3所述的一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂，其特征在于，步骤(1)中所述硅片预处理的方法为：将1×1cm2的单面抛光n型硅片分别放入丙酮、无水乙醇、去离子水中进行超声清洗，然后将硅片放入浓硫酸与过氧化氢的混合溶液中浸泡，最后再将硅片放入去离子水中进行超声清洗。


5.根据权利要求4所述的一种MoS2/TiO2/Si金字塔阵列光电催化剂，...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕珺，陈铭，吴玉程，徐光青，杨泽鹏，鲍智勇，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：发明
国别省市：安徽;34