OLED显示面板及其制备方法技术

本申请提供一种OLED显示面板及其制备方法，OLED显示面板包括同层且绝缘设置的辅助电极和阳极，所述辅助电极上方区域的所述像素定义层形成有过孔，所述过孔的内侧壁形成有底腔、以及设置在所述底腔上方的悬空部，阴极通过过孔延伸至底腔内与辅助电极触接，降低了阴极的电流压降。极的电流压降。极的电流压降。

【技术实现步骤摘要】
OLED显示面板及其制备方法


[0001]本申请涉及OLED显示
，具体涉及一种OLED显示面板及其制备方法。

技术介绍

[0002]现有OLED显示面板的阴极因为面积大、厚度薄，因此阴极的电阻较大，存在电流压降(IR
‑
drop)严重，导致OLED显示面板有明显的亮度不均匀。
[0003]现有技术通常提供一辅助电极与所述金属阴极搭接来降低电流压降，通常采用在阴极和辅助电极之间设置倒梯形的隔离柱，但是隔离柱体积占比大，影响开口率和封装，而且原材料的选择性较少，制作工艺变得复杂，降低生产效率。
[0004]因此，现有OLED显示面板存在阴极电流压降大导致亮度不均的技术问题。

技术实现思路

[0005]本申请实施例提供一种OLED显示面板和一种OLED显示面板制备方法，可以缓解现有OLED显示面板存在阴极电流压降大导致亮度不均的技术问题。
[0006]本申请实施例提供一种OLED显示面板制备方法，包括：
[0007]提供一衬底；
[0008]在所述衬底上制备驱动电路层；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板制备方法，其特征在于，包括：提供一衬底；在所述衬底上制备驱动电路层；在所述驱动电路层上制备阳极和辅助电极，所述辅助电极与所述阳极同层且绝缘设置；在所述辅助电极上表面制备牺牲层；在所述平坦层上制备得到像素定义层，所述像素定义层包括使部分所述牺牲层及部分所述辅助电极裸露的过孔；去除所述牺牲层，以在所述像素定义层与所述辅助电极之间形成底腔；在所述像素定义层上制备发光层以及阴极，所述阴极在所述底腔内与所述辅助电极触接。2.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，在所述像素定义层上制备得到发光层的步骤还包括：制备发光层时采用第一蒸镀角，使发光层未完全覆盖所述底腔下方的所述辅助电极。3.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，制备得到阴极的步骤还包括：制备所述阴极时采用第二蒸镀角，在所述底腔内形成所述阴极，所述阴极与所述辅助电极在所述底腔内触接。4.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，去除所述牺牲层形成所述底腔的步骤还包括：提供一氢氟酸刻蚀液，整面用氢氟酸刻蚀液对所述牺牲层进行湿法刻蚀，去除所述牺牲层并形成所述底腔。5.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，制备得到牺牲层的步骤还包括：形成一氧化硅、氮化硅或氮氧化硅膜层，将所述氧化硅、氮化硅或氮氧化硅膜层形成所述牺牲层，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡威威，林高波，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：