一种清洗液再生循环装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于化学清洗装置技术领域，尤其为一种清洗液再生循环装置，包括框架，所述框架的内部底端安装有过滤箱，所述过滤箱的左右侧分别连通有进液管和第二管道，所述安装框的内部从左到右依次固定连接有第一过滤板、第二过滤板和第三过滤板，所述第二过滤板和第三过滤板之间填充有过滤棉，所述第三过滤板与安装框的内部右侧之间填充有活性炭，从而达到了对使用后的清洗液再生处理时方便首先对清洗液中的杂质、灰尘细小颗粒以及残留的化学成分过滤后在进入加热冷凝再生的效果，避免使用后的清洗液直接进入蒸馏箱内导致清洗液中的杂质、灰尘细小颗粒以及残留的化学成分残留到蒸馏箱内造成对蒸馏箱内部污染的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗液再生循环装置
本技术涉及化学清洗装置
，具体涉及一种清洗液再生循环装置。
技术介绍
在现有的半导体制造工艺中，当经过刻蚀工艺之后，形成有半导体结构的晶圆表面容易产生杂质和聚合物残留，而这些残留的杂质和聚合物容易对后续的处理工艺造成影响，例如沉积工艺，因此，为了排除这些杂质或聚合物，需要在各工艺步骤之间进行清洗工艺。CN111515188U公开的一种清洗液再生循环装置，对使用后的清洗液再生处理时将使用后的清洗液直接抽入到蒸馏箱内进行蒸馏，进而清洗液直接进入蒸馏箱内导致清洗液中的杂质、灰尘细小颗粒以及残留的化学成分残留到蒸馏箱内造成对蒸馏箱内部污染的问题，并且不便对清洗液中灰尘细小颗粒以及残留的化学成分过滤后在进入加热冷凝再生。
技术实现思路
为解决上述
技术介绍
中提出的问题，本技术提供了一种清洗液再生循环装置，具有对使用后的清洗液再生处理时方便首先对清洗液中的杂质、灰尘细小颗粒以及残留的化学成分过滤后在进入加热冷凝再生，避免使用后的清洗液直接进入蒸馏箱内导致清洗液中的杂质、灰尘细小颗粒以及残留的化学成分残留到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗液再生循环装置，包括框架(1)，所述框架(1)的内部固定连接有横板(101)，所述横板(101)的上端面从左到右依次固定连接有储液箱(203)和冷凝箱(202)，所述储液箱(203)的上端面以及冷凝箱(202)的左侧之间连通有第一管道(204)，所述框架(1)的内部底端固定连接有蒸馏箱(2)，所述蒸馏箱(2)的上端面右侧连通有出气管(201)，所述出气管(201)的另一端贯穿横板(101)并与冷凝箱(202)的上端面连通，其特征在于：所述框架(1)的内部底端安装有过滤箱(3)，所述过滤箱(3)的左右侧分别连通有进液管(402)和第二管道(4)，所述第二管道(4)的另一端与蒸馏箱(2...

【技术特征摘要】
1.一种清洗液再生循环装置，包括框架(1)，所述框架(1)的内部固定连接有横板(101)，所述横板(101)的上端面从左到右依次固定连接有储液箱(203)和冷凝箱(202)，所述储液箱(203)的上端面以及冷凝箱(202)的左侧之间连通有第一管道(204)，所述框架(1)的内部底端固定连接有蒸馏箱(2)，所述蒸馏箱(2)的上端面右侧连通有出气管(201)，所述出气管(201)的另一端贯穿横板(101)并与冷凝箱(202)的上端面连通，其特征在于：所述框架(1)的内部底端安装有过滤箱(3)，所述过滤箱(3)的左右侧分别连通有进液管(402)和第二管道(4)，所述第二管道(4)的另一端与蒸馏箱(2)的上端面左侧连通，所述过滤箱(3)的内部活动连接有安装框(5)，所述安装框(5)的内部从左到右依次固定连接有第一过滤板(501)、第二过滤板(502)和第三过滤板(503)，所述第二过滤板(502)和第三过滤板(503)之间填充有过滤棉(504)，所述第三过滤板(503)与安装框(5)的内部右侧之间填充有活性炭(505)。


2.根据权利要求1所述的一种清洗液再生循环装置，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛弘宇，陈开清，刘兴明，程阳，周建国，
申请(专利权)人：江苏凯威特斯半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32