首饰上釉检测系统及上釉设备技术方案

本发明专利技术涉及一种首饰上釉检测系统及上釉设备，首饰上釉检测系统包括上釉设备、检测元件和主机。上釉设备包括清洗部、存储部和喷淋管，清洗部内形成有第一容置腔，第一容置腔用于容纳清洗液；存储部内形成有第二容置腔，第二容置腔用于容纳釉液；喷淋管内形成有喷射通道，喷淋管上形成有分别与喷射通道相连通的第一连接口、第二连接口和喷出口，第一容置腔通过第一连接口与喷射通道相连通，第二容置腔通过第二连接口与喷射通道相连通，喷出口用于喷出清洗液或釉液。清洗部和存储部都连接于同一喷淋管，提高了上釉设备的结构集成度，有利于上釉设备的小型化。

【技术实现步骤摘要】
首饰上釉检测系统及上釉设备
本专利技术涉及工艺设备
，特别是涉及首饰上釉检测系统及上釉设备。
技术介绍
在陶瓷制作过程中，在烧制前对陶瓷胚料进行上釉处理能够美化陶瓷的外观，并且釉面可以降低陶瓷的吸水率，延长陶瓷的使用寿命。但目前市面上主要的上釉设备主要应用场景是流水线生产，因此上釉设备的体积偏大，没有一款适用于对单个陶瓷坯料进行上釉的小型化上釉设备。
技术实现思路
基于此，有必要针对上述问题，提供一种小型化的首饰上釉检测系统及上釉设备。一种上釉设备，包括清洗部、存储部和喷淋管，所述清洗部内形成有第一容置腔，所述第一容置腔用于容纳清洗液；所述存储部内形成有第二容置腔，所述第二容置腔用于容纳釉液；所述喷淋管内形成有喷射通道，所述喷淋管上形成有分别与所述喷射通道相连通的第一连接口、第二连接口和喷出口，所述喷淋管的第一连接口处安装于所述清洗部上，以使所述第一容置腔通过所述第一连接口与所述喷射通道相连通，所述喷淋管的第二连接口处安装于所述存储部上，以使所述第二容置腔通过所述第二连接口与所述喷射通道相连通，所述喷出口用于喷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种上釉设备，其特征在于，所述上釉设备包括：/n清洗部，所述清洗部内形成有第一容置腔，所述第一容置腔用于容纳清洗液；/n存储部，所述存储部内形成有第二容置腔，所述第二容置腔用于容纳釉液；及/n喷淋管，所述喷淋管内形成有喷射通道，所述喷淋管上形成有分别与所述喷射通道相连通的第一连接口、第二连接口和喷出口，所述喷淋管的第一连接口处安装于所述清洗部上，以使所述第一容置腔通过所述第一连接口与所述喷射通道相连通，所述喷淋管的第二连接口处安装于所述存储部上，以使所述第二容置腔通过所述第二连接口与所述喷射通道相连通，所述喷出口用于喷出所述清洗液或所述釉液。/n

【技术特征摘要】
1.一种上釉设备，其特征在于，所述上釉设备包括：
清洗部，所述清洗部内形成有第一容置腔，所述第一容置腔用于容纳清洗液；
存储部，所述存储部内形成有第二容置腔，所述第二容置腔用于容纳釉液；及
喷淋管，所述喷淋管内形成有喷射通道，所述喷淋管上形成有分别与所述喷射通道相连通的第一连接口、第二连接口和喷出口，所述喷淋管的第一连接口处安装于所述清洗部上，以使所述第一容置腔通过所述第一连接口与所述喷射通道相连通，所述喷淋管的第二连接口处安装于所述存储部上，以使所述第二容置腔通过所述第二连接口与所述喷射通道相连通，所述喷出口用于喷出所述清洗液或所述釉液。


2.根据权利要求1所述上釉设备，其特征在于，所述喷淋管弯折形成容纳腔，所述容纳腔用于放置陶瓷胚料，所述喷出口位于所述容纳腔的内壁上，所述喷出口朝向所述陶瓷坯料。


3.根据权利要求2所述上釉设备，其特征在于，还包括喷头，所述喷头的数量为至少两个，所述喷出口的数量为至少两个，每一所述喷出口上对应设置有一所述喷头。


4.根据权利要求2所述上釉设备，其特征在于，还包括转动部，所述转动部能够转动地设置于所述容纳腔内，所述转动部用于盛放所述陶瓷胚料，所述喷出口朝向所述转动部的转动轴线设置。


5.根据权利要求4所述上釉设备，其特征在于，所述转动部包括驱动件及放置件，所述驱动件能够驱动所述放置件进行转动，所述放置件为板状结构，板状的所述放置件设置于所述容纳腔内，板状的所述放置件上形成有放置腔，所述放置腔用于放置所述陶瓷胚料，所述喷出口朝向板状的所述放置件的转动轴线设置；或
所述转动部包括驱动件、放置件及挂钩，所述驱动件能够驱动所述放置件进行转动，所述挂钩设置于所述放置件上，所述挂钩能够挂设所述陶瓷坯料，所述喷出口朝向所述挂钩的转动轴线设置；或
所述转动部包括驱动件、放置件及夹持元件，所述驱动件能够驱动所述放置件进行转动，所述夹持元件设置于所述放置件上，所述夹持元件能...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨旭，黄斌，曾静丽，
申请(专利权)人：广东白云学院，
类型：发明
国别省市：广东;44