涂覆组合物制造技术

技术编号:29068219 阅读:25 留言:0更新日期:2021-06-30 09:17
本申请涉及涂覆组合物。本申请的涂覆组合物的组分之间具有优异的相容性。此外,存在由本申请的涂覆组合物形成的离型层对380nm或更大的波长的光具有低的透射率的优势。大的波长的光具有低的透射率的优势。大的波长的光具有低的透射率的优势。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂覆组合物


[0001]本申请要求基于2018年11月30日提交的韩国专利申请第10

2018

0152230号的优先权的权益,其全部内容通过引用并入本文。
[0002]本申请涉及涂覆组合物。

技术介绍

[0003]离型膜被用于多个
中,如液晶显示器的显示单元领域等、涂覆领域或压敏粘合剂领域。离型膜主要用于保护目标制品的表面。这样的离型膜在目标制品等的制造、运输和存储过程中被附着至目标制品上,但是在制造最终制品时,被从目标制品上去除(特别是剥离)。
[0004]特别地,根据最近的技术趋势,压敏粘合剂以半固化状态(所谓的软状态)分布以附着到多种组件上。在此时,压敏粘合剂以压敏粘合片的形式分布,在其一侧上附着重剥离离型膜,在另一侧附着轻剥离离型膜。当使用压敏粘合片将粘合对象物质附着至粘附体时,采用以下方法分离轻剥离离型膜:将暴露的压敏粘合剂附着至粘附体,然后应用重剥离离型膜的分离。其后,还可以通过如紫外线照射的方法使压敏粘合剂最终固化,以将压敏粘合剂固定在粘合对象物质和粘附体之间。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种涂覆组合物,包含:脱模剂;具有79℃至115℃的范围内的沸点的溶剂;以及以下式1的化合物:式1其中R1至R5各自独立地为氢、烷基、

OX1或

NX
12
,而R1至R5中的一者至两者为

OX1或

NX
12
,其中X1为氢或烷基,以及R6和R7各自独立地为氢、氰基、

C(=O)

X2、

C(=O)

O

X2、

O

C(=O)

X2或

NO2,其中X2为烷基或芳基。2.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中式1中的R3为

OX1或

NX
12
。3.根据权利要求2所述的涂覆组合物,其中式1中的R1至R2和R4至R5中的任一者为

OX1。4.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中式1中的R6或R7为氰基、

C(=O)

X2、

C(=O)

O

X2或

O

C(=O)

X2,其中X2为烷基。5.根据权利要求4所述的涂覆组合物,其中式1中的R6或R7为氰基或

C(=O)

O

X2。6.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中式1的所述化合物为以下式2的化合物与以下式3的化合物的反应产物:式2其中,R8至R
12
各自独立地为氢、烷基、

OX3或

NX
32
,而R8至R
12
中的一者至两者为

OX3或

NX
32
,其中X3为氢或烷基:式3
其中,R
13
至R
16
各自独立地为氢、烷基、氰基、

C(=O)

X4、

C(=O)

O

X4、

O

C(=O)

X4或

NO2,而R
13
至R
16
中的至少两者为氢,其中X4为烷基或芳基。7.根据权利要求6所述的涂覆组合物,其中式2中的R
10


OX3或

NX
32
。8.根据权利要求7所述的涂覆组合物,其中式2中的R8至R9和R
11
至R
12
中的任一者为

OX3。9.根据权利要求6所述的涂覆组合物,其中式3中的R
13
至R
16...

【专利技术属性】
技术研发人员:朴埈莹金美仙徐光洙
申请(专利权)人:株式会社LG化学
类型:发明
国别省市:

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