一种微发光阵列、调整图像像素间隙的方法及投影系统技术方案

技术编号:29285704 阅读:21 留言:0更新日期:2021-07-16 23:53
本发明专利技术公开了一种微发光阵列,包括:微发光单元和用于改变像素间隙的偏摆装置;所述微发光阵列由微发光单元以阵列形式排布构成,所述偏摆装置位于所述微发光单元的出光方向上。通过偏摆装置对像素的偏摆使得投影画面的观感得到了极大的改善,并扩大了微发光阵列的结构选择的灵活度,避免出现因为间隙控制导致的各种结构问题,降低装置的设计复杂性,方便芯片的散热,增加使用的寿命。增加使用的寿命。增加使用的寿命。

A microluminescent array, method for adjusting image pixel gap and projection system

【技术实现步骤摘要】
一种微发光阵列、调整图像像素间隙的方法及投影系统


[0001]本专利技术涉及光源,具体而言涉及投影光源。

技术介绍

[0002]目前的投影系统都是采用照明系统+光调制器+镜头的原理。光调制器一般都是通过单独对每个像素实行开关,实现像素的发光。所用的光调制器主要有:DMD,LCD,Lcos三种,其中LCD是通过液晶的偏振选择透过实现像素的开关。DMD与Lcos是反射式的通断,通过对入射每个像素光线反射角度的控制,实现像素的开关。
[0003]在上述三种调制方式中,参与投影的像素点都是被动发光,像素的显示效果的调制均由所述光调制器来实现,光调制器的存在导致投影系统难以小型化,简单化。
[0004]为此,本专利技术提供了微发光阵列、投影系统及微发光阵列的制作方法,用于解决现有技术中的问题。

技术实现思路

[0005]在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念,这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本专利技术的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征,更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
[0006]为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种微发光阵列,包括:微发光单元和用于改变像素间隙的偏摆装置;所述微发光阵列由微发光单元以阵列形式排布构成,所述偏摆装置位于所述微发光单元的出光方向上。
[0007]示例性地,所述微发光阵列还包括遮光板构件,微发光单元的出光依次通过所述遮光板构件和所述偏摆装置。
[0008]示例性地,所述偏摆装置包括电磁吸附装置,所述电磁吸附装置用于提供驱动力实现偏摆装置的偏摆运动。
[0009]示例性地,所述偏摆装置包括透光板构件,所述电磁吸附装置与所述透光板构件连接,通过控制电路不断改变电流方向实现开、合运动,从而实现透光板构件的偏摆运动。
[0010]示例性地,所述偏摆装置包括透光板构件,所述电磁吸附装置与所述透光板构件连接,通过控制电路不断改变电流方向实现开、合运动,从而实现透光板构件的偏摆运动。
[0011]示例性地,所述偏摆装置为单方向偏摆装置或双方向偏摆装置。
[0012]示例性地,所述透光板构件包括平面玻璃板。示例性地,所述遮光板对应于所述微发光单元之间的位置为不透光部分或消光部分。
[0013]示例性地,所述遮光板对应于所述微发光单元部分位置或全部位置为透光部分。
[0014]示例性地,所述遮光板的透光区域为矩形或正方形,且透光区域不大于微发光单元区域,所述微发光单元区域指微发光单元在所述遮光板位置有光照射的区域。
[0015]示例性地,所述遮光板背向所述微发光单元侧为消光设置。
[0016]示例性地,所述微发光单元构成的微发光阵列具有至少一行和/或至少一列,所述
微发光阵列的行间距相等和/或列间距相等。
[0017]本专利技术还提供一种调整微发光阵列所显示的图像像素间隙的方法,包括上述任意一种微发光阵列,所述通过所述偏摆装置后的微发光阵列所显示的图像的像素之间的像素间隙取决于所述透光板的厚度、折射率和/或倾斜角度。
[0018]示例性地,S≈d*θ*(n-1)/n,式中:S为像素位移,d为透光板的厚度,n为透光板的折射率,θ为透光板的倾斜角度;
[0019]根据像素间隙调整选择透光板的厚度、透光板的折射率和/或透光板的倾斜角度,使得S≥像素间隙。
[0020]本专利技术还提供一种投影系统,包括上述任意一种微发光阵列。
[0021]根据本专利技术的微发光阵列、调整微发光阵列所显示的图像像素间隙的方法以及投影系统,通过偏摆装置对像素的偏摆使得投影画面的观感得到了极大的改善,并扩大了微发光阵列的结构选择的灵活度,避免出现因为间隙控制导致的各种结构问题,降低装置的设计复杂性,方便芯片的散热,增加使用的寿命。
附图说明
[0022]本专利技术的下列附图在此作为本专利技术的一部分用于理解本专利技术。附图中示出了本专利技术的实施例及其描述,用来解释本专利技术的原理。
[0023]附图中:
[0024]图1为现有技术中的投影系统的结构示意图;
[0025]图2为根据本专利技术的一个实施例的投影系统的结构示意图;
[0026]图3为根据本专利技术的一个实施例的微发光阵列的结构示意图;
[0027]图4为根据本专利技术的两个微发光阵列的结构对比示意图;
[0028]图5为根据本专利技术的一个实施例的微发光阵列结构示意图;
[0029]图6为根据本专利技术的一个实施例的微发光阵列结构示意图;
[0030]图7为根据本专利技术的一个实施例的像素位移的示意图;
[0031]图8为根据本专利技术的一个实施例的偏摆装置的示意图;
[0032]图9为根据本专利技术的一个实施例的偏摆装置的摆动方向示意图;
[0033]图10为根据本专利技术的一个实施例的像素填补后的示意图;
[0034]图11为根据本专利技术的另一个实施例的微发光阵列结构示意图;
[0035]图12为根据本专利技术的再一个实施例的微发光阵列结构示意图;
[0036]图13为根据本专利技术的再一个实施例的像素填补后的示意图。
具体实施方式
[0037]在下文的描述中,给出了大量具体的细节以便提供对本专利技术更为彻底的理解。然而,对于本领域技术人员而言显而易见的是,本专利技术可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中,为了避免与本专利技术发生混淆,对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。
[0038]为了彻底理解本专利技术,将在下列的描述中提出详细的描述,以说明本专利技术的微发光阵列和投影系统。显然,本专利技术的施行并不限于垃圾处理领域的技术人员所熟习的特殊
细节。本专利技术的较佳实施例详细描述如下,然而除了这些详细描述外,本专利技术还可以具有其他实施方式。
[0039]应予以注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施例,而非意图限制根据本专利技术的示例性实施例。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式。此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件,但不排除存在或附加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合。
[0040]现在,将参照附图更详细地描述根据本专利技术的示例性实施例。然而,这些示例性实施例可以多种不同的形式来实施,并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施例。应当理解的是,提供这些实施例是为了使得本专利技术的公开彻底且完整,并且将这些示例性实施例的构思充分传达给本领域普通技术人员。在附图中,为了清楚起见,夸大了层和区域的厚度,并且使用相同的附图标记表示相同的元件,因而将省略对它们的描述。
[0041]图1为现有技术中的投影系统的结构示意图。如图1所示,采用照明系统+光调制器+镜头的原理。
[0042]光源发出的光通过匀光棒后,进入照明系统,而后经过光调制器的调制进入镜本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微发光阵列,其特征在于,包括:微发光单元和用于改变像素间隙的偏摆装置;所述微发光阵列由微发光单元以阵列形式排布构成,所述偏摆装置位于所述微发光单元的出光方向上。2.根据权利要求1所述的微发光阵列,其特征在于,所述微发光阵列还包括遮光板构件,微发光单元的出光依次通过所述遮光板构件和所述偏摆装置。3.根据权利要求1或2所述的微发光阵列,其特征在于,所述偏摆装置包括电磁吸附装置,所述电磁吸附装置用于提供驱动力实现偏摆装置的偏摆运动。4.根据权利要求3所述的微发光阵列,其特征在于,所述偏摆装置包括透光板构件,所述电磁吸附装置与所述透光板构件连接,通过控制电路不断改变电流方向实现开、合运动,从而实现透光板构件的偏摆运动。5.根据权利要求4所述的微发光阵列,其特征在于,所述偏摆装置为单方向偏摆装置或双方向偏摆装置。6.根据权利要求4所述的微发光阵列,其特征在于,所述透光板构件包括平面玻璃板。7.根据权利要求2所述的微发光阵列,其特征在于,所述遮光板对应于所述微发光单元之间的位置为不透光部分或消光部分。8.根据权利要求2所述的微发光阵列,其特征在于,所述遮光板对应于所述微发光单元部分位置或全部位置为透光部分。9....

【专利技术属性】
技术研发人员:葛明星陈龙
申请(专利权)人:无锡视美乐激光显示科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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