透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备制造技术

本发明专利技术提供一种透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备。一种透明导电性膜，是在透明膜的单面即I面，层叠硬涂层、在相反面即II面，层叠高折射率层及透明导电层而成，所述透明导电性膜中，所述硬涂层是包含含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)的成膜性成分、金属氧化物(B)及光聚合引发剂(C)的硬涂剂的硬化物，并且所述硬涂层的表面粗糙度Ra小于1.5nm，将在膜厚100μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜上使用所述硬涂剂形成有膜厚2μm的硬涂层的10cm×10cm的正方形的试验片在形成所述硬涂层后30分钟以内，在100℃的环境下，静置1分钟，此时的所述试验片的四角的卷曲浮动高度的平均为10mm以下。

【技术实现步骤摘要】
透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备
本专利技术涉及一种使用特定的硬涂剂而成的透明导电性膜、图案形成透明导电性膜、光学构件及电子设备。
技术介绍
在结晶性透明膜上涂敷高折射率涂料来制作高折射率层(折射率为1.55～1.90)后，通过溅射等方法在所述高折射率层上使形成透明导电层的材料均匀地成膜而成的透明导电性膜通过其后将透明导电层进一步图案化成所期望的形状而用作触摸屏等显示装置的电极材料。作为形成透明导电层的材料，由于可见光透射率高、表面电阻值相对低且环境特性优异的方面，因此广泛使用以铟系氧化物即氧化铟锡(以下，称为ITO(indiumtinoxide))、或包含银或铜的纳米线为主成分的材料。制造透明导电性膜时或使用透明导电性膜制造光学构件时，工业上高速搬送长条的透明导电性膜，或将长条的透明导电性膜卷取成辊状，或将卷取的辊松开。在此种搬送步骤或卷取步骤、松卷步骤中，若透明导电层与结晶性透明膜的未设置有透明导电层的面(与透明导电层接触)的接触面积过大，则会发生粘连。若抵抗粘连进行搬送、或进行卷取、或松开，则存在透明导电层受到损伤的问题。为了解决所述问题，提出了在透明膜的未设置有透明导电层的面上形成用于防止粘连的硬涂层(专利文献1等)。在专利文献1中公开了一种紫外线硬化型抗粘连硬涂树脂组合物，其包含(A)具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的环氧烷改性(甲基)丙烯酸酯单体、(B)具有6个以上的(甲基)丙烯酰基的多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、(C)平均一次粒径为5nm～20nm且平均二次粒径为100nm～300nm的二氧化硅粒子以及(D)光聚合引发剂。另外，在专利文献2中公开了一种活性能量射线硬化型组合物，其为了对环状烯烃系树脂基材赋予优异的耐擦伤性及基材密接性，而包含(A)不饱和基当量为110以上且小于600、重量平均分子量为600～6,000的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、(B)二苯甲酮系引发剂和/或硫杂蒽酮系引发剂、以及(C)平均一次粒径为1nm～200nm的二氧化硅粒子。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2017-226787号公报[专利文献2]日本专利特开2018-203887号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]然而，就生产率、经济性的观点而言，所述长条的透明导电性膜近年来有越来越长条化的倾向。其原因在于，通过制作更长的透明导电性膜，可减少各步骤的准备所需的时间在整个生产时间中所占的比例，或减少卷绕开始、卷绕结束的引线部分(最终无法使用的部分)在制品整体中所占的比例。但是，由于透明导电性膜变得更长，从而对靠近卷芯的部分施加过大的负荷，因此对于防粘连用的硬涂层，要求充分的硬度以免硬涂层自身受损，并且要求硬涂层的表面不会损伤结晶性透明膜的表面或透明导电层的表面。此外，响应对于电子设备的小型化、轻量化的要求，对构成电子设备的光学构件也同样要求小型化、轻量化，对构成所述光学构件的透明导电性膜、及构成所述透明导电性膜的支撑体、高折射率层的薄膜化的要求不断提高。但是，因若支撑体变薄则防粘连用的硬涂层的硬化收缩，设置高折射率层、透明导电层之前的中间体会显著卷曲。高折射率层、透明导电层是隔着支撑体设置在防粘连用的硬涂层的相反侧的层，若所述中间体卷曲，则难以形成均匀的高折射率层、透明导电层。或者，即使在将所述中间体拉伸等而使中间体平坦的同时，形成高折射率层、透明导电层，对于形成高折射率层、透明导电层后的透明导电性膜的硬涂层而言，硬化收缩的影响也会大量残留。另外，在变更层叠顺序，而在支撑体上先层叠高折射率层、透明导电层，其后在支撑体的相反面(未设置有高折射率层、透明导电层的面)上使防粘连用的硬涂层成膜的情况下，若硬涂层的硬化收缩大，则先设置的高折射率层、透明导电层受到硬涂层的硬化收缩的影响而收缩，均匀性受损，存在容易发生组装后的触摸传感功能产生动作不良等不良情况的问题。专利文献1、专利文献2中所公开的硬涂层由于其表面粗糙度Ra大，因此存在损伤高折射率层的表面、透明导电层的表面的问题。高折射率层、透明导电层的表面的损伤不仅会成为损害透明性的原因，而且有损害电稳定性之虞。另外，专利文献1、专利文献2中所公开的硬涂层也存在容易卷曲的问题。本专利技术的目的在于提供一种透明导电性膜，隔着作为支撑体的透明膜，具有表面粗糙度小、不易卷曲且足够硬的硬涂层、以及与所述硬涂层为相反侧的高折射率层以及透明导电层。[解决问题的技术手段]本专利技术的一实施方式涉及一种透明导电性膜，其是在透明膜的单面(I面)层叠硬涂层、在相反面(II面)层叠高折射率层及透明导电层而成，所述透明导电性膜中，所述硬涂层是包含含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)的成膜性成分、金属氧化物(B)及光聚合引发剂(C)的硬涂剂的硬化物，并且所述硬涂层的表面粗糙度Ra小于1.5nm，将在膜厚100μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜上使用所述硬涂剂形成有膜厚2μm的硬涂层的10cm×10cm的正方形的试验片在成膜所述硬涂层后30分钟以内，在100℃的环境下，静置1分钟，此时的所述试验片的四角的卷曲浮动高度的平均为10mm以下。另外，本专利技术的另一实施方式涉及一种图案形成透明导电性膜，其是将所述透明导电性膜的透明导电层图案化而成。另外，本专利技术的另一实施方式涉及一种光学构件，包括所述图案形成透明导电性膜。另外，本专利技术的另一实施方式涉及一种电子设备，包括所述光学构件。[专利技术的效果]根据本专利技术的实施方式，可提供一种透明导电性膜，隔着作为支撑体的透明膜，具有表面粗糙度小、不易卷曲且足够硬的硬涂层、以及与所述硬涂层为相反侧的高折射率层以及透明导电层。进而，通过使用包含含羟基的溶剂的硬涂剂，可快速地去除搅拌时产生的气泡。由此，在步骤方面，能够在搅拌后立即涂敷，并且，可大幅度地减少由气泡引起的涂膜缺损，提高良率。具体实施方式《透明导电性膜》本专利技术的实施方式的透明导电性膜是在透明膜的单面(I面)层叠硬涂层、在透明膜的相反面(II面)层叠高折射率层及透明导电层而成。此外，也将所述透明导电性膜称为透明导电性膜α。1.硬涂层本专利技术的实施方式的硬涂层是以下所说明的硬涂剂的硬化物。硬涂层的表面粗糙度(Ra)小于1.5nm，进而小于0.1nm～1.5nm。所谓表面粗糙度(Ra)表示日本工业标准(JapaneseIndustrialStandards，JIS)B0601、JISB0031所定义的算术平均粗糙度。[[硬涂剂]]用以形成本专利技术的实施方式的硬涂层的硬涂剂至少包含含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)的成膜性成分、金属氧化物(B)及光聚合引发剂(C)。[成膜性成分]成膜性成分至少包含以下所说明的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)。成膜性成分例如也可包含后述的具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与聚异氰酸酯的反应生成物。以下，也将所述反应生成物记本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明导电性膜，其是在透明膜的单面层叠硬涂层、在相反面层叠高折射率层及透明导电层而成，所述透明导电性膜中，/n所述硬涂层是包含含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的成膜性成分、金属氧化物、及光聚合引发剂的硬涂剂的硬化物，并且所述硬涂层的表面粗糙度小于1.5nm，/n将在膜厚100μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜上使用所述硬涂剂形成有膜厚2μm的硬涂层的10cm×10cm的正方形的试验片在形成所述硬涂层后30分钟以内，在100℃的环境下，静置1分钟，此时的所述试验片的四角的卷曲浮动高度的平均为10mm以下。/n

【技术特征摘要】
20191212 JP 2019-2247651.一种透明导电性膜，其是在透明膜的单面层叠硬涂层、在相反面层叠高折射率层及透明导电层而成，所述透明导电性膜中，
所述硬涂层是包含含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的成膜性成分、金属氧化物、及光聚合引发剂的硬涂剂的硬化物，并且所述硬涂层的表面粗糙度小于1.5nm，
将在膜厚100μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜上使用所述硬涂剂形成有膜厚2μm的硬涂层的10cm×10cm的正方形的试验片在形成所述硬涂层后30分钟以内，在100℃的环境下，静置1分钟，此时的所述试验片的四角的卷曲浮动高度的平均为10mm以下。


2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述成膜性成分平均具有3个～10个(甲基)丙烯酰基。


3.根据权利要求1或2所述的透明导电性膜，其中，所述成膜性成分包含具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与聚异氰酸酯的反应生成物，
在所述聚异氰酸酯为具有2个异氰酸酯基的二异氰酸酯时，异氰酸酯基/羟基的比为0.2～0.7，
在所述聚异氰酸酯为具有3个异氰酸酯基的三异氰酸酯时，异氰酸酯基/羟基的比为0.1～0.4。


4.根据权利要求1或2所述的透明导电性膜，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：清野数马，早川友浩，
申请(专利权)人：东洋油墨SC控股株式会社，东洋科美株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP