【技术实现步骤摘要】
一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺
本专利技术涉及一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺。
技术介绍
当代集成电路的发展进程中，紫外光刻技术起着不可替代的作用。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。常规光刻机需要定制光学掩模板，不但价格高，且灵活性差。任何设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较低。近些年，基于空间光调制器(DMD/DLP)的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。传统使用掩膜版进行光刻需要首先设计版图，进而送去加工，周期比较长，设计细节需要反复的推敲，而激光直写光刻需要逐行扫描，且设备较昂贵。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术的目的是提供一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺。为实现上述目的，本专利技术采
【技术保护点】
1.一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺，其特征在于：将已经设计的图形采用软件处理生成黑白二值的位图图像，接着传入DMD，利用DMD的特性使紫外光对应位图图像的部分反射，黑色区域不会反射紫外光，白色区域反射紫外光，使样品得到正确的曝光，完成光刻。/n
【技术特征摘要】
1.一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺，其特征在于：将已经设计的图形采用软件处理生成黑白二值的位图图像，接着传入DMD，利用DMD的特性使紫外光对应位图图像的部分反射，黑色区域不会反射紫外光，白色区域反射紫外光，使样品得到正确的曝光，完成光刻。
2.根据权利要求1所述的一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯捷，吴阳，严振中，刘威，
申请(专利权)人：赫智科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。