一种用于保护膜涂布的储胶槽制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于保护膜涂布的储胶槽，包括：槽体，槽体上设置有粘胶槽、导流通道、隔板以及进液通道，粘胶槽、导流通道以及进液通道依次连通，隔板设置于粘胶槽与导流通道之间，隔板与槽体之间形成分别连通粘胶槽及导流通道的限流口，导流通道底部均匀分布有多个沉积椎体，相邻两个沉积椎体之间形成用于沉积杂质的沉积空间。本实用新型专利技术的储胶槽在粘胶槽与进液通道之间设置有一导流通道，其中导流通道内设置有多个沉积椎体，利用两个沉积椎体之间形成用于沉积杂质的沉积空间，通过沉积空间对经过导流通道的胶液中的杂质进行阻流沉积，有效防止杂质进入粘胶槽内并由涂布辊带动涂布至基材上，保证产品生产质量。

【技术实现步骤摘要】
一种用于保护膜涂布的储胶槽
本技术涉及基材涂布
，具体涉及一种用于保护膜涂布的储胶槽。
技术介绍
在保护膜生产过程中，需要对基材进行表面上胶，现有技术中，常采用涂布机对基材进行上胶涂布，其中涂布过程中，一般通过涂布辊对基材进行涂布，涂布辊底部浸泡于储胶槽的胶液内，通过旋转，将储胶槽内的胶液带动至基材底部，并通过旋转实现将胶液均匀涂布至基材表面。但是，上述储胶槽上料过程中，由于胶液来料中存在杂质，而杂质进入储料槽后，容易在涂布辊的旋转带动下于储胶槽内翻动，在涂布过程中，杂质容易被涂布辊胶液涂布至基材上，从而影响基材生产的质量。
技术实现思路
为了解决上述保护膜涂布过程中容易将杂质涂布至基材上的技术问题，本技术提供一种对杂质具有沉积功能、涂布质量好的用于保护膜涂布的储胶槽。本技术公开的一种用于保护膜涂布的储胶槽，包括：槽体，槽体上设置有粘胶槽、导流通道、隔板以及进液通道，粘胶槽、导流通道以及进液通道依次连通，隔板设置于粘胶槽与导流通道之间，隔板与槽体之间形成分别连通粘胶槽及导流通道的限流口，导流通道底部均匀分布有多个沉积椎体，相邻两个沉积椎体之间形成用于沉积杂质的沉积空间。根据本技术的一实施方式，沉积椎体具有相对设置的导流面以及阻流面，导流面朝向胶液输送方向设置，阻流面朝向胶液输送反方向设置。根据本技术的一实施方式，隔板顶部均匀分布有多个沉积槽。根据本技术的一实施方式，沉积槽延伸方向与涂布辊旋转方向相切。根据本技术的一实施方式，储胶槽还包括：设置于导流通道与进液通道之间的缓存槽，缓存槽水平高度大于隔板水平高度。根据本技术的一实施方式，储胶槽还包括：设置于粘胶槽内的刮胶板以及驱动刮胶板于粘胶槽内往返移动的刮胶驱动气缸，刮胶板底部与隔板顶部齐平。根据本技术的一实施方式，刮胶板为网状结构。本技术的储胶槽在粘胶槽与进液通道之间设置有一导流通道，其中导流通道内设置有多个沉积椎体，利用两个沉积椎体之间形成用于沉积杂质的沉积空间，通过沉积空间对经过导流通道的胶液中的杂质进行阻流沉积，有效防止杂质进入粘胶槽内并由涂布辊带动涂布至基材上，保证产品生产质量，并且粘胶槽与导流通道之间设置隔板，隔板与槽体之间形成分别连通粘胶槽及导流通道的限流口，通过胶液由导流通道经由限流口进入粘胶槽，有效保证粘胶槽进液过程的稳定性。附图说明图1为本技术中用于保护膜涂布的储胶槽的结构示意图。具体实施方式下面将结合具体实施例及附图对本技术用于保护膜涂布的储胶槽作进一步详细描述。请参考图1所示。本技术提供一种用于保护膜涂布的储胶槽，主要包括槽体10，槽体10上设置有粘胶槽101、导流通道102、隔板103以及进液通道104。粘胶槽101、导流通道102以及进液通道104依次连通，隔板103设置于粘胶槽101与导流通道102之间，利用隔板103使得粘胶槽101与导流通道102进行分隔，其中隔板103与槽体10之间形成分别连通粘胶槽101及导流通道102的限流口105。胶液通过进液通道104输入至导流通道102，然后再经由导流通道102经由限流口105输入至粘胶槽101内，涂布机的涂布辊底部位于粘胶槽101内，并且涂布辊底部浸泡在胶液液面下，涂布辊通过旋转带动胶液，并将胶液涂布至基材底部。具体的，导流通道102底部均匀分布有多个沉积椎体106，相邻两个沉积椎体106之间形成用于沉积杂质的沉积空间，胶液通过导流通道102时，沉积椎体106对胶液内的杂质其阻流沉积作用，杂质在沉积椎体106的作用下沉积于沉积空间内，有效防止杂质进入粘胶槽101内。其中沉积椎体106具有相对设置的导流面1061以及阻流面1062，导流面1061朝向胶液输送方向设置，例如导流面1061与导流通道102底部夹角为15~75度，阻流面1062朝向胶液输送反方向设置，例如阻流面1062与导流通道102垂直，通过阻流面1062阻止杂质进一步流动，而胶液顺沿导流面1061继续流动，实现对杂质的阻流沉积效果。进一步的，隔板103顶部均匀分布有多个沉积槽107，其中多个沉积槽107用于对杂质进一步沉积，防止通过导流通道102的胶液仍残留的杂质对产品的涂布质量造成影响。具体的，沉积槽107延伸方向与涂布辊旋转方向相切，杂质在涂布辊旋转带动下沿着涂布辊旋转方向移动，如此一来，使得杂质在隔板103移动时，便于杂质直接进入沉积槽107沉积，并且有效防止杂质脱离沉积槽107，保证沉积效果。进一步的，储胶槽还包括设置于导流通道102与进液通道104之间的缓存槽108，通过缓存槽108对胶液进行缓存，当外部临时停止胶液供应时，缓存槽108内的胶液仍然可对粘胶槽101进行补充，保证粘胶槽101的胶液供给，其中缓存槽108水平高度大于隔板103水平高度，尤其是缓存槽108水平高度大于粘胶槽101正常使用时胶液液面高度，如此一来，保证缓存槽108自动补充至粘胶槽101内的稳定性。又进一步的，储胶槽还包括设置于粘胶槽101内的刮胶板109以及驱动刮胶板109于粘胶槽101内往返移动的刮胶驱动气缸110，其中刮胶板109底部与隔板103顶部齐平，通过刮胶驱动气缸110驱动刮胶板109对隔板103表面进行刮胶，有效使得附着于隔板103表面的杂质进入沉积槽107内进行沉积，从而进一步提升对胶液中杂质成分的沉积效果。具体的，刮胶板109采用网状结构，使得刮胶板109的网状结构可通过胶液但不通过杂质，如此一来，降低刮胶板109对胶液造成的影响，保证涂布辊涂布过程的稳定性。综上所述，本技术的储胶槽在粘胶槽与进液通道之间设置有一导流通道，其中导流通道内设置有多个沉积椎体，利用两个沉积椎体之间形成用于沉积杂质的沉积空间，通过沉积空间对经过导流通道的胶液中的杂质进行阻流沉积，有效防止杂质进入粘胶槽内并由涂布辊带动涂布至基材上，保证产品生产质量，并且粘胶槽与导流通道之间设置隔板，隔板与槽体之间形成分别连通粘胶槽及导流通道的限流口，通过胶液由导流通道经由限流口进入粘胶槽，有效保证粘胶槽进液过程的稳定性。在本技术的描述中，需要理解的是，术语诸如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。虽然对本技术的描述是结合以上具体实施例进行的，但是，熟悉本
的人员能够根据上述的内容进行许多替换、修改和变化、是显而易见的。因此，所有这样的替代、改进和变化都包括在本技术的精神和范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于保护膜涂布的储胶槽，其特征在于，包括：槽体，所述槽体上设置有粘胶槽、导流通道、隔板以及进液通道，所述粘胶槽、导流通道以及进液通道依次连通，所述隔板设置于所述粘胶槽与导流通道之间，所述隔板与所述槽体之间形成分别连通所述粘胶槽及导流通道的限流口，所述导流通道底部均匀分布有多个沉积椎体，相邻两个所述沉积椎体之间形成用于沉积杂质的沉积空间。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于保护膜涂布的储胶槽，其特征在于，包括：槽体，所述槽体上设置有粘胶槽、导流通道、隔板以及进液通道，所述粘胶槽、导流通道以及进液通道依次连通，所述隔板设置于所述粘胶槽与导流通道之间，所述隔板与所述槽体之间形成分别连通所述粘胶槽及导流通道的限流口，所述导流通道底部均匀分布有多个沉积椎体，相邻两个所述沉积椎体之间形成用于沉积杂质的沉积空间。


2.根据权利要求1所述的储胶槽，其特征在于，所述沉积椎体具有相对设置的导流面以及阻流面，所述导流面朝向胶液输送方向设置，所述阻流面朝向胶液输送反方向设置。


3.根据权利要求1所述的储胶槽，其特征在于，所述隔板顶部...

【专利技术属性】
技术研发人员：皇甫后续，
申请(专利权)人：惠州市鑫艺新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44