【技术实现步骤摘要】
像素结构及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,具体涉及一种像素结构及其制备方法、显示装置。
技术介绍
根据所使用光源的类型和光源的设置方式,液晶显示器可分为透射式液晶显示器、半透射式液晶显示器和反射式液晶显示器。反射式液晶显示器通过反射环境光,或者反射设置于显示面板前方的光源发出的光线来显示画面。现有反射式显示装置在液晶盒内增加反射层,用于对外界光线反射显示,反射层的面积直接决定了反射的亮度,随着反射层面积的增大,反射式显示装置的最大亮度也会提升。然而,由于现有反射式显示装置的像素结构包括间隔区域,间隔区域无法进行光线反射显示,从而影响反射式显示装置的显示效果。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题是,提供一种像素结构及其制备方法、显示装置,以提高显示装置的显示效果。为了解决上述技术问题,本专利技术实施例提供了一种像素结构,包括子像素区域以及围绕所述子像素区域四周的间隔区域,所述间隔区域之上设置有互相断开的像素电极层和反射层。可选地,所述反射层连接有控制模 ...
【技术保护点】
1.一种像素结构,其特征在于,包括子像素区域以及围绕所述子像素区域四周的间隔区域,所述间隔区域之上设置有互相断开的像素电极层和反射层。/n
【技术特征摘要】
1.一种像素结构,其特征在于,包括子像素区域以及围绕所述子像素区域四周的间隔区域,所述间隔区域之上设置有互相断开的像素电极层和反射层。
2.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述反射层连接有控制模块。
3.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述反射层呈网格状。
4.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述间隔区域之上设置有数据线层,所述像素电极层与所述数据线层连接。
5.根据权利要求4所述的像素结构,其特征在于,所述数据线层与所述像素电极层之间叠加设置有第一保护层、阻挡层以及第二保护层,所述第二保护层之上设置有所述像素电极层。
6.根据权利要求5所述的像素结构,其特征在于,所述第二保护层中设置有与所述阻挡层连通的槽体,所述槽体中的阻挡层之上设置有所述反射层。
7.根据权利要求6所述的像素结构,其特征在于,所述阻挡层与所述第二保护层之间设置有过刻层,所述过刻层与所述反射层同层设置,所述过刻层位于所述反射层的外侧,与所述反射层之间设置有间隔。
8.根据权利要求5所述的像素结构,其特征在于,所述阻挡层的宽度大于10um。
9.根据权利要求5所述的像素结构,其特征在于,所述阻挡层为金属材质。
10.根据权利要求5所述的像素结构,其特征在于,所述第二保护层为树脂材质。
11.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:王智勇,宋勇,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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