一种自发形成图灵微纳结构的钙钛矿薄膜的制备方法技术

本发明专利技术提供一种自发形成图灵微纳结构的钙钛矿薄膜的制备方法，所述方法包括：(1)在基底表面涂覆电子传输层材料或空穴传输层材料，得到电子传输层或空穴传输层；(2)于步骤(1)得到的电子传输层或空穴传输层表面涂覆ABX

【技术实现步骤摘要】
一种自发形成图灵微纳结构的钙钛矿薄膜的制备方法
本专利技术属于钙钛矿材料领域，涉及一种钙钛矿薄膜的制备方法，尤其涉及一种自发形成图灵微纳结构的钙钛矿薄膜的制备方法。
技术介绍
ABX3钙钛矿材料具有带隙可调、透光度高、可溶液加工、光电转换效率高等优点，其中半透明钙钛矿光伏广泛应用于航空航天、汽车、船舶、建筑物等领域。半透明钙钛矿材料当前制备方法主要有三种：一、将光伏活性层图案化；二、减薄光伏层厚度；三、拓宽光活性材料的光学带隙。将光伏活性层图案化，部分未被光活性层覆盖的区域可以增强可见光的透过率，但制备方式比较复杂，通常需要模板实现图案化。减薄光伏活性层厚度在一定程度上可以提高透光度，但是通常使用的钙钛矿薄膜的带隙较窄，对可见光波段范围内的光线具有较大的吸收能力，使得整个薄膜平均可见光透光度较低。拓宽光活性材料带隙过程中存在AX与BX2溶解度相差大、ABX3钙钛矿结晶速率快、需要后期处理等操作的问题。ACSNANO，8卷，1期，591-598页：报道了一种具有岛状微结构阵列的半透明钙钛矿材料及其制备方法，该文献采用碘化甲胺、氯化铅为原材本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自发形成图灵微纳结构的钙钛矿薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：/n(1)在基底表面涂覆电子传输层材料或空穴传输层材料，得到电子传输层或空穴传输层；/n(2)于步骤(1)得到的电子传输层或空穴传输层表面涂覆ABX3钙钛矿溶液，并进行退火处理，得到钙钛矿薄膜；/n(3)将步骤(2)得到的钙钛矿薄膜浸泡于AX饱和溶液中，浸泡后洗涤并退火得到所述透明钙钛矿薄膜；其中，A包括Cs

【技术特征摘要】
1.一种自发形成图灵微纳结构的钙钛矿薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
(1)在基底表面涂覆电子传输层材料或空穴传输层材料，得到电子传输层或空穴传输层；
(2)于步骤(1)得到的电子传输层或空穴传输层表面涂覆ABX3钙钛矿溶液，并进行退火处理，得到钙钛矿薄膜；
(3)将步骤(2)得到的钙钛矿薄膜浸泡于AX饱和溶液中，浸泡后洗涤并退火得到所述透明钙钛矿薄膜；其中，A包括Cs+、CH3NH3+或NH2CH＝NH2+中的任意一种或至少两种的组合，B包括Pb2+、Sn2+或Ge2+中的任意一种或至少两种的组合，X包括I-、Br-、Cl-或F-中的任意一种或至少两种的组合。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述基底包括玻璃基底、FTO玻璃基底、ITO玻璃基底、PEN基底或PET基底中的任意一种。


3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述电子传输层材料包括致密氧化钛、介孔氧化钛、氧化锡、氧化锌或富勒烯及衍生物中的任意一种或至少两种的组合；
优选地，步骤(1)所述空穴传输层材料包括括苯胺类空穴传输层材料、咔唑类空穴传输层材料、酞菁类空穴传输层材料、吩噻嗪类空穴传输层材料、吩噁嗪类空穴传输层材料或噻吩类空穴传输层材料中的任意一种或至少两种的组合。


4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述电子传输层的厚度为250nm优选地，步骤(1)所述空穴传输层的厚度为50nm
优选地，对步骤(1)所述电子传输层或空穴传输层分别独立地进行退火处理；
优选地，所述退火处理的温度为电子传输层450～500℃，时间为30～60min；空穴传输层80-120℃，时间为5-15min。


5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦天石，王芳芳，刘有，黄维，
申请(专利权)人：南京工业大学，南京晟印光能有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32