指纹识别装置制造方法及图纸

一种指纹识别装置，包括：基底；红外光源，位于所述基底上；光学传感器，位于所述基底上，与所述红外光源具有间距；显示屏，所述显示屏具有相对的触摸面及背面，所述显示屏位于所述基底上方，所述背面朝向所述基底，所述背面包括覆盖区及暴露区，所述红外光源朝向所述背面的投影位于所述覆盖区内，所述光学传感器朝向所述背面的投影位于所述暴露区内；内反射吸收片，位于所述背面上且覆盖所述覆盖区，所述内反射吸收片露出所述暴露区。所述指纹识别装置有助于改善指纹成像质量。

【技术实现步骤摘要】
指纹识别装置
本技术涉及指纹识别
，尤其涉及一种指纹识别装置。
技术介绍
指纹识别装置可实现指纹自动采集，广泛应用于考勤机、门禁、手机或者平板电脑等设备上。按指纹成像原理，指纹识别装置可分为光学指纹识别装置、半导体电容识别装置、半导体热敏识别装置、半导体压感识别装置等。其中，光学指纹识别装置主要是利用光的折射和反射原理，光源射出的光线在手指表面指纹凹凸不平的线纹上折射的角度及反射回去的光线明暗不同，光学传感器相应会收集到不同明暗程度的图片信息，从而完成指纹的采集。光学指纹识别装置具有较强的环境适应性及良好的稳定性，且生产成本低，因而光学指纹识别装置应用较为广泛。但是，现有光学指纹识别装置仍有待改进。
技术实现思路
本技术解决的问题是提供一种指纹识别装置，有助于改善指纹成像质量。为解决上述问题，本技术提供一种指纹识别装置，包括：基底；红外光源，位于所述基底上；光学传感器，位于所述基底上，与所述红外光源具有间距；显示屏，所述显示屏具有相对的触摸面及背面，所述显示屏位于所述基底上方，所述背本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种指纹识别装置，其特征在于，包括：/n基底；/n红外光源，位于所述基底上；/n光学传感器，位于所述基底上，与所述红外光源具有间距；/n显示屏，所述显示屏具有相对的触摸面及背面，所述显示屏位于所述基底上方，所述背面朝向所述基底，所述背面包括覆盖区及暴露区，所述红外光源朝向所述背面的投影位于所述覆盖区内，所述光学传感器朝向所述背面的投影位于所述暴露区内；/n内反射吸收片，位于所述背面上且覆盖所述覆盖区，所述内反射吸收片露出所述暴露区。/n

【技术特征摘要】
1.一种指纹识别装置，其特征在于，包括：
基底；
红外光源，位于所述基底上；
光学传感器，位于所述基底上，与所述红外光源具有间距；
显示屏，所述显示屏具有相对的触摸面及背面，所述显示屏位于所述基底上方，所述背面朝向所述基底，所述背面包括覆盖区及暴露区，所述红外光源朝向所述背面的投影位于所述覆盖区内，所述光学传感器朝向所述背面的投影位于所述暴露区内；
内反射吸收片，位于所述背面上且覆盖所述覆盖区，所述内反射吸收片露出所述暴露区。


2.如权利要求1所述的指纹识别装置，其特征在于，所述内反射吸收片包括：线性偏光片及位于所述线性偏光片上的1/4波片，所述1/4波片位于所述背面与所述线性偏光片之间。


3.如权利要求2所述的指纹识别装置，其特征在于，所述1/4波片的光轴方向与所述线性偏光片的选择方向的夹角为45°。


4.如权利要求2所述的指纹识别装置，其特征在于，所述内反射吸收片还包括：胶层，所述胶层位于所述线性偏光片与所述1/4波片之间。


5.如权利要求2所述的指纹识别装置，其特征在于，所述线性偏光片包括核心材料层、第一保护层及第二保护层，所述核心材料层位于所述第一保护层及所述第二保护层之间。


6.如权利要求5所述的指纹识别装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：凌严，朱虹，
申请(专利权)人：上海箩箕技术有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31