【技术实现步骤摘要】
抛光垫即时整修方法
本专利技术涉及一种抛光垫即时整修方法，尤指利用表面形貌从建来对化学机械研磨装置中的抛光垫进行整修的方法
技术介绍
化学机械研磨装置是结合了化学和机械抛光的原理，以达成对高度复合材料时，可以够均匀地进行抛光加工，而化学机械研磨装置的抛光垫在使用一段时间后，必须进行表面修整，以维持抛光垫的研磨能力，现有的整修抛光垫方式，是依据抛光垫厂商所给使用寿限，或是使用者的经验判断进行整修与更换，一般来说，是固定抛光垫使用一定时间后，以整修器对抛光垫整修一定的沟槽深度，然而，不同研磨制程所造成抛光垫损耗的状况不同，若抛光垫的损耗较低，则抛光垫会有的浪费问题产生，若抛光垫的损耗较高，则会发生整修厚度不足的问题。是以，要如何解决上述现有的问题与缺失，即为相关业者所亟欲研发的课题所在。
技术实现思路
本专利技术的主要目的乃在于，利用检测对抛光垫表面形貌进行重建，并依据重建进行分析，以确保抛光垫表面经整修后能恢复其功效，且不会有抛光垫厚度的浪费，进而让抛光垫可有效的利用，节省使用成本。为达上述...
【技术保护点】
1.一种抛光垫即时整修方法，其特征在于，包含有：/n修整步骤：抛光垫依基座旋转，使修整器抵压于抛光垫表面，并朝向抛光垫内侧或外侧位移，对抛光垫表面进行修整；/n检测步骤：抛光垫保持旋转，检测装置于抛光垫上方朝向抛光垫内侧或外侧位移，让检测装置持续地对抛光垫进行检测，并将检测资料传送至主机端；/n重建与分析步骤：主机端依据检测装置所传送的检测资料进行抛光垫表面形貌重建，再根据形貌重建的结果进行分析。/n
【技术特征摘要】
1.一种抛光垫即时整修方法，其特征在于，包含有：
修整步骤：抛光垫依基座旋转，使修整器抵压于抛光垫表面，并朝向抛光垫内侧或外侧位移，对抛光垫表面进行修整；
检测步骤：抛光垫保持旋转，检测装置于抛光垫上方朝向抛光垫内侧或外侧位移，让检测装置持续地对抛光垫进行检测，并将检测资料传送至主机端；
重建与分析步骤：主机端依据检测装置所传送的检测资料进行抛光垫表面形貌重建，再根据形貌重建的结果进行分析。
2.如权利要求1所述的抛光垫即时整修方法，其特征在于：该重建与分析步骤中的主机端根据形貌重建的结果进行的分析，为抛光垫表面粗糙度分析，当粗糙度分析结果为不足时，则使抛光垫再次进行修整步骤以及检测步骤，直到重建与分析步骤分析出抛光垫表面粗糙度足够为止。
3.如权利要求1所述的抛光垫即时整修方法，其特征在于：该重建与分析步骤中的主机端根据形貌重建的结果进行的分析，为抛光垫沟槽深度分析，当沟槽深度分析结果为不足时，则发出更换抛光垫的讯息。
4.如权利要求1所述的抛光垫即时整修方法，其特征在于：该检测装置，具有用以检测抛光垫表面的检测器，以及利用气体喷注让抛光液层产生隔离...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈炤彰，林建宪，陈俊臣，李人杰，王仲伟，傅彦绮，
申请(专利权)人：大量科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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