一种改善旋转喷涂制备NiZn铁氧体薄膜性能的方法技术

一种改善旋转喷涂制备NiZn铁氧体薄膜性能的方法，属于薄膜制备技术领域。包括：1)清洗基板；2)将可溶性二价铁盐、镍盐、锌盐加入去离子水中，配制还原反应液；将亚硝酸钠、乙酸盐、乙酸加入去离子水中，配制氧化反应液；3)在基板温度90～95℃、旋转速度100～150r/min、氧化和还原反应液的供应速率0.6～1.0L/h、超声雾化功率2～3W的条件下，沉积10～60min。本发明专利技术通过在氧化液中预先构建乙酸‑乙酸钠缓冲对，提高溶液反应体系中OH

【技术实现步骤摘要】
一种改善旋转喷涂制备NiZn铁氧体薄膜性能的方法
本专利技术属于薄膜制备
，具体涉及一种改善旋转喷涂制备NiZn铁氧体薄膜性能的方法。
技术介绍
针对片上系统(SoC)用片上电感的薄膜磁心需求，需要重点解决高性能磁性薄膜低温沉积问题。金属薄膜虽然晶化温度低，但由于其电阻率低，导致涡流损耗大，无法应用于高频，而NiZn铁氧体磁性薄膜凭借高电阻率与优异的绝缘性能，在高频段具有不可比拟的优势。传统制备铁氧体薄膜的方法包括溅射法、脉冲激光沉积法、喷雾热解法、化学气相沉积法和溶胶-凝胶法，上述铁氧体制备方法需要高温退火处理(＞800℃)才能实现完全结晶，难以与半导体工艺兼容并在SoC上集成。采用旋转喷涂法制备铁氧体薄膜，反应液能够和半导体工艺中各种基板材料浸润，并且在空气中90～95℃下即可完成晶化，无需退火处理，与脉冲激光沉积等传统方法相比，其生产成本低得多。M.Abe(M.Abe,Y.Tamaura,Ferrite-PlatinginAqueousSolution:ANewMethodforPreparingMagneticThinFi本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种改善旋转喷涂制备NiZn铁氧体薄膜性能的方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤1、清洗基板，自然晾干；/n步骤2、配制氧化反应液和还原反应液：将可溶性二价铁盐、镍盐、锌盐加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到还原反应液，还原反应液中，二价铁盐的浓度为10～14mmol/L，镍盐的浓度为2～4mmol/L，锌盐的浓度为0.2～0.8mmol/L；将亚硝酸钠、乙酸盐、乙酸加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到氧化反应液，氧化反应液中，亚硝酸钠的浓度为1～3mmol/L，乙酸盐的浓度为9～27mmol/L，乙酸的体积分数为0.02～0.2％；/n步骤3、将步骤1清洗后的基板放置于旋转喷涂设备的加热...

【技术特征摘要】
1.一种改善旋转喷涂制备NiZn铁氧体薄膜性能的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、清洗基板，自然晾干；
步骤2、配制氧化反应液和还原反应液：将可溶性二价铁盐、镍盐、锌盐加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到还原反应液，还原反应液中，二价铁盐的浓度为10～14mmol/L，镍盐的浓度为2～4mmol/L，锌盐的浓度为0.2～0.8mmol/L；将亚硝酸钠、乙酸盐、乙酸加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到氧化反应液，氧化反应液中，亚硝酸钠的浓度为1～3mmol/L，乙酸盐的浓度为9～27mmol/L，乙酸的体积分数为0.02～0.2％；
步骤3、将步骤1清洗后的基板放置于旋转喷涂设备的加热板中央，在基板温度为90～95℃、旋转速度为100～...

【专利技术属性】
技术研发人员：余忠，冉茂君，孙科，邬传健，青豪，蒋晓娜，兰中文，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川;51