一种低清洗残留磁珠及其制备方法技术

技术编号:28927939 阅读:13 留言:0更新日期:2021-06-18 21:24
本发明专利技术属于电化学检测材料技术领域,具体涉及一种低清洗残留磁珠及其制备方法。该磁珠是由羟基和炔基表面修饰的磁珠与三[(1‑苄基‑1H‑1,2,3‑三唑‑4‑基)甲基]胺‑铜(I)络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素进行反应制得。本发明专利技术的有益效果是:本发明专利技术通过先对氨基磁珠表面进行羟基和炔基的修饰;然后将三[(1‑苄基‑1H‑1,2,3‑三唑‑4‑基)甲基]胺‑铜(I)络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素对氨基磁珠进行进一步表面修饰,制得一种低清洗残留磁珠,有效降低了磁珠在电极表面的残留,可以更容易被清洗液洗去。

【技术实现步骤摘要】
一种低清洗残留磁珠及其制备方法
本专利技术属于电化学检测材料
,具体涉及一种低清洗残留磁珠及其制备方法。
技术介绍
磁珠是发展起来的一项新的免疫学技术,它将固化试剂特有的优点与免疫学反应的高度特异性结合于一体,以免疫学为基础,渗透到病理、生理、药理、微生物、生化以及分子遗传学等各个领域,其在免疫检测、细胞分离、生物大分子纯化和分子生物学等方面得到了越来越广泛的应用。在使用磁珠进行的电化学发光检测中,通电之后磁珠在电极表面发生氧化还原反应。在这一过程中,会导致电极表面和磁珠表面产生电磁相互作用,从而使得磁珠吸附在电极表面,导致检测后不易从电极表面清洗干净。残余磁珠使得检测背景增高,降低了仪器的检出限。
技术实现思路
针对
技术介绍
中存在的技术问题,本专利技术一目的在于提供一种低清洗残留磁珠,有效降低磁珠在电极表面残留。本专利技术另一目的在于提供一种低清洗残留磁珠的制备方法。实现本专利技术一目的而采用的技术方案为:一种低清洗残留磁珠,其化学结构简式如下:其中,SA为蛋白质分子链霉亲和素。优选的,本专利技术所述磁珠是由羟基和炔基表面修饰的磁珠与三[(1-苄基-1H-1,2,3-三唑-4-基)甲基]胺-铜(I)络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素进行反应制得。更优选地,本专利技术所述羟基和炔基表面修饰的磁珠是由氨基磁珠与活化酯混合物进行反应制得,所述活化酯混合物是由5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸、4-戊炔酸、二环己基碳二亚胺和、N-羟基丁二酰亚胺和DMF反应制得。进一步优选地,本专利技术所述氨基磁珠与活化酯混合物进行反应具体步骤为:1)将5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸和4-戊炔酸置于反应管中,加入二环己基碳二亚胺和N-羟基丁二酰亚胺和DMF,进行反应得到活化酯混合物,其中,所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸、4-戊炔酸、二环己基碳二亚胺和、N-羟基丁二酰亚胺和DMF的质量体积比为50mg:25mg:25mg:13mg:1mL;2)向氨基磁珠中加入所制得的活化酯混合物,室温下震荡反应,然后加入质量百分含量10%TFA的DMF溶液,得到羟基和炔基表面修饰的磁珠。进一步优选地,本专利技术所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸,其由如下步骤制得:1)制备第一反应溶液,向5-羟基戊酸苄酯溶液中加入4,4'-二甲氧基三苯基氯甲烷、4-二甲氨基吡啶,在氩气保护下进行反应,得到所述第一反应溶液;2)制备有机产物,将步骤1)所述第一反应溶液进行分离后得到的有机相进行洗涤干燥,得到所述有机产物;3)制备第二反应溶液,向所述有机产物中加入乙酸乙酯、三乙胺和催化剂Pd/C,通入氢气后进行反应,得到所述第二反应溶液;4)将所述第二反应溶液进行过滤、真空除去溶剂后,制得5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸。进一步优选地,本专利技术所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸的结构式为:;所述有机产物的结构式为:。进一步优选地,本专利技术所述的叠氮化合物标记的链霉亲和素是由链霉亲和素和5-叠氮戊酸的N-羟基丁二酰亚胺酯进行震荡反应后纯化制得,所述5-叠氮戊酸的N-羟基丁二酰亚胺酯由5-叠氮戊酸、二环己基碳二亚胺和N-羟基丁二酰亚胺和DMF进行反应制得,其中,所述的5-叠氮戊酸、二环己基碳二亚胺、N-羟基丁二酰亚胺和DMF的质量体积比为14.3mg:25mg:13mg:1mL。实现本专利技术另一目的而采用的技术方案为:一种低清洗残留磁珠的制备方法,其包括制备步骤:1)活化酯混合物的制备将5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸和4-戊炔酸置于反应管中,加入二环己基碳二亚胺和N-羟基丁二酰亚胺和DMF,室温下进行反应得到活化酯的混合物,其中,所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸、4-戊炔酸、二环己基碳二亚胺和、N-羟基丁二酰亚胺和DMF的质量体积比为50mg:25mg:25mg:13mg:1mL2)磁珠表面进行羟基和炔基的修饰向氨基磁珠中加入步骤1)所制得的活化酯混合物,室温下震荡反应,然后加入质量百分含量10%TFA的DMF溶液,得到羟基和炔基表面修饰的磁珠;3)低清洗残留磁珠的制备将步骤2)制得的羟基和炔基表面修饰的磁珠与三[(1-苄基-1H-1,2,3-三唑-4-基)甲基]胺-铜(I)络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素进行反应。本专利技术的有益效果是,本专利技术通过先对氨基磁珠表面进行羟基和炔基的修饰;然后将三[(1-苄基-1H-1,2,3-三唑-4-基)甲基]胺-铜(I)络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素对氨基磁珠进行进一步表面修饰,制得一种低清洗残留磁珠,有效降低磁珠在电极表面的残留,可以更容易被清洗液洗去。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。为了减少化学发光后,电极表面的磁珠残留,本专利技术提供了一种低清洗残留磁珠,其化学结构简式如下:其中,SA为蛋白质分子链霉亲和素。同时,本专利技术提供了一种低清洗残留磁珠的制备方法,其包括制备步骤:1)活化酯混合物的制备将5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸和4-戊炔酸置于反应管中,加入二环己基碳二亚胺和N-羟基丁二酰亚胺和DMF,室温下进行反应得到活化酯的混合物,其中,所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸、4-戊炔酸、二环己基碳二亚胺和、N-羟基丁二酰亚胺和DMF的质量体积比为50mg:25mg:25mg:13mg:1mL2)磁珠表面进行羟基和炔基的修饰向氨基磁珠中加入步骤1)所制得的活化酯混合物,室温下震荡反应,然后加入质量百分含量10%TFA的DMF溶液,得到羟基和炔基表面修饰的磁珠;3)低清洗残留磁珠的制备将步骤2)制得的羟基和炔基表面修饰的磁珠与三[(1-苄基-1H-1,2,3-三唑-4-基)甲基]胺-铜(I)络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素进行反应。优选地,本专利技术所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸,其由如下步骤制得:1)制备第一反应溶液,向5-羟基戊酸苄酯溶液中加入4,4'-二甲氧基三苯基氯甲烷、4-二甲氨基吡啶,在氩气保护下进行反应,得到所述第一反应溶液;2)制备有机产物,将步骤1)所述第一反应溶液进行分离后得到的有机相进行洗涤干燥,得到所述有机产物;3)制备第二反应溶液,向所述有机产物中加入乙酸乙酯、三乙胺和催化剂Pd/C,通入氢气后进行反应,得到所述第二反应溶液;4)将所述第二反应溶液进行过滤、真空除去溶剂后,制得5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低清洗残留磁珠,其特征在于:其化学结构简式如下:/n

【技术特征摘要】
1.一种低清洗残留磁珠,其特征在于:其化学结构简式如下:



其中,SA为蛋白质分子链霉亲和素。


2.根据权利要求1所述的低清洗残留磁珠,其特征在于:所述磁珠是由羟基和炔基表面修饰的磁珠与三[(1-苄基-1H-1,2,3-三唑-4-基)甲基]胺-铜(I)络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素进行反应制得。


3.根据权利要求2所述的低清洗残留磁珠,其特征在于:所述羟基和炔基表面修饰的磁珠是由氨基磁珠与活化酯混合物进行反应制得,所述活化酯混合物是由5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸、4-戊炔酸、二环己基碳二亚胺和、N-羟基丁二酰亚胺和DMF反应制得。


4.根据权利要求3所述的低清洗残留磁珠,其特征在于:所述氨基磁珠与活化酯混合物进行反应具体步骤为:1)将5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸和4-戊炔酸置于反应管中,加入二环己基碳二亚胺和N-羟基丁二酰亚胺和DMF,进行反应得到活化酯混合物,其中,所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸、4-戊炔酸、二环己基碳二亚胺和、N-羟基丁二酰亚胺和DMF的质量体积比为50mg:25mg:25mg:13mg:1mL;2)向氨基磁珠中加入所制得的活化酯混合物,室温下震荡反应,然后加入TFA的DMF溶液,得到羟基和炔基表面修饰的磁珠。


5.根据权利要求4所述的低清洗残留磁珠,其特征在于:所述的5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸,其由如下步骤制得:
1)制备第一反应溶液,向5-羟基戊酸苄酯溶液中加入4,4'-二甲氧基三苯基氯甲烷、4-二甲氨基吡啶,在氩气保护下进行反应,得到所述第一反应溶液;
2)制备有机产物,将步骤1)所述第一反应溶液进行分离后得到的有机相进行洗涤干燥,得到所述有机产物;
3)制备第二反应溶液,向所述有机产物中加入乙酸乙酯、三乙胺和催化剂Pd/C,通入氢气后进行反应,得到所述第二反应溶液;
4)将所述第二反应溶液进行过滤、真空除去溶剂后,制得5-(4,4'-二甲氧基三苯基甲氧基)-戊酸。


6.根据权利要求5所述的低清洗残留磁珠,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨志伟刘铮胡春苗
申请(专利权)人:江苏集萃分子工程研究院有限公司苏州易莱生物技术有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1