一种RCS测量背景电平对消处理方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种RCS测量背景电平对消处理方法及装置，该方法包括：基于RCS测量系统测量目标区域对应的背景杂波信号；将定标体置于定标支架并进行定标测量，获取第一定标体回波信号；对背景杂波信号进行定标处理，得到定标后背景杂波信号；将待测目标置于目标支架并进行测量，获取目标回波信号；将定标体置于定标支架并进行定标测量，获取第二定标体回波信号；对目标回波信号进行定标处理，得到定标后待测目标回波信号；进行矢量相减，得到背景电平对消后的待测目标RCS结果。本发明专利技术消除了RCS测量系统发射功率和接收增益漂移等因素对背景电平对消效果的影响，背景电平抑制效果好，有利于提高RCS测量精度。于提高RCS测量精度。于提高RCS测量精度。

【技术实现步骤摘要】
一种RCS测量背景电平对消处理方法及装置


[0001]本专利技术涉及RCS测量
，尤其涉及一种RCS测量背景电平对消处理方法及装置。

技术介绍

[0002]在测量目标RCS时，背景杂波与目标回波经常混叠在一起进入接收机，直接影响RCS测量系统的测量能力及测量精度等核心指标性能，为此，需对RCS测量背景电平进行处理。
[0003]目前，通常的背景电平抑制处理方法是：架设目标前，先测量目标区纯背景电平信号S
c
(t)，然后架设目标，测量其回波信号S
t
(t)，两信号相减，S
t
(t)
‑
S
c
(t)，即可得到消除背景电平后的目标回波信号。上述背景电平处理方法，在理论上可以较好地抑制杂波对RCS测量性能影响，但受RCS测量系统发射功率和接收增益漂移影响，实际上对消效果通常有限。因此，需要提供一种不受RCS测量系统发射功率和接收增益漂移影响的背景电平处理方法。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是针对上述至少一部分不足之处，提供一种不受RCS测量系统发射功率和接收增益漂移影响的背景电平处理方法。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术提供了一种RCS测量背景电平对消处理方法，包括如下步骤：
[0006]S1、在同一直线上设置RCS测量系统的天线、定标支架和目标支架，所述目标支架位于目标区域下，用于架设待测目标，所述定标支架用于架设定标体；
[0007]S2、基于RCS测量系统，在不放置待测目标的情况下，测量目标区域对应的背景杂波信号；
[0008]S3、将定标体置于所述定标支架并进行定标测量，获取第一定标体回波信号；
[0009]S4、基于所述第一定标体回波信号对所述背景杂波信号进行定标处理，得到定标后背景杂波信号S1(t)；
[0010]S5、将待测目标置于所述目标支架并进行测量，获取目标区域对应的目标回波信号；
[0011]S6、将所述定标体置于所述定标支架并进行定标测量，获取第二定标体回波信号；
[0012]S7、基于所述第二定标体回波信号对所述目标回波信号进行定标处理，得到定标后待测目标回波信号S2(t)；
[0013]S8、对定标后待测目标回波信号S2(t)和定标后背景杂波信号S1(t)进行矢量相减，得到背景电平对消后的待测目标RCS结果S3(t)。
[0014]优选地，所述步骤S4中，基于所述第一定标体回波信号对所述背景杂波信号进行定标处理，表达式为：
[0015][0016]其中，t表示时间，S
c
(t)表示背景杂波信号，表示第一定标体回波信号，R0表示所述定标支架与RCS测量系统的天线口面之间的距离，R表示目标区域的中心与RCS测量系统的天线口面之间的距离，σ0表示所述定标体的理论RCS值。
[0017]优选地，所述步骤S7中，基于所述第二定标体回波信号对所述目标回波信号进行定标处理，表达式为：
[0018][0019]其中，S
t
(t)表示目标回波信号，表示第二定标体回波信号。
[0020]优选地，所述步骤S8中，对定标后待测目标回波信号S2(t)和定标后背景杂波信号S1(t)进行矢量相减，表达式为：
[0021][0022]优选地，所述定标支架、所述目标支架采用泡沫支架或低散射金属支架。
[0023]优选地，所述定标体采用标准柱或标准球，RCS量级与待测目标RCS的量级相当。
[0024]优选地，所述步骤S1中，依次设置RCS测量系统、定标支架和目标支架时，所述RCS测量系统的天线距地面的高度h
m
、所述定标支架距地面的高度h0，以及所述定标支架与RCS测量系统的天线口面之间的距离R0满足地平场公式：λR0＝4h
m
h0；
[0025]所述RCS测量系统的天线距地面的高度h
m
、所述目标支架距地面的高度h，以及所述目标支架与RCS测量系统的天线口面之间的距离R满足地平场公式：λR＝4h
m
h；
[0026]其中λ为所述RCS测量系统的工作波长。
[0027]本专利技术还提供了一种RCS测量背景电平对消处理装置，包括：
[0028]背景杂波模块，用于获取RCS测量系统在不放置待测目标的情况下，测量得到的目标区域对应的背景杂波信号；
[0029]第一定标模块，用于获取RCS测量系统在放置定标体的情况下，测量得到的第一定标体回波信号；
[0030]第一处理模块，用于基于所述第一定标体回波信号对所述背景杂波信号进行定标处理，得到定标后背景杂波信号S1(t)；
[0031]目标回波模块，用于获取RCS测量系统在放置待测目标的情况下，测量得到的目标区域对应的目标回波信号；
[0032]第二定标模块，用于获取RCS测量系统在放置定标体的情况下，测量得到的第二定标体回波信号；
[0033]第二处理模块，用于基于所述第二定标体回波信号对所述目标回波信号进行定标处理，得到定标后待测目标回波信号S2(t)；
[0034]背景对消模块，用于对定标后待测目标回波信号S2(t)和定标后背景杂波信号S1(t)进行矢量相减，得到背景电平对消后的待测目标RCS结果S3(t)。
[0035]优选地，所述基于所述第一定标体回波信号对所述背景杂波信号进行定标处理，得到定标后背景杂波信号S1(t)，表达式为：
[0036][0037]其中，t表示时间，S
c
(t)表示背景杂波信号，表示第一定标体回波信号，R0表示所述定标支架与RCS测量系统的天线口面之间的距离，R表示目标区域的中心与RCS测量系统的天线口面之间的距离，σ0表示所述定标体的理论RCS值；
[0038]基于所述第二定标体回波信号对所述目标回波信号进行定标处理，得到定标后待测目标回波信号S2(t)，表达式为：
[0039][0040]其中，S
t
(t)表示目标回波信号，表示第二定标体回波信号。
[0041]优选地，所述背景对消模块对定标后待测目标回波信号S2(t)和定标后背景杂波信号S1(t)进行矢量相减，表达式为：
[0042][0043]本专利技术的上述技术方案具有如下优点：本专利技术提供了一种RCS测量背景电平对消处理方法及装置，本专利技术通过对背景杂波和目标回波分别进行定标处理，消除了RCS测量系统发射功率和接收增益漂移的影响，背景电平对消抑制效果好，对弱小目标的RCS测量灵敏度和精度指标性能提升明显。
附图说明
[0044]图1是本专利技术实施例中一种RCS测量背景电平对消处理方法步骤示意图；
[0045]图2是本专利技术实施例中背景杂波测量示意图；
[0046]图3是本专利技术实施例中目标测量示意图；
[0047]图4是本专利技术实施例中一种RCS测量背景电平对消处理装置结构示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种RCS测量背景电平对消处理方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、在同一直线上设置RCS测量系统的天线、定标支架和目标支架，所述目标支架位于目标区域下，用于架设待测目标，所述定标支架用于架设定标体；S2、基于RCS测量系统，在不放置待测目标的情况下，测量目标区域对应的背景杂波信号；S3、将定标体置于所述定标支架并进行定标测量，获取第一定标体回波信号；S4、基于所述第一定标体回波信号对所述背景杂波信号进行定标处理，得到定标后背景杂波信号S1(t)；S5、将待测目标置于所述目标支架并进行测量，获取目标区域对应的目标回波信号；S6、将所述定标体置于所述定标支架并进行定标测量，获取第二定标体回波信号；S7、基于所述第二定标体回波信号对所述目标回波信号进行定标处理，得到定标后待测目标回波信号S2(t)；S8、对定标后待测目标回波信号S2(t)和定标后背景杂波信号S1(t)进行矢量相减，得到背景电平对消后的待测目标RCS结果S3(t)。2.根据权利要求1所述的RCS测量背景电平对消处理方法，其特征在于：所述步骤S4中，基于所述第一定标体回波信号对所述背景杂波信号进行定标处理，表达式为：其中，t表示时间，S
c
(t)表示背景杂波信号，表示第一定标体回波信号，R0表示所述定标支架与RCS测量系统的天线口面之间的距离，R表示目标区域的中心与RCS测量系统的天线口面之间的距离，σ0表示所述定标体的理论RCS值。3.根据权利要求2所述的RCS测量背景电平对消处理方法，其特征在于：所述步骤S7中，基于所述第二定标体回波信号对所述目标回波信号进行定标处理，表达式为：其中，S
t
(t)表示目标回波信号，表示第二定标体回波信号。4.根据权利要求3所述的RCS测量背景电平对消处理方法，其特征在于：所述步骤S8中，对定标后待测目标回波信号S2(t)和定标后背景杂波信号S1(t)进行矢量相减，表达式为：5.根据权利要求1所述的RCS测量背景电平对消处理方法，其特征在于：所述定标支架、所述目标支架采用泡沫支架或低散射金属支架。6.根据权利要求1所述的RCS测量背景电平对消处理方法，其特征在于：
所述定标体采用标准柱或标准球，RCS量级与待测目标RCS的量级相当。7.根据权利要求1所述的RCS测量背景电平对消处理方法，其特征在于：所述步骤S1中，依次设置RCS测量系统、定标支架和目标支架时，所述RCS测量系...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈小玲，冯孝斌，李熙民，刘胤凯，张达凯，冯雨，王晓，张云，邵景星，苗苗，李万珅，
申请(专利权)人：北京环境特性研究所，
类型：发明
国别省市：