用于电镀清理的水分检测循环装置制造方法及图纸

本申请涉及用于电镀清理的水分检测循环装置，属于电镀的领域，包括与检测水箱连通的水分处理箱体，水分处理箱体内设置有底板，底板的承载面设有若干个隔板，相邻隔板开设有在高度方向上交错设置的分水口，隔板与水分处理箱体侧壁之间以及相邻隔板之间设有过滤层，水分处理箱体开设有进水口，靠近进水口的分水口位于隔板靠近底板的一侧，底板远离进水口的一侧开设有与检测水箱连通的出水口；本申请能够提高水的过滤效果。

【技术实现步骤摘要】
用于电镀清理的水分检测循环装置
本申请涉及电镀的领域，尤其是涉及用于电镀清理的水分检测循环装置。
技术介绍
电镀是一种利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术，改变基材表面性质或尺寸，增强金属的抗腐蚀性和硬度；电镀中有一个环节为清洗，清洗需要用到纯水，为减少纯水中的杂质，需要对纯水进行过滤和检测。公告号为CN208888030U的中国专利文献公开了一种水分检测循环装置，包括水分处理装置、检测装置、第一管路和第二管路，水分处理装置通过第一管路连接于检测装置，检测装置通过第二管路连接于检测装置，检测装置包括检测水箱以及作用于检测水箱的水质离子检测仪，第二管路上设有抽水泵，形成一闭环结构，使得水分制备和检测形成一个循环，水分处理装置从上至下依次分为过滤层、逆渗透层、树脂处理层以及杀菌层，从而提高水分的纯度。然而上述水分处理装置的设计使得水分与水分处理装置的接触不够充分，影响水的过滤效果。
技术实现思路
为了提高水的过滤效果，本申请提供用于电镀清理的水分检测循环装置。本申请本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于电镀清理的水分检测循环装置，其特征在于：包括与检测水箱(11)连通的水分处理箱体(1)，所述水分处理箱体(1)内设置有底板(3)，所述底板(3)的承载面设有若干个隔板(32)，相邻所述隔板(32)开设有在高度方向上交错设置的分水口(33)，所述隔板(32)与所述水分处理箱体(1)侧壁之间以及相邻所述隔板(32)之间设有过滤层(5)，所述水分处理箱体(1)开设有进水口(22)，靠近所述进水口(22)的所述分水口(33)位于所述隔板(32)靠近所述底板(3)的一侧，所述底板(3)远离所述进水口(22)的一侧开设有与所述检测水箱(11)连通的出水口(34)。/n

【技术特征摘要】
1.用于电镀清理的水分检测循环装置，其特征在于：包括与检测水箱(11)连通的水分处理箱体(1)，所述水分处理箱体(1)内设置有底板(3)，所述底板(3)的承载面设有若干个隔板(32)，相邻所述隔板(32)开设有在高度方向上交错设置的分水口(33)，所述隔板(32)与所述水分处理箱体(1)侧壁之间以及相邻所述隔板(32)之间设有过滤层(5)，所述水分处理箱体(1)开设有进水口(22)，靠近所述进水口(22)的所述分水口(33)位于所述隔板(32)靠近所述底板(3)的一侧，所述底板(3)远离所述进水口(22)的一侧开设有与所述检测水箱(11)连通的出水口(34)。


2.根据权利要求1所述的用于电镀清理的水分检测循环装置，其特征在于：所述底板(3)的各侧侧边设有相互连接的侧板(31)，所述侧板(31)与所述水分处理箱体(1)的侧壁连接，所述隔板(32)连接于相对设置的两侧所述侧板(31)之间。


3.根据权利要求2所述的用于电镀清理的水分检测循环装置，其特征在于：所述侧板(31)设有连接边(6)，所述水分处理箱体(1)的侧壁围设有用于承托所述连接边(6)的支撑台(61)。


4.根据权利要求3所述的用于电镀清理的水分检测循环装置，其特征在于：所述连接边(6)开设有连接槽(63)，所述支撑台(61)对应所述连接槽(63...

【专利技术属性】
技术研发人员：林惠娟，黎应伦，董永全，刘宁波，王尧容，
申请(专利权)人：嘉讯科技深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44