一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺制造技术

本发明专利技术提供一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺，光学塑料镜片使用RF射频离子源大功率大角度辅助镀膜，EB+IB＝IAD镀膜工艺，结合光学膜厚直接监控方法，离子辅助镀膜IAD通过离子轰击的方法改善薄膜的品质，控制光学塑料镜片蒸镀条件中的参数，在光学塑料镜片上镀制性能稳定的金属反射膜，提高光学塑料镜片的透射率，减少光学塑料镜片内的反射光线和杂散光，光学塑料镜片采用镜片AR增透膜镀膜方法。

【技术实现步骤摘要】
一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺
本专利技术涉及一种光学塑料镜片离子源镀膜领域，尤其涉及一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺。
技术介绍
现阶段运用到手机用光学镜头镀膜上的离子源技术主要是真空射频离子源辅助镀膜技术。射频离子源是现在市场上最昂贵的离子源类型之一。射频离子源工作稳定，无耗材，工作时间长。光通信镀膜、激光陀螺仪、高能激光、高端光栅刻蚀和芯片制备等高端应用都应用了射频离子源技术。真空辅助镀膜领域，射频离子源也已经慢慢成为各高端客户的首选。在可预见的将来，射频技术将会越来越普及，射频技术驱动的离子源将成为市场的主流。射频离子源中，气体通过一个气体绝缘子进入石英放电室，石英室的外部周围有数圈射频线圈。工作的时候13.56MHz的射频功率通过LC回路构成一个电感负载。电磁感应的电磁波进入放电室，产生的电磁旋涡作用到气体分子上。通过控制不同的射频输入功率，控制工艺气体的电离效果。电离的气体在栅网的加速下形成有一定方向的高能离子束流。射频离子源有以下一些优点：①能量大而且能量精确可控。栅网结构能通过电场的分布控制束流的能量大小。同时通过不同栅网的形状设计，可以实现发散，聚焦，准直或者特殊分布的控制。②工作气体不受限制。射频离子内部没有热源，气体可以是各种各样的气体。只要保证安全情况下，理论上任何气体都可以使用。③工作时间长。射频离子源通过射频电源驱动，无耗材。除了日常的清洗，连续工作时间可以达到数千小时以上。④发热量低。正常工作射频离子源辐射温度一般在100℃以下。适合大多数固体材料的镀膜应用。⑤污染少，工艺干净。由于没有发热部分，用于离子源上面的材料不会沉积到薄膜中。做出了的膜层纯度更高。但是现有的离子源技术的局限性已经成为无法大规模提高产能的瓶颈并限制了蒸发速率的提高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺，至少解决了现有技术中的部分问题，提高了成像质量和产能。本专利技术是这样实现的：本专利技术提供一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺，光学塑料镜片使用RF射频离子源大功率大角度辅助镀膜，EB+IB＝IAD镀膜工艺，结合光学膜厚直接监控方法，离子辅助镀膜IAD通过离子轰击的方法改善薄膜的品质，控制光学塑料镜片蒸镀条件中的参数，在光学塑料镜片上镀制金属反射膜，提高光学塑料镜片的透射率，减少光学塑料镜片内的反射光线和杂散光，光学塑料镜片采用镜片AR增透膜镀膜方法。作为优选，镀膜材料采用五氧化三钛ti3o5和二氧化硅sio2。作为优选，镜片AR增透膜镀膜方法包括如下步骤：S1、镜片仓出库；S2、镀膜仓入库；S3、镀前抽检外观；S4、上伞镀膜；S5、分材料选择机台膜系；S6、全自动双面镀膜90分钟；S7、镀膜下伞；S8、分穴号15盘相同打包；S9、判定膜色测反射曲线及膜裂；S10、镀后抽检外观；S11、镀膜仓出库；S12、镜片仓静置3H产品发组立。作为优选，IB离子源功率设定中，二氧化硅sio2采用400V/600mA，五氧化三钛ti3o5采用600V/900mA。作为优选，EB电子枪功率参数设定中，五氧化三钛ti3o5采用480mA、速率二氧化硅sio2，二氧化硅sio2采用150mA、速率/sec，镀膜过程速率的变化电流会自动变化，整体变化小于50mA。作为优选，镀膜设备采用SDAR-1800DCI光驰镀膜机。作为优选，金属反射膜的反射膜系为介质加金属三层反射膜系。本专利技术具有以下有益效果：1、本专利技术提供了一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺，在本专利技术中，使用RF射频离子源大功率大角度辅助镀膜，EB+IB＝IAD镀膜工艺，结合光学膜厚直接监控技术实现高品质光学薄膜的批量化生产。2、离子辅助镀膜IAD通过离子轰击的方法显著地改善薄膜的品质，从而得到致密性，无漂移，高折射率，强附着力，低损耗的薄膜。由于传统镀膜设备无法满足摄像头镜片品质薄膜镀膜要求，使用RF射频离子源可以长时间的稳定输出，以及材料蒸发的稳定性。3、本专利技术通过对镀膜材料和光学塑料基体的特性分析，提供了一种实用的介质加金属三层反射膜系。基于这种膜系，研究等离子辅助镀膜技术和石英晶片膜厚监控技术，针对塑料镜片蒸镀的特殊性，严格控制蒸镀条件中的有关参数，形成一套稳定的蒸镀工艺，在光学塑料镜片镀制性能稳定的金属反射膜，满足光学产品的技术要求，实现批量生产。4、本专利技术提供了光学塑料镜片IAD(离子束辅助沉积)镀膜关键技术。本专利技术使用RF射频离子源大功率大角度辅助镀膜，结合光学膜厚直接监控技术实现高品质光学薄膜的批量化生产，与传统EB(电子束物理气相沉积)镀膜技术相比较，本专利技术使用的RF离子源可以长时间的稳定输出，材料蒸发稳定、沉积致密，薄膜无漂移，折射率高，附着力强，损耗低。本专利技术将有效实现单个光学镜片的透射率，减少整个镜头内部的反射光线和杂散光，提高成像质量。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为本专利技术实施例提供的镜片AR(增透膜)镀膜工艺流程图；图2为本专利技术实施例提供的EB镀膜工艺和IAD镀膜工艺的对比图；图3为本专利技术实施例提供的IAD镀膜工艺的参数表；图4为本专利技术实施例提供的光的折射图；图5为本专利技术实施例提供的电磁波谱图；图6为本专利技术实施例提供的光的干涉图；图7为本专利技术实施例提供的镀膜材料参数设定表；图8为本专利技术实施例提供的可见光波段反射图；图9为本专利技术实施例提供的镀膜膜厚参数表；图10为本专利技术实施例提供的IB离子源参数表；图11为本专利技术实施例提供的EB电子枪参数表；图12为本专利技术实施例提供的膜厚控制装置的示意图；图13为本专利技术实施例提供的镀膜过程图；图14为本专利技术实施例提供的镀膜实测速率图；图15为本专利技术实施例提供的镀膜实测电流图；图16为本专利技术实施例提供的镀膜反射曲线图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1-图16，本专利技术实施例提供一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺，光学塑料镜片使用RF射频离子源大功率大角度辅助镀膜，EB+IB＝IAD镀膜工艺，结合光学膜厚直接监控方法，离子辅助镀膜IAD通过离子轰击的方法改善薄膜的品质，控制塑料镜片蒸镀条件中的参数，在光学塑料镜片上镀制性能稳定的金属反射膜，提高光学塑料镜片的透射率，减少光学塑料镜片内的反本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺，其特征在于：光学塑料镜片使用RF射频离子源大功率大角度辅助镀膜，EB+IB＝IAD镀膜工艺，结合光学膜厚直接监控方法，离子辅助镀膜IAD通过离子轰击的方法改善薄膜的品质，控制光学塑料镜片蒸镀条件中的参数，在光学塑料镜片上镀制金属反射膜，提高光学塑料镜片的透射率，减少光学塑料镜片内的反射光线和杂散光，光学塑料镜片采用镜片AR增透膜镀膜方法。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学塑料镜片离子源镀膜工艺，其特征在于：光学塑料镜片使用RF射频离子源大功率大角度辅助镀膜，EB+IB＝IAD镀膜工艺，结合光学膜厚直接监控方法，离子辅助镀膜IAD通过离子轰击的方法改善薄膜的品质，控制光学塑料镜片蒸镀条件中的参数，在光学塑料镜片上镀制金属反射膜，提高光学塑料镜片的透射率，减少光学塑料镜片内的反射光线和杂散光，光学塑料镜片采用镜片AR增透膜镀膜方法。


2.如权利要求1所述的光学塑料镜片离子源镀膜工艺，其特征在于：镀膜材料采用五氧化三钛ti3o5和二氧化硅sio2。


3.如权利要求1所述的光学塑料镜片离子源镀膜工艺，其特征在于：镜片AR增透膜镀膜方法包括如下步骤：S1、镜片仓出库；S2、镀膜仓入库；S3、镀前抽检外观；S4、上伞镀膜；S5、分材料选择机台膜系；S6、全自动双面镀膜90分钟；S7、镀膜下伞；S8、分穴号15盘相同打包；S9、判定膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：张翼，程西容，陈俊宏，钟永文，成松，黄中玉，
申请(专利权)人：湖北华鑫光电有限公司，湖北三峡职业技术学院，
类型：发明
国别省市：湖北;42