一种陶瓷抛光装置及其抛光方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种陶瓷抛光装置及其抛光方法，所述装置包括：抛光盆，用于盛装抛光溶液；抛光模，用于放置待加工陶瓷，所述抛光模设置于所述抛光盆中；搅拌棒，用于搅拌所述抛光盆中的所述抛光溶液；转动轴，设置于所述抛光盆的底部，用于驱动所述抛光盆和所述抛光模转动而使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理并且使得所述抛光溶液流动，能够有效地提高陶瓷的去除率。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷抛光装置及其抛光方法
本专利技术涉及镜片加工领域，特别涉及一种陶瓷抛光装置及其抛光方法。
技术介绍
陶瓷作为一种优良的反射镜材料，已经逐渐被应用到红外光学系统中；而由于陶瓷本身的莫氏硬度比较大，这就决定了它的精细加工工序很繁琐，精度加工很困难，由于效率太低最终导致产能产量严重不足，不能大规模化量产。目前对陶瓷的加工一般采用莫氏硬度更大、速率更快的金刚石研磨液进行研磨来达到一定的厚度，最后用传统的CMP抛光液精抛到要求的表面状态。然而，目前的陶瓷抛光方法存在着材料去除率较低的问题。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种陶瓷抛光装置，能够有效地提高陶瓷的去除率。本专利技术还提出一种基于上述陶瓷抛光装置的陶瓷抛光方法。根据本专利技术第一方面实施例的陶瓷抛光装置，包括：抛光盆，用于盛装抛光溶液；抛光模，用于放置待加工陶瓷，所述抛光模设置于所述抛光盆中；搅拌棒，用于搅拌所述抛光盆中的所述抛光溶液；转动轴，设置于所述抛光盆的底部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷抛光装置，其特征在于，包括：/n抛光盆，用于盛装抛光溶液；/n抛光模，用于放置待加工陶瓷，所述抛光模设置于所述抛光盆中；/n搅拌棒，用于搅拌所述抛光盆中的所述抛光溶液；/n转动轴，设置于所述抛光盆的底部，用于驱动所述抛光盆和所述抛光模转动而使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理并且使得所述抛光溶液流动。/n

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷抛光装置，其特征在于，包括：
抛光盆，用于盛装抛光溶液；
抛光模，用于放置待加工陶瓷，所述抛光模设置于所述抛光盆中；
搅拌棒，用于搅拌所述抛光盆中的所述抛光溶液；
转动轴，设置于所述抛光盆的底部，用于驱动所述抛光盆和所述抛光模转动而使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理并且使得所述抛光溶液流动。


2.根据权利要求1所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述搅拌棒设置于所述抛光盆中。


3.根据权利要求1所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述抛光模包括不锈钢基底和防腐蚀层，所述防腐蚀层包围于所述不锈钢基底的外部。


4.根据权利要求3所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述防腐蚀层由聚氨酯制成。


5.根据权利要求4所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述聚氨酯的表面设置有网格状凹槽。


6.一种陶瓷抛光...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄伟杰，叶慧敏，
申请(专利权)人：江门英讯通光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44