【技术实现步骤摘要】
一种紫外纳米压印用光刻胶组合物及其制备与应用
本专利技术涉及一种紫外纳米压印用光刻胶组合物及其制备与应用，属于高分子化学材料
技术介绍
纳米压印技术是1995年由周郁教授首先提出的，这种技术是一种在光刻胶的辅助下，通过机械转移的手段，将模板上的微纳结构转移到代加工材料上的技术。与传统光刻技术相比，该技术有着廉价、生产效率高和分辨率高的特点，也因此有巨大的发展前景。根据材料和压印工艺的不同，纳米压印可分为热压印(HEL)和紫外纳米压印(UV-NIL)。其中，在紫外纳米压印技术中，首先将低粘度的可紫外光固化预聚物组成的纳米压印胶涂覆在基片上，然后在一定的压力下，让模板与紫外固化材料接触，之后光固化预聚物通过毛细作用使得其充满模板的纳米结构，最后在紫外光下快速固化。由于整个工艺过程无需加热和高压，可在室温和低压下迅速完成，因此紫外纳米压印技术近年倍受人们青睐，其工业化发展前景令人瞩目。然而，紫外光固化技术同样存在着一定的缺陷。首先，由于固化方式为紫外光固化，该过程不可避免的会产生体积收缩，从而造成纳米压印过程中的图形缺陷...
【技术保护点】
1.一种紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，该光刻胶组合物包括可光聚合二硫化合物、第二可光聚合单体和光引发剂；/n所述可光聚合二硫化合物的结构式如式a所示：/n
【技术特征摘要】
1.一种紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，该光刻胶组合物包括可光聚合二硫化合物、第二可光聚合单体和光引发剂；
所述可光聚合二硫化合物的结构式如式a所示：
其中R1和R2相同或相异，为-CH2-、
当R1和R2为-CH2-时，n1和n2独立地取自1～10；
当R1和R2为时，n1与n2同时为1。
2.根据权利要求1所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述第二可光聚合单体选自丙烯酸酯类单体和甲基丙烯酸酯类单体的一种或两种以上的组合；所述甲基丙烯酸酯类单体选自单官能团、双官能团或多官能团甲基丙烯酸酯单体中的一种或两种以上的组合；所述丙烯酸酯类单体选自单官能团、双官能团或多官能团甲基丙烯酸酯单体中的一种或两种以上的组合。
3.根据权利要求2所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述第二可光聚合单体为甲基丙烯酸酯和丙烯酸异冰片酯的组合，甲基丙烯酸酯和丙烯酸异冰片酯的质量比为9:1-1:9；更优选地，所述甲基丙烯酸酯和丙烯酸异冰片酯的质量比为7:3。
4.根据权利要求1所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述光引发剂选自苯偶姻类、安息香醚类、苯偶酰类、苯乙酮衍生物类、α-羟基酮衍生物类、α-氨基酮衍生物类、苯甲酸甲酰酯类、酰基膦氧化物、二苯甲酮及其衍生物类和硫杂蒽酮及其衍生物类的光引发剂一种或两种以上的组合；更优选地，所述光引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮。
5.根据权利要...
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