【技术实现步骤摘要】
保护膜、贴附有该保护膜的摄像模组及其组装方法
[0001]本专利技术涉及光学成像
,具体而言,本专利技术涉及一种保护膜、一种贴附有该保护膜的摄像模组及其组装方法,特别是贴附有保护膜的摄像模组的主动校准组装方法。
技术介绍
[0002]摄像模组中的镜头作为成像必备的光学组件,镜头表面质量(诸如表面清洁度等等)直接关系到模组成像的好坏。而保护膜作为镜头的直接防护措施,在产品的周转、运输、生产过程中,对防止镜头划伤和污染起着关键的作用。
[0003]一般而言,在摄像模组完成AA(Active Alignment,主动对准或者说主动校准)工艺后,需要及时地贴附保护膜,以防止镜头受到污染和划伤。
[0004]然而专利技术人发现,在AA工艺过程中便会因为机台落尘/吸嘴吸附等工序造成镜头端面不良和马达落尘问题,这个比例占到不良损耗的0.3-1.5%。专利技术人发现,机台落尘对镜头端面容易造成污染,落尘侵入马达后还会造成内尘影响模组性能。再者,吸嘴会吸附保护膜中的泡棉,由于泡棉本身材质存在孔洞,质地较软,因此吸附过程容易造成泡棉收缩变形,材质易出现损坏,造成镜头污染。据此,由于保护膜的贴附是在马达镜头主动校准之后,主动校准阶段的不良损耗无法避免。
[0005]对于目前常用的PET保护膜,有的PET保护膜透光率≤88%,而模组的制备需要进行测试、烧录等步骤,由于测试时保护膜透光率的影响,会导致模组测试时的色彩,亮度等不准确,因而导致烧录的参数错误,最终影响模组本身的性能。因此,在模组制造行业中往往是在测试 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种保护膜,用于保护摄像模组的镜头,所述保护膜包括:透光层;底胶层;设置在所述透光层与底胶层之间的载体部;其特征在于,所述透光层的透光率设计为,能够满足在摄像模组测试时光学性能参数的允许偏差并进而保证在摄像模组烧录时数据的正确性;所述载体部构造为硬质模制件,用于支承所述透光层,所述载体部和所述底胶层形成有相互对准的通孔作为光线传输通道,所述透光层至少覆盖所述通孔的开口范围。2.如权利要求1所述的保护膜,其特征在于,所述在摄像模组测试时光学性能参数的允许偏差包括处于预定范围之内的色彩偏差和亮度偏差。3.如权利要求2所述的保护膜,其特征在于,所述色彩偏差的范围确定为:在保护膜贴附前后对比,色温差异不超过5%;所述亮度偏差的范围确定为:在保护膜贴附之后,亮度损失在5%以内。4.如权利要求1所述的保护膜,其特征在于,所述透光层为透光率≥98%的高透件。5.如权利要求4所述的保护膜,其特征在于,所述透光层由玻璃、优选超白玻璃制成。6.如权利要求5所述的保护膜,其特征在于,所述玻璃的表面经等离子处理和/或热处理和/或物理处理以降低玻璃表面反射率。7.如权利要求6所述的保护膜,其特征在于,所述玻璃的表面镀覆有增透膜。8.如权利要求4所述的保护膜,其特征在于,所述高透件的上、下表面的平面度在40μm以内。9.如权利要求1所述的保护膜,其特征在于,所述硬质模制件由ABS+PC材料或树脂材料或高分子材料如硅胶通过注塑工艺而制成。10.如权利要求9所述的保护膜,其特征在于,所述硬质模制件的上、下表面的平面度在10μm以内。11.如权利要求1至10之任一项所述的保护膜,其特征在于,所述保护膜还包括设置于所述透光层与所述载体部之间的第一胶层,该第一胶层将所述透光层与所述载体部相粘接。12.如权利要求1至10之任一项所述的保护膜,其特征在于,所述底胶层包括与所述载体部邻接的第二胶层和用于保护膜贴附的硅胶层。13.如权利要求1至10之任一项所述的保护膜,其特征在于,所述保护膜还包括设置于所述透光层与所述载体部之间的麦拉片,所述麦拉片以上表面通过第一胶层与所述透光层粘接、以下表面通过第三胶层与载体部粘接。14.如权利要求1至10之任一项所述的保护膜,其特征在于,所述保护膜还包括附设于所述透光层的手撕把,所述手撕把一体形成在透光层上并从所述透光层的一侧向外延伸。15.如权利要求1至10之任一项所述的保护膜,其特征在于,在所述硬质模制件的上表面构造有沉凹部,所述透光层嵌置在所述沉凹部之内并通过第一胶层粘接于沉凹部的底面,沉凹部的侧壁在透光层周围形成护墙。16.如权利要求15所述的保护膜,其特征在于,所述护墙凸出于嵌置在沉凹部之内的透光层,使得所述透光层的上表面低于所述硬质模制件的上表面。
17.如权利要求16所述的保护膜,其特征在于,所述透光层的上表面比所述硬质模制件的上表面低10-300μm。18.如权利要求15所述的保护膜,其特征在于,在所述沉凹部中沿着该沉凹部底面的外周缘设有溢胶槽。19.如权利要求15所述的保护膜,其特征在于,所述第一胶层由点胶或者双面胶构成。20.如权利要求1至10之任一项所述的保护膜,其特征在于,所述保护膜的外表面设有在借助吸嘴治具转运操作贴有该保护膜的镜头组件时用于吸嘴吸附的区域,所述吸附的区域位于所述硬质模制件外缘与所述通孔之间。21.如权利要求20所述的保护膜,其特征在于,所述吸附的区域具有100-1000μm的吸附宽度。22.如权利要求21所述的保护膜,其特征在于,所述透光层从所述通孔的开口边界向外围延伸至少所述吸附宽度的大小,所述吸附的区域形成于所述透光层的上表面。23.如权利要求21所述的保护膜,其特征在于,所述透光层的外围边界与所述硬质模制件外缘之间的距离至少为所述吸附宽度的大小,而使所述硬质模制件的上表面部分地敞露,所述吸附的区域形...
【专利技术属性】
技术研发人员:王德福,石天龙,陈力,
申请(专利权)人:宁波舜宇光电信息有限公司,
类型:发明
国别省市:
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