为测量系统确定队列匹配问题和根本原因要点技术方案

公开了用于确定正在测试的测量系统（ＭＳＵＴ）是否匹配包括至少一个其它测量系统的队列的方法、系统和程序产品。本发明专利技术实现了用于分析匹配问题的真实参数，包括单工具精度、工具对工具非线性、以及工具对工具偏差。然后，实现将这些参数组合为单值的底线工具匹配精度尺度。本发明专利技术还包括用于确定匹配问题的根本原因（ｓ１０）、以及用于确定队列测值精度尺度（ｓ４）的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般涉及测量系统，并且更具体地，涉及确定正进行测试的测量系统对包括至少一个其它测量系统的队列(fleet)的匹配问题，并且还确定该匹配问题的根本原因要点(root cause issue)。
技术介绍
在需要精确和准确的测量的多种行业(如半导体制造)中应用测量系统。对于单独的测量系统以及一队测量系统，存在有关实现质量测量的挑战。对于单独得测量系统，一般需要每个工具实现小容限，以在制造过程中获得更好质量的产品和更少的废品。例如，在半导体制造业中，半导体国际技术指标的1999版(ITRS精度规范)列出了在2001年的绝缘线控所需的必要精度是1.8nm。由于多种原因，难以正确地评价和优化测量系统的测量潜力。例如，评估器通常对所考虑的各种仪器具有有限的访问手段。此外，每个仪器需要在宽范围的条件下进行评估，以便获得它在实际制造设置中将如何执行的有效的印象。最后，还没有关于所需的参数以及应如何测量参数的、广泛被接受的标准。通过引用在此合并的PCT公布WO/2004/059247中公开的一种方法涉及：通过基于精度和准确度而确定总测量不确定度(TMU)，来评价和优化测量系统。基于线性回归本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种确定正在测试的测量系统（ＭＳＵＴ）是否匹配包括至少一个其它测量系统的队列的方法，该方法包括如下步骤：　基于包括人工制品的ＭＳＵＴ测值与基准测量系统（ＢＭＳ）对该人工制品的基准测值之间的斜率引起的偏移偏差（ＳＩＳＯｆｆｓｅｔ）、以及对ＭＳＵＴ和ＢＭＳ进行比较的线性回归分析的非线性（σ↓［ｎｏｎ－ｌｉｎｅａｒｉｔｙ］）的参数组，来计算工具匹配精度（ｓ１）；以及　确定所述工具匹配精度是否满足匹配阈值（ｓ２），其中，在满足所述匹配阈值的情况下，视为所述ＭＳＵＴ是匹配的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2005-2-25 60/656,162;US 2005-2-25 11/065,740;US1、一种确定正在测试的测量系统(MSUT)是否匹配包括至少一个其它测量系统的队列的方法，该方法包括如下步骤：基于包括人工制品的MSUT测值与基准测量系统(BMS)对该人工制品的基准测值之间的斜率引起的偏移偏差(SISOffset)、以及对MSUT和BMS进行比较的线性回归分析的非线性(σnon-linearity)的参数组，来计算工具匹配精度(s1)；以及确定所述工具匹配精度是否满足匹配阈值(s2)，其中，在满足所述匹配阈值的情况下，视为所述MSUT是匹配的。2、如权利要求1所述的方法，其中，所述参数组还包括：对MSUT和BMS进行比较的线性回归分析的斜率，MSUT的精度，人工制品的MSUT测值与BMS对该人工制品的基准测值之间的平均偏差，人工制品的基准测值和该人工制品的队列平均测值之间的BMS平均偏差，以及人工制品的基准测值和该人工制品的队列平均测值之间的、BMS斜率引起的偏差。3、如权利要求2所述的方法，其中，计算步骤(s1)将所述工具匹配精度定义为：TMP=3βMSUT2σMSUT2+(offset-offsetBMS)2+(SISoffset-SISoffsetBMS)2+σnon-linearity2,]]>其中，TMP是工具匹配精度，βMSUT是线性回归分析的斜率，σMSUT是MSUT的精度，offset是平均偏差，offsetBMS是BMS平均偏差，SISoffset是斜率引起的偏移偏差，SISoffsetBMS是BMS偏移引起的偏差，而σnon-linearity是非线性。4、如权利要求1所述的方法，其中，在所述队列仅仅包括一个其它测量系统时，所述参数组还包括：对MSUT和BMS进行比较的线性回归分析的斜率，MSUT的精度，以及人工制品的MSUT测值与BMS对该人工制品的基准测值之间的平均偏差。5、如权利要求4所述的方法，其中计算步骤(s1)将所述工具匹配精度定义为：TMP2=3β2,MSUT2σMSUT2+offset224+SISoffset224+σ2,non-linearity24]]>其中TMP2是工具匹配精度，β2，MSUT是线性回归分析的斜率，σMSUT是MSUT的精度，offset2是平均偏差，SISoffset2是斜率引起的偏移偏差，而σ2，non-linearity是非线性。6、如权利要求1所述的方法，其中计算步骤(s1)将所述斜率引起的偏移偏差定义为：SISoffset＝υ(过程窗口大小)(1-βMSUT)，其中，SISoffset是斜率引起的偏移偏差，υ是用户可选择的过程窗口大小或数据范围的分数，而βMSUT是对MSUT和BMS进行比较的线性回归分析的斜率。7、如权利要求1所述的方法，其中计算步骤(s1)采用Mandel回归分析，并且将非线性定义为：σ2non-linearity＝σ2Mandel Residual-σ2BMS-σ2MS...

【专利技术属性】
技术研发人员：查尔斯N阿奇，小乔治W班克，埃里克P索利基，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]