用于电镀清理的水分检测循环装置制造方法及图纸

技术编号:29133028 阅读:29 留言:0更新日期:2021-07-02 22:28
本申请涉及用于电镀清理的水分检测循环装置,属于电镀的领域,包括与检测水箱连通的水分处理箱体,水分处理箱体内设置有底板,底板的承载面设有若干个隔板,相邻隔板开设有在高度方向上交错设置的分水口,隔板与水分处理箱体侧壁之间以及相邻隔板之间设有过滤层,水分处理箱体开设有进水口,靠近进水口的分水口位于隔板靠近底板的一侧,底板远离进水口的一侧开设有与检测水箱连通的出水口;本申请能够提高水的过滤效果。

【技术实现步骤摘要】
用于电镀清理的水分检测循环装置
本申请涉及电镀的领域,尤其是涉及用于电镀清理的水分检测循环装置。
技术介绍
电镀是一种利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术,改变基材表面性质或尺寸,增强金属的抗腐蚀性和硬度;电镀中有一个环节为清洗,清洗需要用到纯水,为减少纯水中的杂质,需要对纯水进行过滤和检测。公告号为CN208888030U的中国专利文献公开了一种水分检测循环装置,包括水分处理装置、检测装置、第一管路和第二管路,水分处理装置通过第一管路连接于检测装置,检测装置通过第二管路连接于检测装置,检测装置包括检测水箱以及作用于检测水箱的水质离子检测仪,第二管路上设有抽水泵,形成一闭环结构,使得水分制备和检测形成一个循环,水分处理装置从上至下依次分为过滤层、逆渗透层、树脂处理层以及杀菌层,从而提高水分的纯度。然而上述水分处理装置的设计使得水分与水分处理装置的接触不够充分,影响水的过滤效果。
技术实现思路
为了提高水的过滤效果,本申请提供用于电镀清理的水分检测循环装置。本申请提供的用于电镀清理的水分检测循环装置采用如下的技术方案:用于电镀清理的水分检测循环装置,包括与检测水箱连通的水分处理箱体,所述水分处理箱体内设置有底板,所述底板的承载面设有若干个隔板,相邻所述隔板开设有在高度方向上交错设置的分水口,所述隔板与所述水分处理箱体侧壁之间以及相邻所述隔板之间设有过滤层,所述水分处理箱体开设有进水口,靠近所述进水口的所述分水口位于所述隔板靠近所述底板的一侧,所述底板远离所述进水口的一侧开设有与所述检测水箱连通的出水口。通过采用上述技术方案,水从进水口流入,再从出水口流入检测水箱,隔板和分水口的设置起到引导水流的作用,使得水经过水分处理箱体的路径变长,提高水与过滤层的接触程度,从而提高水每次循环的过滤效果,进而提高电镀清理的效果。可选的,所述底板的各侧侧边设有相互连接的侧板,所述侧板与所述水分处理箱体的侧壁连接,所述隔板连接于相对设置的两侧所述侧板之间。通过采用上述技术方案,侧板的设置可以避免水从底板与水分处理箱体侧壁间的缝隙流走,从而使得水经过充分的过滤。可选的,所述侧板设有连接边,所述水分处理箱体的侧壁围设有用于承托所述连接边的支撑台。通过采用上述技术方案,需要更换过滤层时,可以将侧板连同底板从水分处理箱体中取出,提高更换效率。可选的,所述连接边开设有连接槽,所述支撑台对应所述连接槽的位置开设有连接块,所述连接块卡接于所述连接槽。通过采用上述技术方案,连接块卡接于连接槽,提高侧板与水分处理箱体连接的稳定性,从而提高过滤时的稳定性。可选的,所述连接块滑动连接有挡块,所述挡块与所述连接边背离所述支撑台的一面抵接。通过采用上述技术方案,滑动挡块可以方便的用挡块阻止连接边与支撑台分离,进一步提高侧板与水分处理箱体连接的稳定性。可选的,所述过滤层沿所述隔板的高度方向设置有多个。通过采用上述技术方案,增加过滤层的数量以提高过滤水的效果。可选的,所述隔板与所述侧板之间以及相邻所述隔板之间均沿高度方向滑动连接有多个安装盒,所述过滤层设置于所述安装盒内,所述安装盒的底壁开设有多个出水孔,所述安装盒背离所述底板的一侧开口设置,所述隔板与所述侧板设置有用于承托靠近所述底板的所述安装盒的支撑条,所述安装盒的底壁高于靠近所述底板的所述分水口,所述安装盒的顶侧低于远离所述底板的所述分水口。通过采用上述技术方案,不同种类的过滤层可以放置于相应的安装盒,便于调整水经过不同过滤层的顺序,提高过滤效果。可选的,所述安装盒的底部设有卡接块,所述安装盒的顶部开设有与所述卡接块卡接的卡接槽。通过采用上述技术方案,卡接块卡接于卡接槽,提高安装盒之间连接时的稳定性,提高过滤效果。综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:水分处理箱体对水进行过滤时,水从进水口流入,再从出水口流入检测水箱,隔板和分水口的设置起到引导水流的作用,使得水经过水分处理箱体的路径变长,提高水与过滤层的接触程度,从而提高水每次循环的过滤效果,进而提高电镀清理的效果。过滤层设置于安装盒,便于调整水经过不同过滤层的顺序,同时便于更换相应的过滤层,提高过滤效果。附图说明图1是本申请实施例的剖面结构图。图2是本申请实施例的连接边和连接块的剖面结构图。附图标记说明:1、水分处理箱体;11、检测水箱;12、支撑脚;13、循环水管;14、出水管;15、循环泵;2、盖板;21、进水管;22、进水口;3、底板;31、侧板;32、隔板;33、分水口;34、出水口;4、安装盒;41、第一流通部;42、第二流通部;43、第三流通部;44、出水孔;45、支撑条;46、卡接块;5、过滤层;6、连接边;61、支撑台;62、连接块;63、连接槽;64、滑槽;65、滑块;66、挡块。具体实施方式以下结合附图1-2对本申请作进一步详细说明。本申请实施例公开用于电镀清理的水分检测循环装置。如图1所示,用于电镀清理的水分检测循环装置包括水分处理箱体1、检测水箱11和循环水管13,水分处理箱体1的底部设有支撑脚12,检测水箱11设置于水分处理箱体1的底部,水分处理箱体1与检测水箱11之间连通有出水管14,检测水箱11设有水质检测仪和排水阀门,循环水管13连通于水分处理箱体1与检测水箱11之间,循环水管13安装有循环泵15。水经过水分处理箱体1处理后沿出水管14流入检测水箱11,水质检测仪用于检测水质是否合格,水质合格则经过排水阀门排走,若水质不合格则由循环水管13将水引导回水分处理箱体1,进行再一次处理。水分处理箱体1的顶部设置有盖板2,盖板2通过螺栓与水分处理箱体1固定连接;盖板2的一侧连通有进水管21,进水管21连通于水分处理箱体1内的管口设为进水口22,循环水管13的一端与进水管21的侧壁连通,使得待处理的水以及检测水箱11内的水均可以经过进水管21流入水分处理箱体1。水分处理箱体1内设置有底板3和侧板31,底板3平行于盖板2设置,侧板31设置有四个且垂直固定于底板3的四侧侧边,侧板31朝靠近盖板2的方向延伸;底板3的承载面垂直固定有两个相互平行隔板32,两个隔板32等距分布,隔板32的两端与相对设置的两个侧板31固定,从而将底板3与侧板31围成的空间分成第一流通部41、第二流通部42和第三流通部43,第一流通部41、第二流通部42和第三流通部43依次相邻设置,第一流通部41正对于进水口22的下方。隔板32开设有分水口33,其中,位于第一流通部41与第二流通部42之间的分水口33靠近底板3设置,位于第二流通部42与第三流通部43之间的分水口33远离底板3设置,使得两个分水口33的高度交错设置;底板3开设有出水口34,出水口34位于第三流通部43;水从进水口22流入底板3与侧板31形成的空间内,由于分水口33的设置高度不同,使得水本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于电镀清理的水分检测循环装置,其特征在于:包括与检测水箱(11)连通的水分处理箱体(1),所述水分处理箱体(1)内设置有底板(3),所述底板(3)的承载面设有若干个隔板(32),相邻所述隔板(32)开设有在高度方向上交错设置的分水口(33),所述隔板(32)与所述水分处理箱体(1)侧壁之间以及相邻所述隔板(32)之间设有过滤层(5),所述水分处理箱体(1)开设有进水口(22),靠近所述进水口(22)的所述分水口(33)位于所述隔板(32)靠近所述底板(3)的一侧,所述底板(3)远离所述进水口(22)的一侧开设有与所述检测水箱(11)连通的出水口(34)。/n

【技术特征摘要】
1.用于电镀清理的水分检测循环装置,其特征在于:包括与检测水箱(11)连通的水分处理箱体(1),所述水分处理箱体(1)内设置有底板(3),所述底板(3)的承载面设有若干个隔板(32),相邻所述隔板(32)开设有在高度方向上交错设置的分水口(33),所述隔板(32)与所述水分处理箱体(1)侧壁之间以及相邻所述隔板(32)之间设有过滤层(5),所述水分处理箱体(1)开设有进水口(22),靠近所述进水口(22)的所述分水口(33)位于所述隔板(32)靠近所述底板(3)的一侧,所述底板(3)远离所述进水口(22)的一侧开设有与所述检测水箱(11)连通的出水口(34)。


2.根据权利要求1所述的用于电镀清理的水分检测循环装置,其特征在于:所述底板(3)的各侧侧边设有相互连接的侧板(31),所述侧板(31)与所述水分处理箱体(1)的侧壁连接,所述隔板(32)连接于相对设置的两侧所述侧板(31)之间。


3.根据权利要求2所述的用于电镀清理的水分检测循环装置,其特征在于:所述侧板(31)设有连接边(6),所述水分处理箱体(1)的侧壁围设有用于承托所述连接边(6)的支撑台(61)。


4.根据权利要求3所述的用于电镀清理的水分检测循环装置,其特征在于:所述连接边(6)开设有连接槽(63),所述支撑台(61)对应所述连接槽(63...

【专利技术属性】
技术研发人员:林惠娟黎应伦董永全刘宁波王尧容
申请(专利权)人:嘉讯科技深圳有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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