【技术实现步骤摘要】
一种电光调制器的终端负载结构及其制备方法
[0001]本申请涉及电光调制器芯片领域，具体而言，涉及一种电光调制器的终端负载结构及其制备方法。
技术介绍
[0002]现有技术中，电光调制器是电光系统中的重要组件，实现对电光信号的调制。
[0003]由于射频电路的特殊性，需要在射频电路终端接上特定阻抗的负载电阻，现有技术中，电光调制器中采用外接贴片电阻实现负载电阻的需求，由于外接贴片电阻存在不稳定的问题，因此，现有技术中的电光调制器的终端负载电阻存在不稳定的技术问题。
[0004]申请内容
[0005]本申请的主要目的在于提供一种电光调制器的终端负载结构，基于薄膜电阻设计电光调制器的终端负载电阻，可以解决现有技术中电光调制器由于外接贴片电阻造成的不稳定的技术问题，实现了提高电光调制器射频电路的稳定性与降低生产成本的技术效果。
[0006]为了实现上述目的，本申请提出了一种电光调制器的终端负载结构；
[0007]本专利技术的第二方面，还提出了一种电光调制器的终端负载结构的制备方法。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电光调制器的终端负载结构，其特征在于，包括：所述电光调制器的终端负载结构从下至上依次是衬底层、隔离层、电光材料薄膜层、混合层以及薄膜电阻。2.根据权利要求1所述的电光调制器的终端负载结构，其特征在于，所述衬底层的材料为硅；所述隔离层的材料为二氧化硅。3.根据权利要求1所述的电光调制器的终端负载结构，其特征在于，所述电光材料薄膜层上存在预设刻蚀图案，所述预设刻蚀图案为集成光子元器件结构。4.根据权利要求1所述的电光调制器的终端负载结构，其特征在于，所述混合层包括绝缘层与金属电极，其中，所述绝缘层材料为光介质材料。5.根据权利要求1所述的电光调制器的终端负载结构，其特征在于，还包括：在所述薄膜电阻与混合层上方覆盖有保护层，所述保护层的厚度为5nm
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30μm。6.根据权利要求1所述的电光调制器的终端负载结构，其特征在于，所述电光材料薄膜层材料为铌酸锂晶体，砷化镓晶体和钽酸锂晶体中的任一种。7.一种如权利要求1
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6所述的电光调制器的终端负载结构的制备方法，其特征在于，在薄膜晶圆上制作集成光子元器件结构，形成电光材料薄膜层；在所述电光薄膜层上沉积绝缘层材料，在所述绝缘层基于预设结构对导体材料进行处理...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁寒潇，宋一品，周颖聪，巫海苍，毛文浩，宋时伟，孙维祺，俞清扬，
申请(专利权)人：南京刻得不错光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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