釉上彩粉青瓷的制备工艺制造技术

釉上彩粉青瓷的制备工艺，所述粉青瓷包括坯体、粉青釉和彩料；粉青釉由以下原料组成：德化石英、硼镁石、石棉粉、德化高岭土、紫金土、熔块、氧化钇，本发明专利技术制备的粉青瓷釉色青绿淡雅、青绿中显粉白，釉面光泽柔和、细腻，该粉青瓷精确限定粉青釉的原料组成，并对熔块的化学组分进行严格的把控，引入紫金土与熔块配合，以使烧制后的瓷器釉面呈粉青；引入硼镁石与氧化钇配合，以增大釉对光的折射，提高釉面的光泽度，是釉面光泽柔和、细腻；引入石棉粉来降低原料中的结晶水及碳酸根来减少釉浆中的汽包，使釉层致密、细腻。细腻。

【技术实现步骤摘要】
釉上彩粉青瓷的制备工艺


[0001]本专利技术属于瓷器制备领域，具体涉及一种釉上彩粉青瓷的制备工艺。

技术介绍

[0002]釉上彩是陶瓷的主要装饰技法之一，它是用各种彩料在已经烧成的瓷器釉面上绘制各种纹饰，然后二次入窑，低温固化彩料而成，通常包括彩绘瓷、彩饰瓷、青花加彩瓷、五彩瓷、粉彩瓷、色地描金瓷及珐琅彩等。低温釉上彩用彩料不仅要求附着力强，能有效附着于瓷器釉面上，而且要求具有优异的耐腐蚀性、耐磨性和耐候性，图案呈现效果好。目前，低温釉上彩用彩料不能完全满足上述要求，致使陶瓷在使用一段时间后图案容易出现剥落、刮痕和颜色变淡的现象，严重影响外观质量。
[0003]“以釉取胜”的工艺装饰一直盛行，按烧成后外观特征分类：裂纹釉、花釉、单色釉等等。单色釉以其古朴、素雅、历来为文人墨客所钟爱。而其中粉青釉更以其如冰似玉、青绿光润、细腻华美给人以观赏不尽的蕴蓄。现代任何釉水，追根溯源，都是早期粉青釉的石灰釉，经石灰碱釉，演绎而出。传统粉青釉料在应用于陶瓷产品制造过程中，存在对工艺要求过于苛刻问题，如过烧易产生“起泡”现象，气氛控制不精确就易产生“吸烟”现象，造成陶瓷产品合格率低，有待进一步改进。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是克服现有技术的缺点，提供一种釉上彩粉青瓷的制备工艺。
[0005]本专利技术采用如下技术方案：
[0006]釉上彩粉青瓷的制备工艺，所述粉青瓷包括坯体、粉青釉和彩料；
[0007]粉青釉由以下重量份的原料组成：德化石英25
‑
35份、硼镁石15
‑
22份、石棉粉8
‑
12份、德化高岭土15
‑
20份、紫金土5
‑
10份、熔块1
‑
3份、氧化钇0.5
‑
1份；
[0008]熔块的化学组成如下：Al2O3：44.36％、Fe2O3：28.79％、MnO2：8.54％、TiO2：7.08％、Na2O：5.37％、MgO：5.86％；
[0009]其制备工艺包括以下步骤：
[0010]步骤一，按坯体、粉青釉的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆和釉浆；
[0011]步骤二，将步骤一制得的坯浆制成坯体，置于窑炉中，在780
‑
860℃下素烧6
‑
8h，得素坯；
[0012]步骤三，在素坯表面施步骤一制得的釉浆，待釉浆干燥后，送入窑炉中，在还原气氛下烧制成型，烧成温度1200
‑
1250℃；
[0013]步骤四，调配好的彩料，然后在粉青釉面上彩绘所需的图案；
[0014]步骤五，将彩绘后的坯体送入窑炉中，在760
‑
820℃下一次烘焙15
‑
20h；
[0015]步骤六，待一次烘焙后的坯体冷却至室温下，再次送入窑炉中，在550
‑
580℃下，二次烘焙6
‑
8h，得所述釉上彩粉青瓷。
[0016]进一步的，所述彩料由以下重量份的原料组成：色剂80
‑
85份、水15
‑
20份；色剂由以下重量份的原料组成：颜料15
‑
20份、蛤粉15
‑
20份、硅酸锆8
‑
15份、硼酸5
‑
10份、硅灰石5
‑
8份、锆英砂5
‑
10份、松香油6
‑
12份、焦磷酸钠3
‑
5份、六偏磷酸钠2
‑
3份。
[0017]进一步的，所述色剂的制备方法包括以下步骤：
[0018]A、先将蛤粉、硅酸锆、硼酸、硅灰石、锆英石按重量份称重、混合、破碎，得混合料；
[0019]B、将混合料在1220
‑
1280℃下，熔炼3
‑
4h，淬水，得块状溶剂；
[0020]C、将块状溶剂粉碎，加入松香油、焦磷酸钠、六偏磷酸钠，球磨15
‑
20h，烘干、粉碎得所述色剂。
[0021]进一步的，所述坯体由以下重量份的原料组成：德化方解石20
‑
28份、德化石英35
‑
40份、高岭土15
‑
22份、白云石5
‑
12份、萤石6
‑
10份、膨润土8
‑
10份。
[0022]进一步的，所述步骤三中，烧成控制如下：
[0023]低温阶段：窑炉内由常温升至420
‑
450℃，烧窑时间1
‑
2小时；
[0024]分解氧化阶段：窑炉内升温至820
‑
860℃，烧窑时间3
‑
4小时；
[0025]高温强还原阶段：窑炉内升温至1220
‑
1240℃，烧窑时间6
‑
8小时；
[0026]高火保温阶段：窑炉内温度控制在1200
‑
1250℃，烧窑时间3
‑
5小时；
[0027]自然冷却阶段：窑炉内冷却至室温，冷却时间延长至8小时以上。
[0028]进一步的，所述步骤三中，高温强还原阶段中，一氧化碳的含量为7.2
‑
8.0％，氧气的含量为1.0
‑
1.5％。
[0029]进一步的，所述步骤三中，高火保温阶段中，一氧化碳的含量为9.2
‑
9.8％，氧气的含量为0.5
‑
0.8％。
[0030]进一步的，所述步骤一中坯浆湿球磨时候，原料在球磨机中湿法研磨18
‑
20小时，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.5
‑
1.8:1.2
‑
1.5。
[0031]进一步的，所述步骤一中釉浆湿球磨时候，原料在球磨机中湿法研磨36
‑
42小时，研磨介质为水，原料：球：水＝1:2
‑
2.5:1.5
‑
2。
[0032]进一步的，所述坯体的成型方法为手拉坯成型或注浆成型。
[0033]由上述对本专利技术的描述可知，与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术制备的粉青瓷釉色青绿淡雅、青绿中显粉白，釉面光泽柔和、细腻，该粉青瓷精确限定粉青釉的原料组成，并对熔块的化学组分进行严格的把控，引入紫金土与熔块配合，以使烧制后的瓷器釉面呈粉青；引入硼镁石与氧化钇配合，以增大釉对光的折射，提高釉面的光泽度，是釉面光泽柔和、细腻；引入石棉粉来降低原料中的结晶水及碳酸根来减少釉浆中的汽包，使釉层致密、细腻；
[0034]通过限定彩料中色剂的具体组成及制备方法，通过二次低温烘焙，以保证彩料与瓷胎良好结合，所形成的彩绘图案光鲜漂亮、表面光滑，且彩绘图案呈现效果始终如一，从而大大提高陶瓷制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.釉上彩粉青瓷的制备工艺，其特征在于：所述粉青瓷包括坯体、粉青釉和彩料；粉青釉由以下重量份的原料组成：德化石英25
‑
35份、硼镁石15
‑
22份、石棉粉8
‑
12份、德化高岭土15
‑
20份、紫金土5
‑
10份、熔块1
‑
3份、氧化钇0.5
‑
1份；熔块的化学组成如下：Al2O3：44.36％、Fe2O3：28.79％、MnO2：8.54％、TiO2：7.08％、Na2O：5.37％、MgO：5.86％；其制备工艺包括以下步骤：步骤一，按坯体、粉青釉的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆和釉浆；步骤二，将步骤一制得的坯浆制成坯体，置于窑炉中，在780
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860℃下素烧6
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8h，得素坯；步骤三，在素坯表面施步骤一制得的釉浆，待釉浆干燥后，送入窑炉中，在还原气氛下烧制成型，烧成温度1200
‑
1250℃；步骤四，调配好的彩料，然后在粉青釉面上彩绘所需的图案；步骤五，将彩绘后的坯体送入窑炉中，在760
‑
820℃下一次烘焙15
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20h；步骤六，待一次烘焙后的坯体冷却至室温下，再次送入窑炉中，在550
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580℃下，二次烘焙6
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8h，得所述釉上彩粉青瓷。2.根据权利要求1所述的釉上彩粉青瓷的制备工艺，其特征在于：所述彩料由以下重量份的原料组成：色剂80
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85份、水15
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20份；色剂由以下重量份的原料组成：颜料15
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20份、蛤粉15
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20份、硅酸锆8
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15份、硼酸5
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10份、硅灰石5
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8份、锆英砂5
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10份、松香油6
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12份、焦磷酸钠3
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5份、六偏磷酸钠2
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3份。3.根据权利要求2所述的釉上彩粉青瓷的制备工艺，其特征在于：所述色剂的制备方法包括以下步骤：A、先将蛤粉、硅酸锆、硼酸、硅灰石、锆英石按重量份称重、混合、破碎，得混合料；B、将混合料在1220
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1280℃下，熔炼3
‑
4h，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李玉桃，
申请(专利权)人：李玉桃，
类型：发明
国别省市：