显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种显示面板及其制备方法。所述显示面板包括叠层设置的第一基板和第二基板以及指纹识别单元。每一指纹识别单元中包括传感器和至少一超构透镜。所述传感器设于所述第一基板中。所述超构透镜设于所述第二基板中，并与所述传感器相对应。并与所述传感器相对应。并与所述传感器相对应。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光学显示设备领域，特别是一种显示面板及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着消费者对手机屏占比的极致追求，全面屏已成为高端手机发展的一种趋势，这需要将指纹识别系统进行些特殊处理。为了实现全面屏，对指纹识别系统可以通过以下方式来处理：(1)放置在背面；(2)放置在侧面；(3)屏下或者屏内指纹识别。由于OLED(Organic Light
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Emitting Diode，有机电致显示)的自发光特性，其实现屏下指纹识别相对容易，已经被用在多款手机中。然而，LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)是被动发光，实现屏下或者屏内指纹识别相对困难一些，因此，亟需开发应用于LCD的屏下指纹识别技术。
[0003]虽然OLED显示技术中已经实现了屏下指纹识别技术，但是现有的OLED屏下指纹识别技术多为局部区域具有识别功能，无法实现全屏多点识别。为了扩展指纹识别系统的功能，比如在进入手机界面后点击软件时可以直接识别指纹，使软件的打开和登录同步进行，而不用分两步进行，也需要开发具有多点识别功能的指纹识别系统。
[0004]此外，目前用于屏内光学指纹识别的准直系统大致有两种方案：(1)多层孔结构；(2)微透镜阵列结构。在多层孔方案中，为了降低噪声信号和提高光线准直性，孔的孔径不易过大，这样势必会导致照射到指纹识别传感器上的光信号强度降低，不易于进行识别，容易被误判。在微透镜阵列方案中，为了获得一定进光量，微透镜需要维持一定的尺寸大小，这样一方面会限制像素开口率的提升，另一方面还会使得微透镜的焦距无法降低，导致显示屏的厚度过大，影响用户的使用感受。
[0005]并且，这两种方案在实现指纹识别过程中，均需要维持一定长度的光路用以提高分辨率和信噪比，改善指纹成像质量。然而，在实现该光路的制程中，过厚的膜材容易导致基板翘曲，从而导致制程异常，增加制程不稳定性和风险性，提高生产成本。
[0006]以上可以看出，两种方案中对于光路结构的尺寸设计要求较高，限制因素较多，实现超薄、高分辨率的指纹识别屏幕具有一定的难度。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的是提供一种显示面板及其制备方法，以解决现有技术中液晶显示面板无法实现屏下指纹识别、OLED显示面板无法实现全屏全区域的指纹识别以及现有的指纹识别技术对于光路结构的尺寸设计要求较高、限制因素较多、难以实现超薄、高分辨率的指纹识别屏幕等技术问题。
[0008]为实现上述目的，本专利技术提供一种显示面板，所述显示面板包括叠层设置的第一基板和第二基板以及指纹识别单元。每一指纹识别单元中包括传感器和至少一超构透镜。所述传感器设于所述第一基板中。所述超构透镜设于所述第二基板中，并与所述传感器相对应。
[0009]进一步地，所述第一基板包括阵列基板，所述传感器位于所述阵列基板靠近所述第二基板的一侧。
[0010]进一步地，所述阵列基板包括发光层，所述发光层位于所述阵列基板靠近所述第二基板的一侧，所述传感器位于所述发光层靠近所述第二基板的一侧。
[0011]进一步地，所述第二基板包括黑色矩阵和光阻层。所述黑色矩阵设于所述第一基板上，其具有若干第一通孔和若干第二通孔，每一第二通孔与一指纹识别单元对应。所述光阻层设于所述黑色矩阵的第一通孔中。所述超构透镜设于所述第二通孔中或设于所述黑色矩阵的一表面上。
[0012]进一步地，所述第二基板还包括一透光层，所述透光层设于所述黑色矩阵一表面上，并填充全部或部分第二通孔。
[0013]进一步地，所述第二基板包括限位层，所述限位层设于所述第一基板上。所述超构透镜设于所述限位层中。
[0014]进一步地，所述显示面板还包括若干像素单元，所述像素单元中具有至少一红色子像素、至少一绿色子像素以及至少一蓝色子像素。所述像素单元与所述指纹识别单元均匀分布在所述显示面板上。
[0015]进一步地，所述超构透镜包括若干纳米天线，所述纳米天线阵列排布在所述超构透镜中。
[0016]进一步地，所述超构透镜的直径为5
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25微米。
[0017]本专利技术中还提供一种显示面板的制备方法，其包括以下步骤：
[0018]在第一基板中形成传感器；在第二基板中形成超构透镜；将所述第一基板与所述第二基板进行对位操作，使所述传感器与所述超构透镜互相对应；将所述第一基板与所述第二基板叠层放置。
[0019]本专利技术的优点是：本专利技术的中所提供的一种显示面板采用微米级尺寸的超构透镜聚集指纹识别所需的光线，在不影响显示面板的分辨率以及面板厚度的同时能够实现全屏指纹识别。并且，所述显示面板的制备方法能在不影响常规显示面板膜层制程的同时加入超构透镜的制备流程，与常规制程兼容性高，不会增加显示面板制程上的风险，并且所制备的产品稳定性高，不易发生翘曲，提高了生产良品率，降低了生产成本。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本专利技术实施例1
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5中显示面板的各单元分布示意图；
[0022]图2为本专利技术实施例1中显示面板的层状结构示意图；
[0023]图3为本专利技术实施例1中超构透镜的聚光示意图；
[0024]图4为本专利技术实施例1中纳米天线的分布示意图；
[0025]图5为本专利技术实施例1中纳米天线的立体图；
[0026]图6为本专利技术实施例1中第一区的结构示意图；
[0027]图7为本专利技术实施例2中显示面板的层状结构示意图；
[0028]图8为本专利技术实施例3中显示面板的层状结构示意图；
[0029]图9为本专利技术实施例4中显示面板的层状结构示意图；
[0030]图10为本专利技术实施例5中显示面板的层状结构示意图；
[0031]图11为本专利技术实施例6中显示面板的各单元分布示意图；
[0032]图12为本专利技术实施例6中显示面板的层状结构示意图。
[0033]图中部件表示如下：
[0034]显示面板1；
[0035]指纹识别单元10；
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传感器11；
[0036]超构透镜12、12A、12B；
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纳米天线121；
[0037]纳米天线的长121L；
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纳米天线的宽121W；
[0038]纳米天线的高121H；
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纳米天线的中心线CL；
[0039]第一区122；
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第一区的长S1；
[0040]第一区的宽S2；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：叠层设置的第一基板和第二基板；若干指纹识别单元，每一指纹识别单元中包括：传感器，设于所述第一基板中；至少一超构透镜，设于所述第二基板中，并与所述传感器相对应。2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板包括：阵列基板，所述传感器位于所述阵列基板靠近所述第二基板的一侧。3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：发光层，位于所述阵列基板靠近所述第二基板的一侧，所述传感器位于所述发光层靠近所述第二基板的一侧。4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板包括：黑色矩阵，设于所述第一基板上，所述黑色矩阵具有若干第一通孔和若干第二通孔，每一第二通孔与一指纹识别单元对应；光阻层，设于所述黑色矩阵的第一通孔中；所述超构透镜设于所述第二通孔中或设于所述黑色矩阵的一表面上。5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板还包括一透光层，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李国鹏，黄长治，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：