显示面板及显示面板的制备方法技术

本发明专利技术提供一种显示面板及显示面板的制备方法，显示面板包括第一基板、第二基板，以及设置在第一基板和第二基板之间的黑矩阵层和吸湿层。当外界的水汽进入面板内时，吸湿层可有效地将水汽吸附以保证其密封性能，同时，吸湿层设置在显示面板的非发光区域，不会影响到显示面板的正常显示，在制备该显示面板时，通过转印辊工艺直接将吸湿层转印至黑矩阵层上，制备工艺简单，成本更低，并提高了显示面板的可靠性。可靠性。可靠性。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及显示面板的制备方法
[0001]本专利技术涉及显示面板制造领域，特别是涉及一种显示面板及显示面板的制备方法。

技术介绍

[0002]随着显示面板制造技术的不断提高，人们对显示面板的性能以及质量也提出了更高的要求。
[0003]常用的有机电致发光(organic light
‑
emitting diode，OLED)显示装置主要包括底发光型和顶发光型。其中，相比底发光型OLED型装置而言，顶发光型OLED在相同亮度下的工作电压更低，使用寿命更长，功耗更低。因此，顶发光型OLED显示装置被广泛使用。对于顶发光型OLED，现有的制备工艺中，一般采用反应性金属作为阴极。阴极以及其他内部器件易受氧气和湿气的影响，一旦水氧侵入器件内部后，会严重限制器件的使用寿命，并出现暗点等不良。为降低显示装置内部容易出现侵蚀以及密封的问题，现有技术中，一般会在OLED器件的外围非发光区制作一圈吸水材料，通过吸水材料以吸收外面环境水汽的侵入，进而达到提高密封效果的作用。但是，由于面板窄边框发展趋势，外围非发光区不断被压缩，外围吸湿剂框的宽度也会不断被压缩，从而使得吸湿剂的起到的作用不断降低，并最终导致OLED器件密封效果不理想。
[0004]综上所述，现有的制备技术中，在显示装置的制备工艺以及密封工艺中，在显示装置长时间使用后，外界的水汽等物质容易侵入到装置内部，进而导致显示装置的密封失效，并对显示装置的显示质量造成影响。上述技术问题亟需改善。

技术实现思路

[0005]本专利技术实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法，以有效地提高显示面板的密封性能，阻挡外界的水汽等物质进入到面板内部，并简化制备工艺，提高显示装置可靠性以及综合性能。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供的技术方法如下：
[0007]本专利技术实施例的第一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括像素发光区域和设置在相邻两所述像素发光区域之间的像素非发光区域，所述显示面板包括：
[0008]第一基板和相对所述第一基板设置的第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的黑矩阵层和吸湿层；
[0009]其中，所述吸湿层设置在所述第二基板上，所述黑矩阵层设置在所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上，且所述吸湿层和所述黑矩阵层对应的设置在所述像素非发光区域内。
[0010]根据本专利技术一实施例，所述吸湿层的材料包括吸湿颗粒、溶剂以及分散剂中的至少一种，所述吸湿层的黏度小于50000Mpa
·
s。
[0011]根据本专利技术一实施例，所述吸湿颗粒包括纳米粒子，所述纳米粒子包括IIA族金属和IIA族金属的氧化物中的至少一种。
[0012]根据本专利技术一实施例，所述黑矩阵层的厚度小于10um，且所述黑矩阵层相对所述第一基板表面的锥角大于30
°
。
[0013]根据本专利技术一实施例，所述第二基板包括：
[0014]阵列基板；
[0015]像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上，且设置在所述像素非发光区域对应的位置内；
[0016]发光层，所述发光层设置在所述阵列基板上且覆盖所述像素定义层；
[0017]阴极层，所述阴极层设置在所述发光层上；以及，
[0018]复合阻挡层，所述复合阻挡层设置在所述阴极层上。
[0019]根据本专利技术一实施例，所述复合阻挡层包括有机层和无机层，所述有机层与所述无机层相互交替设置。
[0020]根据本专利技术的第二方面，还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：
[0021]S100：提供第一基板，并在所述第一基板上设置黑矩阵层；
[0022]S101：提供一转印辊，并在所述转印辊上制备转印膜层，所述转印膜层包括吸湿剂；
[0023]S102：将所述转印膜层图案化转印至所述黑矩阵层上，并在所述黑矩阵层上形成吸湿层；
[0024]S103：提供第二基板，在所述第二基板上设置像素定义层，并依次在所述第二基板上设置阳极层、发光层以及阴极层；
[0025]S104：在所述阴极层上制备复合阻挡层，并将所述复合阻挡层与所述吸湿层粘接，得到所述显示面板。
[0026]根据本专利技术一实施例，所述步骤S100中，所述黑矩阵层设置在所述显示面板的所述像素非发光区域内。
[0027]根据本专利技术一实施例，所述步骤S102中，在转印所述转印膜层的过程中，控制所述转印辊的压力，使所述转印膜层在转印时的变形量小于10％。
[0028]根据本专利技术一实施例，所述步骤S104中，在制备所述复合阻挡层时，设置无机阻水层和有机缓冲层依次交叠的复合膜层。
[0029]综上所述，本专利技术实施例的有益效果为：
[0030]本专利技术实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法，通过在显示面板内的黑矩阵层上设置一吸湿层，其中，黑矩阵层和吸湿层均设置在显示面板的显示区域内的对应的非发光区域位置内，当外界的水汽等物质侵入到显示面板内时，设置的吸湿层内的吸湿剂可有效地对水汽等物质进行吸收，从而有效的对显示面板起到密封和保护的作用。进一步的，本专利技术中在制备该显示面板时，通过转印辊直接将吸湿剂层转印至显示面板的黑矩阵层上，制备工艺简单，有效地简化了显示面板的制备工艺流程，同时降低了制备成本，提高了显示面板的可靠性和显示质量。
附图说明
[0031]下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其它有益效果更显而易见。
[0032]图1为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图；
[0033]图2为本专利技术实施例提供的显示面板的制备工艺流程图；
[0034]图3为本专利技术实施例提供的转印工艺流程示意图；
[0035]图4为本专利技术实施例提供的第二基板的膜层结构示意图；
[0036]图5为本专利技术实施例提供的显示面板的俯视图。
具体实施方式
[0037]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0038]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，所述显示面板包括像素发光区域和设置在相邻两所述像素发光区域之间的像素非发光区域，其特征在于，所述显示面板包括：第一基板和相对所述第一基板设置的第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的黑矩阵层和吸湿层；其中，所述吸湿层设置在所述第二基板上，所述黑矩阵层设置在所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上，且所述吸湿层和所述黑矩阵层对应的设置在所述像素非发光区域内。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述吸湿层的材料包括吸湿颗粒、溶剂以及分散剂中的至少一种。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述吸湿颗粒包括纳米粒子，所述纳米粒子包括IIA族金属和IIA族金属的氧化物中的至少一种。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵层的厚度小于10um，且所述黑矩阵层相对所述第一基板表面的锥角大于30
°
。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板包括：阵列基板；像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上，且设置在所述像素非发光区域对应的位置内；发光层，所述发光层设置在所述阵列基板上且覆盖所述像素定义层；阴极层，所述阴极层设置在所述发光层上；以及，复合阻挡层，所述复合阻...

【专利技术属性】
技术研发人员：万之君，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：