一种硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片清洗装置，包括预清洗槽、第一药洗槽、第一漂洗槽、第二药洗槽和第二溢流漂洗槽，所述第二溢流漂洗槽的溢流水箱连接有泵体，所述泵体出水端连接有热交换器；所述热交换器的一端连接预清洗槽的进水管，另一端连接第二溢流漂洗槽的纯水进水管。本实用新型专利技术的硅片清洗装置大大降低了电耗，节约了用电量；现有的单台清洗机每天按照48吨水耗量计算，每天耗电量约275kWH，而本实用新型专利技术单台装置每天耗电量约200kWH，每天节约了电耗75kWH，每年可节约电费约27%；本装置容易改造实现，具有很高的实用价值。具有很高的实用价值。具有很高的实用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗装置


[0001]本技术涉及太阳能硅片清洗
，具体涉及一种硅片清洗装置。

技术介绍

[0002]随着光伏太阳能技术的快速发展，“降本增效”是光伏行业技术发展的核心目标。目前的硅片清洗机，包括预清洗槽、药洗槽、漂洗槽和溢流漂洗槽，各个槽的进水均为常温状态，但是清洗工艺对温度的要求为40～90℃，其中溢流漂洗槽的温度要求为50～90℃，其他槽的温度要求为40～50℃，因此现有的硅片清洗机电耗非常大，最终导致硅片清洗的成本很高。

技术实现思路

[0003]专利技术目的：本技术的目的是提出一种硅片清洗装置，能够降低电耗，进而降低硅片清洗成本。
[0004]技术方案：本技术所采用的技术方案如下：
[0005]一种硅片清洗装置，包括预清洗槽、第一药洗槽、第一漂洗槽、第二药洗槽和第二溢流漂洗槽，所述第二溢流漂洗槽的溢流水箱连接有泵体，所述泵体出水端连接有热交换器；所述热交换器的一端连接预清洗槽的进水管，另一端连接第二溢流漂洗槽的纯水进水管。
[0006]优选的，所述第二溢流漂洗槽包括依次设置的第一分槽本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，包括预清洗槽（1）、第一药洗槽（2）、第一漂洗槽（3）、第二药洗槽（4）和第二溢流漂洗槽（5），其特征在于：所述第二溢流漂洗槽（5）的溢流水箱（6）连接有泵体（7），所述泵体（7）出水端连接有热交换器（8）；所述热交换器（8）的一端连接预清洗槽（1）的进水管，另一端连接第二溢流漂洗槽（5）的纯水进水管。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述第二溢流漂洗槽（5）包括依次设置的第一分槽（51）、第二分槽（52）、第三分槽（53）和第四分槽（54），第一分槽（51）、所述第二分槽（52）和第三分槽（53）上设置有溢流孔，所述第一分槽（51）连接有溢流水箱（6）。3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述预清洗槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈涛，岳维维，孟祥熙，赵艳，
申请(专利权)人：常州时创能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：