一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法制造方法及图纸

技术编号:29143036 阅读:42 留言:0更新日期:2021-07-06 22:36
本发明专利技术公开了一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法,所述装置包括挂钩组件、第一腔体、第二腔体和第三腔体,挂钩组件贯穿第一腔体的一端面,与第一腔体转动连接;第一腔体的另一端面与第二腔体的一端面固定连接;第二腔体的另一端面与第三腔体的一端面固定连接;第二腔体包括氩气腔体、排气腔体和固定在氩气腔体和排气腔体间的隔板;氩气腔体的侧面固定连接有进气阀,排气腔体与第三腔体连通;隔板上固定连接有热敏开关控制阀,热敏开关控制阀固定连接有回旋式排气道;第三腔体内固定连接有涡轮式导气盘,第三腔体侧面开设有两个以上的排气孔。使用该装置能够将热屏内壁的硅粉清理干净,避免拉晶时硅粉掉落对于炉台成晶的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法
本专利技术属于单晶硅制造领域,具体涉及一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法。
技术介绍
随着一炉多根工艺在单晶行业内的广泛推广,在单晶炉内二次加料次数不断增加。由于二次加料时会产生大量的硅粉附着在单晶炉热屏的内壁,拉晶时硅粉受气流的影响极易掉落,当硅粉粘附于晶体结晶界面时就会导致断棱。现有的方法一是在原料破碎时减少粉末料的产生,二是加料时将原料再次过筛尽可能的去除粉末料。但由于加料时原料自带粉末料同时料块互相挤压磕碰还会产生一部分粉末料,现有方法无法有效避免加料时硅粉附着在热屏内壁。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种自旋式热屏快速清理装置和使用方法。为了解决上述技术问题,本专利技术第一方面公开了一种自旋式热屏快速清理装置,包括挂钩组件、第一腔体、第二腔体和第三腔体,所述挂钩组件贯穿第一腔体的一端面,与第一腔体转动连接;所述第一腔体的另一端面与第二腔体的一端面固定连接,所述第一腔体和第二腔体隔离;所述第二腔体的另一端面与第三腔体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自旋式热屏快速清理装置,其特征在于,包括挂钩组件(1)、第一腔体(2)、第二腔体(4)和第三腔体(9),所述挂钩组件(1)贯穿第一腔体(2)的一端面,与第一腔体(2)转动连接;所述第一腔体(2)的另一端面与第二腔体(4)的一端面固定连接,所述第一腔体(2)和第二腔体(4)隔离;所述第二腔体(4)的另一端面与第三腔体(9)的一端面固定连接;所述第二腔体(4)包括氩气腔体(41)、排气腔体(42)和固定在氩气腔体(41)和排气腔体(42)之间的隔板(43);所述氩气腔体(41)的侧面固定连接有进气阀(3),所述排气腔体(42)与第三腔体(9)连通;所述隔板(43)上固定连接有热敏开关控制阀...

【技术特征摘要】
1.一种自旋式热屏快速清理装置,其特征在于,包括挂钩组件(1)、第一腔体(2)、第二腔体(4)和第三腔体(9),所述挂钩组件(1)贯穿第一腔体(2)的一端面,与第一腔体(2)转动连接;所述第一腔体(2)的另一端面与第二腔体(4)的一端面固定连接,所述第一腔体(2)和第二腔体(4)隔离;所述第二腔体(4)的另一端面与第三腔体(9)的一端面固定连接;所述第二腔体(4)包括氩气腔体(41)、排气腔体(42)和固定在氩气腔体(41)和排气腔体(42)之间的隔板(43);所述氩气腔体(41)的侧面固定连接有进气阀(3),所述排气腔体(42)与第三腔体(9)连通;所述隔板(43)上固定连接有热敏开关控制阀(5),所述热敏开关控制阀(5)固定连接有回旋式排气道(6);所述第三腔体(9)内固定连接有涡轮式导气盘(7),第三腔体(9)侧面开设有两个以上的排气孔(8)。


2.根据权利要求1所述的一种自旋式热屏快速清理装置,其特征在于,所述挂钩组件(1)包括挂钩(11)、连接杆(12)和限位块(13),所述连接杆(12)的一端固定连接挂钩(11),连接杆(12)的另一端固定连接限位块(13),所述限位块(13)位于第一腔体(2)内部。


3.根据权利要求2所述的一种自旋式热屏快速清理装置,其特征在于,所述第一腔体(2)的一端面固定连接有旋转轴承(21),所述旋转轴承(21)与连接杆(12)转动连接。


4.根据权利要求1所述的一种自旋式热屏快速清理装置,其特征在于,所述第三腔体(9)侧面的排气孔(8)等间距设置,每个排气孔(8)的大小均相同。


5.根据权利要求1所述的一种自旋式热...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑伟扬王思锋周宇李莎焦岳卫
申请(专利权)人:宁夏协鑫晶体科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:宁夏;64

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1